Procedimiento para distribuir uniformemente un flujo descendente de líquido y vapor a través del área en sección transversal de un recipiente de flujo descendente en dos fases simultáneas por debajo de una bandeja de recogida de líquido substancialmente horizontal (20,

60, 80, 100, 120), comprendiendo el procedimiento las etapas de: - recoger líquido en una cubeta de líquido (30, 71, 89, 108, 130) en dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120), - recoger vapor en un espacio de vapor (29, 72, 90, 109, 131) por encima de dicha cubeta de líquido (30, 71, 89, 108, 130), - proporcionar una pluralidad de unidades de distribución (31, 75, 91, 111) para conducir dicho vapor y dicho líquido hacia abajo a través de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120), comprendiendo cada una de dichas unidades de distribución (31, 75, 91, 111) un conducto descendente (21, 61, 81, 101, 134), un conducto de líquido (34, 77, 88, 112, 133) y una zona de mezcla de vapor/líquido, - teniendo dicho conducto descendente (21, 61, 81, 101, 134) una entrada de vapor (32,,, 107, 129), situado en un extremo superior del mismo para conducir vapor desde dicho espacio de vapor (29, 72, 90, 109, 131) a través de dicha entrada de vapor (32,,, 107, 129) a dicha zona de mezcla de vapor/líquido, y - dicho conducto de líquido (34, 77, 88, 112, 133) tiene una pared (21, 61, 82, 102, 121) con una o más aberturas (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) que se extienden a través de dicha pared a diferentes distancias por encima de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120) para conducir el líquido desde dicha cubeta de líquido (30, 71, 89, 108, 130) a través de dichos orificios (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) y dicha zona de mezcla de vapor/líquido, en cuya zona el vapor de dicho conducto descendente (21, 61, 81, 101, 134) se combina con el líquido de dicho conducto de líquido (34, 77, 88, 112, 133) en una corriente combinada en dicha zona de mezcla de vapor/líquido, - pasar la mayor parte de dicho vapor a través de dichas entradas de vapor (32,,, 107, 129), a través de dichos conductos descendentes (21, 61, 81, 101, 134) y dicha zonas de mezcla de vapor/líquido, - pasar substancialmente todo de dicho líquido de dicha cubeta de líquido (30, 71, 89, 108, 130) a través de dicha uno o más aberturas (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) a dicha zona de mezcla de vapor/líquido a través de dichos conductos de líquido, - pasar dicho vapor y dicho el líquido de dicha zona de mezcla de vapor/líquido al espacio por debajo de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120), y - reducir la diferencia entre la presión del vapor inmediatamente por encima de una superficie (28, 74, 87, 110, 132) de dicho líquido en un punto adyacente a dicha pared (21, 61, 82, 102, 121) y aguas arriba desde una de dichas una o más aberturas (26; 64, 65, 84, 105, 106, 127) y la presión del vapor aguas abajo desde dichas una o más aberturas (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) en el mismo nivel que dicha superficie (28, 74, 89, 110, 132)

ANTECEDENTES DE LA INVENCIÓN

La invención se refiere a un dispositivo de distribución de vapor y de líquido uniformemente sobre la sección transversal de un vaso con flujo descendente simultáneo en dos fases. La invención es adecuada para, pero no se limita a la aplicación de distribuir gas tratado rico en hidrógeno y líquidos de hidrocarburo en el lecho(s) de catalizador en un reactor de hidroprocesamiento, tal como un reactor de hidrotratamiento o hidrocraqueo.

TÉCNICA RELACIONADA

Un gran número de diseños de bandejas de distribución para vasos de flujo descendente simultáneo en dos fases se han descrito en la literatura y en patentes. La mayoría de estos diseños pertenecen a una de las dos categorías dadas a continuación:

Bandejas de distribución de tipo chimenea:

