Un dispositivo de visualización de plasma, que comprende: una pantalla de visualización de plasma;

un filtro de interferencia electromagnética (EMI) (148) proporcionado en una parte frontal de la pantalla de visualización de plasma, incluyendo el filtro EMI un recubrimiento conductor transparente (TCC) multicapa que incluye plata soportado por una superficie interior de un sustrato de vidrio (142); un marco interior de frita negra (144) dispuesto alrededor de una parte del sustrato de vidrio (142) que corresponde a una parte visible (150) de la pantalla de visualización de plasma; y un marco exterior de frita de plata (146) dispuesto alrededor del marco interior de frita negra (144) en la periferia del sustrato de vidrio (142), en el que el TCC se proporciona más cerca del sustrato de vidrio (142) que los marcos de frita interior (144) y exterior (146), y en el que el marco interior de frita negra (144) es no conductor y el marco exterior de frita de plata (146) es conductor.

Pantalla de visualización de plasma que incluye un filtro emi de tcc, y/o procedimiento para fabricar la misma CAMPO DE LA INVENCIÓN

Determinadas formas de realización de ejemplo de esta invención se refieren a una pantalla de visualización de plasma (PDP) que incluye un filtro soportado por un sustrato de vidrio para bloquear/apantallar cantidades considerables de ondas electromagnéticas, siendo el filtro soportado por un lado del sustrato opuesto a un observador. En determinadas formas de realización de ejemplo, una frita negra y una frita de plata comprenden un marco de filtro y son soportados por el filtro de manera que el filtro esté más cerca del sustrato de vidrio que una o ambas fritas. Ventajosamente, un recubrimiento conductor transparente (TCC) puede ser recubierto en una lámina de vidrio no cortada de stock, siendo cortada la lámina de vidrio más tarde a un tamaño adecuado. El filtro tiene una transmisión visible alta, y es capaz de bloquear/apantallar las ondas electromagnéticas. Determinadas formas de realización de ejemplo de esta invención también proporcionan procedimientos para fabricar la misma.

ANTECEDENTES Y RESUMEN DE LAS FORMAS DE REALIZACIÓN DE EJEMPLO DE LA INVENCIÓN

Los dispositivos de visualización de imágenes se utilizan ampliamente en una variedad de aplicaciones, que incluyen pantallas de televisión, monitores de ordenadores personales, etc. La pantalla de visualización de plasma (PDP) está ganando popularidad como dispositivo de visualización de nueva generación para reemplazar las CRT porque una PDP es fina y puede fabricarse fácilmente una pantalla grande con una pluralidad de unidades. Una PDP incluye una pantalla de visualización de plasma en la que se muestra una imagen utilizando un fenómeno de descarga de gas, y muestra unas capacidades de visualización superiores, que incluyen gran capacidad de visualización, gran brillo, gran contraste, clara imagen latente, amplio ángulo de visión, etc. En un dispositivo PDP, cuando se aplica a los electrodos una tensión de corriente continua (CC) o de corriente alterna (CA) , se crea una descarga de plasma de gas, resultando en una emisión de luz ultravioleta (UV) . La emisión UV excita los materiales de fósforo adyacentes, resultando en una emisión electromagnética de luz visible. A pesar de las ventajas anteriormente indicadas, las PDPs se enfrentan a varios retos asociados con las características motrices, que incluyen un aumento en la radiación de ondas electromagnéticas, emisión en el infrarrojo cercano, y reflexión de la superficie de fósforo, y una pureza de color enturbiada debido a la luz naranja emitida por el helio (He) , el neón, o el xenón (Xe) utilizados como gas de sellado.

Algunos creen que las ondas electromagnéticas y los rayos en el infrarrojo cercano generados en las PDPs pueden perjudicar al cuerpo humano y causar un mal funcionamiento de las máquinas de precisión como los teléfonos inalámbricos o los mandos a distancia (p. ej., véase U.S. 2006/0083938) . Estas ondas, individualmente o colectivamente, pueden denominarse interferencias electromagnéticas (EMI) . De esta manera, para hacer uso de tales PDPs, existe un deseo de reducir las ondas electromagnéticas y los rayos en el infrarrojo cercano (IR o NIR) emitidos por las PDPs hasta un nivel predeterminado o menor. A este respecto, se han propuesto diversos filtros para PDP para apantallar las ondas electromagnéticas o los rayos en el infrarrojo cercano emitidos desde las PDPs, reducir la reflexión de la luz y/o mejorar la pureza del color. También es necesario que los filtros para PDP propuestos satisfagan los requisitos de transmitancia porque los filtros se instalan sobre una superficie frontal de cada una de las PDPs.