Estos distribuidores consisten en una placa de bandeja horizontal provista de una pluralidad de chimeneas que se extienden hacia arriba por encima de la placa de bandeja. Las chimeneas forman canales de flujo para el flujo de vapor a través de la placa de bandeja. Para los primeros diseños de bandeja de distribución se proporcionaron aberturas de líquido para el flujo de líquido en la placa de bandeja. Para los diseños de bandeja de distribución que se utilizan actualmente una o más aberturas de líquido laterales para el flujo de líquido se proporcionan en el lado de las chimeneas. Esta(s) abertura(s) de líquido lateral(es) puede(n) estar en una o más elevaciones y puede(n) variar en tamaño y forma. El área de flujo total de las aberturas de líquido se selecciona para mantener un cierto nivel de líquido en la bandeja y el área en sección transversal total de las chimeneas de vapor normalmente se selecciona para obtener una baja caída de presión a través de la bandeja para asegurarse de que la fuerza impulsora para el flujo de líquido a través de las aberturas de líquido es principalmente la cabeza estática de la columna de líquido por encima de la abertura de líquido, y no la caída de presión causada por el flujo de vapor a través de las chimeneas. [0004] Un ejemplo de una bandeja de distribución de tipo de chimenea se proporciona en la patente US 4.788.040. Una bandeja de distribución previa 56 se utiliza por encima de una bandeja de distribución final 66. La bandeja de distribución final 66 es una bandeja provista de aberturas/perforaciones de líquido 84 para el flujo de líquido y con chimeneas cubiertas 62 para el flujo de vapor. Las chimeneas 62 también están provistas de aberturas de líquido laterales 90 para el flujo de líquido. Las bandejas de distribución con aberturas de líquido en o cerca de la placa de bandeja han mostrado ser sensibles a ensuciarse y obturarse debido a que las impurezas en partículas tienden a depositarse en la bandeja y obturar las aberturas de líquido. [0005] Otro ejemplo de una bandeja de distribución de tipo de chimenea se proporciona en la patente US 4.126.540. Esta bandeja de distribución consiste en una placa de bandeja 33 provista de una pluralidad de chimeneas 31. Cada chimenea está provista de una o varias aberturas de líquido laterales para el flujo de líquido 34. Todas las aberturas de líquido están en la elevación H por encima de la placa de bandeja. Una placa perforada 32 está colocada por encima de la bandeja de chimenea. La placa perforada tiene perforaciones 30. No se proporcionan perforaciones en la placa 32 directamente por encima de las chimeneas 31. De esta manera, se previene el flujo de líquido directo a través del extremo superior y abierto de las chimeneas. Otra forma de prevenir el flujo de líquido directo es mediante una tapa de la chimenea 24. Esta bandeja tiene una resistencia mejorada a la suciedad y a la obturación, ya que las aberturas de líquido se encuentran en una elevación más alta y las impurezas en partículas, por lo tanto, pueden depositarse en la bandeja sin obturar las aberturas de líquido. El inconveniente de los diseños de bandeja de chimenea con aberturas de líquido en una única elevación es un rango de medida de flujo del líquido pobre. A bajas velocidades de flujo del líquido, el nivel estará en las aberturas de líquido y el flujo de líquido a través de cada chimenea se vuelve muy sensible a las variaciones en la profundidad del líquido que siempre existen en la bandeja. A altas velocidades de flujo de líquido, el líquido desbordará las chimeneas elevadas más bajas y causará la mala distribución del líquido. [0006] La patente US 5.484.578 describe un sistema de distribución que consiste en una bandeja de distribución previa 17 y una bandeja de distribución final

18. La bandeja de distribución final 18 es un tipo de bandeja de chimenea provista de una pluralidad de chimeneas no idénticas 33 y 34. Las chimeneas están provistas de aberturas de líquido laterales para el flujo de líquido en una o más elevaciones. Las chimeneas 33 tienen una o más aberturas de líquido en una elevación menor que las chimeneas 34. De esta manera, el rango de medida del flujo de líquido de la bandeja de distribución se incrementa. Las chimeneas están provistas de muescas 38 para reducir la mala distribución de líquido en caso de que el líquido se desborde en las chimeneas. [0007] Puesto que la velocidad de flujo hacia abajo dentro de las chimeneas tiene que ser baja, el patrón de flujo de salida desde las chimeneas de las referencias de patentes citadas es normalmente un patrón de flujo de baja interacción con el líquido cayendo más o menos vertical hacia abajo desde los bordes de goteo de las chimeneas. Hay un límite de cuán cerca pueden estar separadas las chimeneas. Con muchas chimeneas en la bandeja en una separación cercana, el flujo de líquido por chimenea es bajo. Por lo tanto, el área de las aberturas de líquido también necesita reducirse para mantener todavía el nivel de líquido deseado en la bandeja. Si el tamaño de las aberturas de líquido es menor de 15-30 mm2, entonces las aberturas de líquido se vuelven susceptibles a la suciedad y a la obturación. En otras palabras, hay una densidad de chimeneas máxima que no debe superarse si debe evitarse la obturación de las aberturas de líquido. Para diseños de bandejas de chimenea típicos para reactores de hidroprocesamiento la densidad máxima de las chimeneas oscila de 50 a 100 chimeneas por metro cuadrado para evitar la obturación de las aberturas de líquido. Debido al número limitado de puntos de distribución o de chimeneas, es deseable una determinada distribución de líquido a la salida de cada chimenea para evitar un fluyo de líquido a modo de punto debajo de cada chimenea y ningún flujo de líquido en las áreas entre chimeneas adyacentes. [0008] La patente US 5.403.561 describe el uso de medios de producción de pulverización cónica 23 en la salida de las chimeneas 24 en una bandeja de distribución de chimenea 22. Los medios de producción de pulverización pueden consistir en cinta metálica enrollada en forma de una hélice cónica invertida. La pulverización cónica de vapor/líquido asegurará una buena distribución de líquido local desde cada salida de la chimenea. Se pretende que la pulverización de vapor y líquido se superpongan al incidir en la superficie superior del lecho fijo 18. [0009] Un segundo ejemplo de cómo se puede lograr una buena distribución de líquido local en la salida de cada chimenea se proporciona en la patente US 6.613.219. Un sistema de dispersión 28, tal como una placa perforada, se utiliza por debajo de las chimeneas para distribuir el líquido. [0010] Un tercer ejemplo de la distribución de líquido local mejorada en la salida de cada chimenea se proporciona en la patente WO 00/53307. Un elemento de distribución de flujo 10 que consiste en placas corrugadas radialmente alineadas 22, 22a, 22b se inserta en la salida 12 de la chimenea 14 para producir una pulverización cónica. El pequeño tamaño de los canales de flujo entre las placas corrugadas hace este diseño propenso a obturarse por impurezas sólidas. [0011] Un inconveniente de todas las bandejas de chimenea a las que se hace referencia es que el área de chimenea total necesita ser grande para lograr bajas velocidades de flujo y caída de presión en la entrada de la chimenea. Si la caída de presión de vapor que entra en la chimenea es excesiva, esta caída de presión aumentará la caída de presión a través de las aberturas de líquido laterales. El resultado es que el rango de medida del flujo de líquido de la bandeja de distribución se reduce. En casos operativos con bajo flujo de líquido y alto flujo de vapor el nivel del líquido será aún más bajo, y en los casos operativos con alto flujo de líquido y bajo flujo de vapor el nivel de líquido será...

1. Procedimiento para distribuir uniformemente un flujo descendente de líquido y vapor a través del área en sección transversal de un recipiente de flujo descendente en dos fases simultáneas por debajo de una bandeja de recogida de líquido substancialmente horizontal (20, 60, 80, 100, 120), comprendiendo el procedimiento las etapas de:

- recoger líquido en una cubeta de líquido (30, 71, 89, 108, 130) en dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120),

- recoger vapor en un espacio de vapor (29, 72, 90, 109, 131) por encima de dicha cubeta de líquido (30, 71, 89, 108, 130),

- proporcionar una pluralidad de unidades de distribución (31, 75, 91, 111) para conducir dicho vapor y dicho líquido hacia abajo a través de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120), comprendiendo cada una de dichas unidades de distribución (31, 75, 91, 111) un conducto descendente (21, 61, 81, 101, 134), un conducto de líquido (34, 77, 88, 112, 133) y una zona de mezcla de vapor/líquido,