Para reducir las ondas electromagnéticas y las ondas NIR emitidas desde las pantallas de visualización de plasma hasta un nivel predeterminado o menor, se han utilizado diversos filtros para PDP con el objeto de, por ejemplo, apantallar las ondas electromagnéticas o NIR emitidas desde las PDPs, reducir la reflexión de la luz y/o mejorar la pureza del color. Se necesita una alta transmitancia para tales filtros porque generalmente se aplican a la superficie frontal de las PDPs. Los filtros de apantallamiento de las ondas electromagnéticas que satisfacen tales necesidades y características se clasifican en un filtro de malla metálica y un filtro de película transparente conductora. Aunque el filtro de malla metálica muestra un buen efecto de apantallamiento de las ondas electromagnéticas, tiene varias desventajas que incluyen una transmitancia pobre, distorsión de la imagen, y un aumento del costo de producción debido a una malla costosa. Debido a tales desventajas, los filtros de apantallamiento de ondas electromagnéticas que utilizan películas conductoras transparentes que utilizan óxido de indio estaño (ITO) son ampliamente utilizados en lugar del filtro de malla metálica. La película conductora transparente se forma generalmente de una estructura de película fina en múltiples niveles en la que se intercalan una película metálica y una capa fina transparente de alto índice de refracción. Puede utilizarse plata o una aleación basada en plata como película metálica. Sin embargo, los filtros EMI para PDP convencionales tienden a carecer de durabilidad y/o pueden mejorarse con respecto a la transmisión visible y/o a las propiedades de apantallamiento.

Por otra parte, ciertos filtros EMI para PDP necesitan ser tratados térmicamente (p. ej., templados térmicamente) . Tal tratamiento térmico requiere por lo general el uso de una (s) temperatura (s) de por lo menos 580 grados C, más preferentemente de por lo menos aproximadamente 600 grados C y todavía más preferentemente de por lo menos 620 grados C. Las expresiones "tratamiento térmico" y "tratar térmicamente" tal como se utilizan en este documento significan calentar el artículo hasta una temperatura suficiente para lograr el templado térmico y/o el fortalecimiento por calor del artículo que incluye vidrio. Esta definición incluye, por ejemplo, calentar un artículo recubierto en un horno hasta una temperatura de por lo menos aproximadamente 550 grados C, más preferentemente por lo menos aproximadamente 580 grados C, más preferentemente por lo menos aproximadamente 600 grados C, más preferentemente por lo menos aproximadamente 620 grados C, durante un período suficiente para permitir el templado y/o el fortalecimiento por calor. En general, el tratamiento térmico puede llevarse a cabo a unas temperaturas de aproximadamente 550 grados C hasta aproximadamente 650 grados C. En determinados casos, el HT puede darse durante por lo menos aproximadamente 4 ó 5 minutos. El uso de temperaturas tan altas (p. ej., durante 5-10 minutos o más) a menudo hace que los recubrimientos se rompan y/o hace que una o más de las características deseables anteriormente mencionadas se deterioren significativamente de manera indeseable. Los filtros EMI para PDP convencionales tienden a sufrir una falta de estabilidad térmica y/o durabilidad tras el tratamiento térmico (HT) . En particular, el tratamiento térmico tiende a hacer que los filtros para PDP convencionales se rompan.

El documento KR 2003/0038833 divulga un filtro de apantallamiento de ondas de electrones para una pantalla de visualización de plasma y un procedimiento para fabricar el mismo. El filtro de apantallamiento de las ondas de electrones se soporta en un sustrato de vidrio y se dispone un marco conductor de frita negra alrededor de la periferia del sustrato de vidrio para permitir un contacto eléctrico del filtro con el suelo.

El documento U.S. 6.391.462 asimismo se refiere a un filtro óptico para pantallas de visualización de plasma, que incluye un sustrato transparente sobre el que se dispone un filtro de interferencia basado en varias capas dieléctricas y capas de plata.

En vista de lo anterior, existe una necesidad en la técnica de un filtro para PDP mejorado que se mejora (con respecto a los filtros EMI para PDP convencionales) con respecto a uno o más de: (i) mayor durabilidad química, (ii) mayor estabilidad térmica (p. ej., tras un tratamiento térmico opcional como el templado) , (iii) mejor transmisión visible, y/o (iv) mejores propiedades de apantallamiento de las EMI.