- teniendo dicho conducto descendente (21, 61, 81, 101, 134) una entrada de vapor (32,,, 107, 129), situado en un extremo superior del mismo para conducir vapor desde dicho espacio de vapor (29, 72, 90, 109, 131) a través de dicha entrada de vapor (32,,, 107, 129) a dicha zona de mezcla de vapor/líquido, y

- dicho conducto de líquido (34, 77, 88, 112, 133) tiene una pared (21, 61, 82, 102, 121) con una o más aberturas (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) que se extienden a través de dicha pared a diferentes distancias por encima de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120) para conducir el líquido desde dicha cubeta de líquido (30, 71, 89, 108, 130) a través de dichos orificios (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) y dicha zona de mezcla de vapor/líquido, en cuya zona el vapor de dicho conducto descendente (21, 61, 81, 101, 134) se combina con el líquido de dicho conducto de líquido (34, 77, 88, 112, 133) en una corriente combinada en dicha zona de mezcla de vapor/líquido,

- pasar la mayor parte de dicho vapor a través de dichas entradas de vapor (32,,, 107, 129), a través de dichos conductos descendentes (21, 61, 81, 101, 134) y dicha zonas de mezcla de vapor/líquido,

- pasar substancialmente todo de dicho líquido de dicha cubeta de líquido (30, 71, 89, 108, 130) a través de dicha uno o más aberturas (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) a dicha zona de mezcla de vapor/líquido a través de dichos conductos de líquido,

- pasar dicho vapor y dicho el líquido de dicha zona de mezcla de

vapor/líquido al espacio por debajo de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120), y

- reducir la diferencia entre la presión del vapor inmediatamente por encima de una superficie (28, 74, 87, 110, 132) de dicho líquido en un punto adyacente a dicha pared (21, 61, 82, 102, 121) y aguas arriba desde una de dichas una o más aberturas (26; 64, 65, 84, 105, 106, 127) y la presión del vapor aguas abajo desde dichas una o más aberturas (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) en el mismo nivel que dicha superficie (28, 74, 89, 110, 132).

2. Procedimiento según la reivindicación 1, en el que se proporcionan dos o más aberturas (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) que se extienden a través de dicha pared (21, 61, 82, 102, 121) a diferentes distancias por encima de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120).

3. Procedimiento según la reivindicación 1 ó 2, en el que dicha reducción de la diferencia de presión se obtiene mediante restringiendo dicho líquido para fluya hacia arriba a través de por lo menos una porción de dicho conducto de líquido (34, 77, 88) para formar un sello de líquido antes de alcanzar dicha zona de mezcla de vapor/líquido, evitando así el flujo de vapor a través de dicho conducto de líquido (34, 77, 88, 112, 133), excepto para el vapor atrapado o disuelto en dicho líquido.

4. Procedimiento según la reivindicación 3, en el que una restricción de flujo, (23, 24, 68, 70, 83) tal como orificios, deflectores, aspas, placas corrugadas, juntas, placas perforadas, se proporciona aguas abajo de dicho zona de mezcla de vapor/líquido para aumentar la caída de presión de dos fases desde dicha zona de mezcla de vapor/líquido en el espacio por debajo de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120) para reducir la sensibilidad a las variaciones del nivel del líquido (27, 73, 87, 110, 132) en dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120) del flujo de líquido a través de una de dichas unidades de distribución (31, 75, 91, 111,).

5. Procedimiento según la reivindicación 4, en el que dicha caída de presión en dos fases supera el 50% de la caída de presión total de dicho de espacio vapor (29, 72, 90, 109, 131) por encima de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120) al espacio de vapor por debajo de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120).

6. Procedimiento según la reivindicación 4, en el que dicha caída de presión en dos fases supera el 80% de la caída de presión total de dicho espacio de vapor (29, 72, 90, 109, 131) por encima de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120) al espacio de vapor por debajo de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120).

7. Procedimiento según la reivindicación 1 ó 2, en el que dicha reducción de la diferencia de presión se obtiene reduciendo el flujo de vapor a través de dicho conducto de líquido (88, 112, 133) proporcionando una obstrucción del flujo (85, 113, 126) tal como una sección de área de flujo reducida o un orificio en una posición aguas abajo de dichas aberturas (84, 105, 106, 127) y aguas arriba de dicha zona de mezcla de vapor/líquido.

8. Procedimiento según la reivindicación 7, en el que la caída de presión a través de dicha obstrucción del flujo (85, 113, 126) supera el 25% de la caída de presión total de dicho espacio de vapor (90, 109, 131) por encima de dicha bandeja (80, 100, 120) a dicha zona de mezcla de vapor/líquido.

9. Procedimiento según la reivindicación 7, en el que la caída de presión a través de dicha obstrucción del flujo (85, 113, 126) supera el 50% de la caída de presión total de dicho espacio de vapor (90, 109, 131) por encima de dicha bandeja (80, 100, 120) a dicha zona de mezcla de vapor/líquido.

10. Procedimiento según la reivindicación 7, en el que la caída de presión a través de dicha obstrucción del flujo (85, 113, 126) supera el 75% de la caída de presión total de dicho espacio de vapor (90, 109, 131) por encima de dicha bandeja (80, 100, 120) a dicha zona de mezcla de vapor/líquido.

11. Procedimiento según la reivindicación 1 a 10, donde la dirección de flujo general a través de dicho conducto descendente (21, 61, 81, 101, 134) es hacia abajo.

12. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 11, en el que tanto los conductos dichos líquidos (133) como dichos conductos descendentes

(134) en dicha unidad de distribución se extienden a través de dicha bandeja (120), y en el que dicha zona de mezcla de vapor/líquido es el espacio por debajo de la placa de la bandeja (120).

13. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 12, en el que dicha corriente combinada se dispersa y se extiende sobre un área mayor mediante medios de extensión y de dispersión de líquido mejorados (23, 24, 35, 68, 70, 83, 104), tales como aspas, deflectores, cintas, placas corrugadas o placas perforadas.

14. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 13, en el que una tapa (103, 124) está dispuesta sobre dicha entrada de vapor para evitar el flujo directo de líquido desde dicho espacio de vapor (109, 131) a dicha entrada de vapor (107, 129).

15. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 14, en el que el área en sección transversal horizontal combinada de todos los conductos de líquido (34, 77, 88, 112, 133) en dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120) es menor que el área en sección transversal horizontal combinada de todos dichos conductos descendentes (21, 61, 81, 101, 134) en dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120).

16. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 15, en el que dicha entrada de vapor (32,,, 107, 129) está en una elevación más alta que todas dichas aberturas (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127).

17. Dispositivo para distribuir uniformemente un flujo descendente de líquido y vapor a través del área en sección transversal de un recipiente de flujo descendente en dos fases simultáneas, que comprende:

- una bandeja de recogida de líquido sustancialmente horizontal (20, 60, 80, 100, 120) para obstruir el flujo de vapor y de líquido hacia abajo y para recoger el líquido en una cubeta de líquido (30, 71, 89, 108, 130) en dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120) y el vapor en un espacio de vapor (29, 72, 90, 109, 131) por encima de dicha cubeta de líquido (30, 71, 89, 108, 130),

- una pluralidad de unidades de distribución (31, 75, 91, 111) para conducir dicho vapor y dicho líquido hacia abajo a través de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120), comprendiendo cada una de dichas unidades de distribución (31, 75, 91, 111) un conducto descendente (21, 61, 81, 101, 134), un conducto de líquido (34, 77, 88, 112, 133), una zona de mezcla de vapor/líquido y un conducto de flujo combinado, donde:

- dicho conducto descendente (21, 61, 101, 134) está provisto de una entrada de vapor (32,,, 107, 129) en un extremo superior del mismo y forma un canal de flujo desde dicho espacio de vapor (29, 72, 90, 109, 131) a través de dicha entrada de vapor (32,,, 107, 129) a dicha zona de mezcla de vapor/líquido para conducir la mayor parte de dicho vapor desde dicho espacio de vapor (29, 72, 90, 109, 131) a dichas zonas de mezcla de vapor/líquido,