Para superar estas y/u otras desventajas, ha habido intentos por parte del cesionario de la presente invención para utilizar un recubrimiento conductor transparente (TCC) como un filtro EMI tal como se ha descrito, por ejemplo, en la aplicación con no de serie 61/071.936. Las Figs. 14 (a) -14 (c) proporcionan una vista de ejemplo de cómo puede disponerse un filtro para... [Seguir leyendo]

1. Un dispositivo de visualización de plasma, que comprende:

una pantalla de visualización de plasma; un filtro de interferencia electromagnética (EMI) (148) proporcionado en una parte frontal de la pantalla de visualización de plasma, incluyendo el filtro EMI un recubrimiento conductor transparente (TCC) multicapa que incluye plata soportado por una superficie interior de un sustrato de vidrio (142) ; un marco interior de frita negra (144) dispuesto alrededor de una parte del sustrato de vidrio (142) que corresponde a una parte visible (150) de la pantalla de visualización de plasma; y un marco exterior de frita de plata (146) dispuesto alrededor del marco interior de frita negra (144) en la periferia del sustrato de vidrio (142) , en el que el TCC se proporciona más cerca del sustrato de vidrio (142) que los marcos de frita interior (144) y exterior (146) , y en el que el marco interior de frita negra (144) es no conductor y el marco exterior de frita de plata (146) es conductor.

2. El dispositivo de visualización de plasma de la reivindicación 1, en el que el TCC comprende por lo menos tres capas de Ag.

3. El dispositivo de visualización de plasma de la reivindicación 1, en el que el marco de frita negra (144) y el marco de frita de plata (146) se superponen por lo menos parcialmente.

4. El dispositivo de visualización de plasma de la reivindicación 3, en el que el marco de frita de plata (146) es sustancialmente imperceptible por un observador del dispositivo de pantalla de plasma.

5. El dispositivo de visualización de plasma de la reivindicación 1, en el que el sustrato de vidrio (142) y el TCC combinados tienen una transmisión visible de por lo menos aproximadamente un 55%.

6. Un procedimiento para fabricar un dispositivo de visualización de plasma que incluye una pantalla de visualización de plasma y un filtro de interferencia electromagnética (EMI) proporcionado en una parte frontal de la pantalla de visualización de plasma, comprendiendo el procedimiento:

proporcionar un sustrato de vidrio, incluyendo el sustrato de vidrio un recubrimiento conductor transparente (TCC) multicapa que incluye plata depositado por pulverización catódica sobre una superficie interior del mismo, habiendo sido cortado el sustrato de vidrio a un tamaño predeterminado tras la deposición por pulverización catódica del TCC; aplicar un marco interior de frita negra alrededor de una parte del sustrato de vidrio que corresponde a una parte visible de la pantalla de visualización de plasma; aplicar un marco exterior de frita de plata alrededor del marco interior de frita negra de manera que el marco exterior de frita de plata se sitúe en la periferia del sustrato de vidrio cortado; y llevar a cabo por lo menos un tratamiento a alta temperatura, tratando térmicamente el por lo menos un tratamiento a alta temperatura el sustrato cortado y fusionando los marcos de frita negra y de plata, en el que el TCC se proporciona más cerca del sustrato de vidrio que los marcos de frita interior y exterior, y en el que el marco interior de frita negra es no conductor y el marco exterior de frita de plata es conductor.

7. El procedimiento de la reivindicación 6, en el que el tratamiento térmico del sustrato cortado y la fusión de los marcos de frita negra y de plata se logran mediante un tratamiento a alta temperatura.

8. El procedimiento de la reivindicación 7, en el que el por lo menos un tratamiento a alta temperatura implica una temperatura de entre aproximadamente 550 grados C y 650 grados C.

9. El procedimiento de la reivindicación 6, que comprende adicionalmente llevar a cabo unos tratamientos a alta temperatura primero y segundo, siendo adecuado el primer tratamiento a alta temperatura para tratar térmicamente el sustrato cortado y siendo adecuado el segundo tratamiento a alta temperatura para fusionar los marcos de frita negra y de plata.

10. El procedimiento de la reivindicación 6, que comprende adicionalmente activar el TCC mediante el por lo menos un tratamiento a alta temperatura.

11. El procedimiento de la reivindicación 6, en el que los marcos de frita negra y de plata se aplican después del corte.

12. El procedimiento de la reivindicación 6, en el que el marco de frita negra y el marco de frita de plata se superponen.

13. El procedimiento de la reivindicación 6, en el que el marco de frita de plata es sustancialmente imperceptible por un observador del dispositivo de visualización de plasma.

14. El procedimiento de la reivindicación 6, en el que el sustrato de vidrio y el TCC combinados tienen una transmisión visible de por lo menos aproximadamente un 55%.

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alto alto alto laminar Recubierto (sobre un vidrio sódico-cálcico de 2, 8mm)