- dicho conducto de líquido (34, 77, 88, 112, 133) tiene una pared (21, 61, 82, 102, 121) con una o más aberturas (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) que se extienden a través de la pared a diferentes distancias por encima de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120) y forma un canal de flujo de líquido desde dicha cubeta de líquido (30, 71, 89, 108, 130) a través de dicha abertura (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) y dicha zona de mezcla de vapor/líquido para conducir esencialmente todo el líquido de dicha cubeta de líquido (30, 71, 89, 108, 130) a dichas zonas de mezcla de vapor/líquido,

- dicho conducto de flujo combinado que forma un canal de flujo de dicha zona de mezcla de vapor/líquido a una posición por debajo de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120),

- medios para reducir la diferencia entre la presión del vapor inmediatamente por encima de una superficie (28, 74, 87, 110, 132) de dicho líquido en un punto adyacente a dicha pared (21, 61, 82, 102, 121) y aguas arriba desde una de dichas una o más aberturas, y la presión del vapor aguas abajo de dicha una o más de dichas aberturas (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) en el mismo nivel que dicha superficie (28, 74, 87, 110, 132).

18. Dispositivo según la reivindicación 17, en el que se proporcionan dos o más aberturas de líquido (26, 64, 65, 84, 105, 106, 127) que se extienden a través de dicha pared (21, 61, 82, 102, 121) a diferentes distancias por encima de dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120).

19. Dispositivo según la reivindicación 17 ó 18, en el que dicha reducción de la diferencia de presión se obtiene por al menos una porción de dicho conducto de líquido (34, 76, 77, 88) aguas arriba de dicha zona de mezcla vapor/líquido que se extiende hacia arriba en la dirección desde dicha cubeta de líquido (30, 71, 89) a dicha zona de mezcla de vapor/líquido para restringir que dicho líquido fluya hacia arriba a través de dicha porción de dicho conducto de líquido (34, 76, 77, 88) para formar un sello de líquido antes de alcanzar dicha zona de mezcla de vapor/líquido, evitando el flujo de vapor a través de dicho conducto de líquido (34, 76, 77, 88), excepto para el vapor atrapado o disuelto en dicho líquido.

20. Dispositivo según la reivindicación 19, en el que una restricción de flujo (23, 24, 68,70, 83), tal como orificios, deflectores, aspas, placas corrugadas, juntas o placas perforadas, se proporciona aguas abajo de dicha zona de mezcla de vapor/líquido para aumentar la pérdida de carga en dos fases de dicha zona de mezcla de vapor/líquido en el espacio por debajo de dicha bandeja (20, 60, 80) para reducir la sensibilidad a las variaciones del nivel del líquido (27, 73, 87) en dicha bandeja (20, 60, 80) del flujo de líquido a través de una de dichas unidades de distribución (31, 75, 91).

21. Dispositivo según la reivindicación 20, en el que el área de flujo mínima a través de dicha restricción del flujo (23, 24, 68, 70, 83) es inferior al 80% del área de flujo a través de dicha zona de mezcla de vapor/líquido.

22. Dispositivo según la reivindicación 20, en el que el área de flujo mínima a través de dicha restricción del flujo (23, 24, 68, 70, 83) es inferior al 60% del área de flujo a través de dicha zona de mezcla de vapor/líquido.

23. Dispositivo según la reivindicación 19 a 22, en el que dicho conducto de líquido (34, 76, 77) tiene todas sus aberturas de entrada (65, 66) sumergidas en dicha cubeta de líquido (30, 71), formando así dicho sello de líquido para evitar la entrada de vapor en dicho conducto de líquido (34, 76, 77).

24. Dispositivo según la reivindicación 19 a 23, en el que dichas aberturas (26, 64) se proporcionan en una pared (21, 61) entre dicho conducto de líquido (34, 77) y dicha zona de mezcla de vapor/líquido, formando así la salida del conducto de líquido (34, 77).

25. Dispositivo según la reivindicación 17 ó 18, en el que dicha reducción en la diferencia de presión se obtiene proporcionando una obstrucción de flujo (85, 113, 126), tal como una sección área de flujo reducida o un orificio, en una posición aguas abajo de dichas aberturas de líquido (84, 105, 106, 127) y aguas arriba de dicha zona de mezcla de vapor/líquido para reducir el flujo de vapor a través de dicho conducto de líquido (88, 112, 133).

26. Dispositivo según la reivindicación 25, en el que dichas aberturas (65, 84, 105, 106, 127) se proporcionan en una pared (61, 82, 102, 121) entre dicha cubeta de líquido (71, 89, 108, 130) y dicho conducto de líquido (76, 88, 112, 133), formando así la entrada de líquido al conducto de líquido (76, 88, 112, 133).

27. Dispositivo según la reivindicación 25 ó 26, en el que dicho conducto de líquido (88. 112, 133) está provisto de una abertura de entrada de vapor (114, 128), situada en dicho espacio de vapor (90, 109, 131) para igualar la presión a través de dicha pared (82, 102, 121) para aumentar dicha reducción en la diferencia de presión.

28. Dispositivo según la reivindicación 27, en el que se proporciona una tapa (103, 122) por encima de dicha abertura de entrada (144, 128) para el vapor para evitar el flujo directo de líquido en dicho conducto de líquido (112, 133) a través de dicha abertura de entrada (114, 128) para el vapor.

29. Dispositivo según la reivindicación 25 a 28, en el que el área de flujo mínima a través de dicha obstrucción de flujo (85, 113, 126) es inferior al 80% del área en sección transversal interna de dicho conducto de líquido (88, 112, 133).

30. Dispositivo según la reivindicación 25 a 28, en el que el área de flujo mínimo a través de dicha obstrucción de flujo (85, 133, 126) es inferior al 60% del área en sección transversal interna de dicho conducto de líquido (88, 112, 133).

31. Dispositivo según la reivindicación 25 a 28, en el que el área de flujo mínimo a través de dicha obstrucción de flujo (85, 113, 126) es inferior al 50%

del área en sección transversal interna de dicho conducto de líquido (88, 112, 133).

32. Dispositivo según la reivindicación 17 a 31, en el que la dirección de flujo general a través del conducto descendente (21, 61, 81, 101, 134) es hacia abajo.

33. Dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones 17 a 32, en el que dichos dos conductos de líquido (133) y dichos conductos descendentes (134) en dicha unidad de distribución se extienden a través de dicha bandeja (120), y en el que dicha zona de mezcla de vapor/líquido es el espacio por debajo de la placa de la bandeja (120), y en el que dicho conducto de flujo combinado es una sección de dicho recipiente de flujo descendente en dos fases simultáneas por debajo de dicha bandeja (120).

34. Dispositivo según la reivindicación 17 a 33, en el que los medios de extensión y de dispersión de líquido mejorada (23, 24, 35, 68, 70, 83, 104), tales como orificios, aspas, deflectores, cintas, placas corrugadas o placas perforadas se proporcionan aguas abajo desde o en dicho conducto de flujo combinado para mejorar la extensión y la distribución local del líquido y del vapor que sale de dicha unidad de distribución (31, 75, 91, 111).

35. Dispositivo según la reivindicación 17 a 34, en el que una tapa (103, 124) está dispuesta sobre dicha entrada de vapor (107, 129) para evitar el flujo directo de líquido desde dicho espacio de vapor (109, 131) a través de dicha entrada de vapor (107, 129) y dicho conducto descendente (101, 134).

36. Dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones 17 a 35, en el que el área en sección transversal horizontal combinada de todos dichos conductos de líquido (34, 77, 88, 112, 133) en dicha bandeja (20, 60, 80, 100, 120) es menor que el área en sección transversal horizontal de todos los conductos descendentes (21, 61, 81, 101, 134) en dicha bandeja.

37. Dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones 17 a 36, en el que dicha entrada de vapor (32,,, 107, 129) está en una elevación más alta que todas dichas aberturas (26, 64, 65, 84, 105, 106; 127).

38. Dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones 17 a 37, en el que las unidades de distribución (31, 75, 91, 111) de diferente construcción se utilizan en una bandeja (20, 60, 80, 100, 120).

39. Dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones 17 a 38, en el que dos o más de dichos conductos de líquido (34, 77, 88, 112, 133) se utilizan en dicha unidad de distribución (31, 75, 91, 111).

40. Dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones 17 a 39, en el que dos o más de dichos conductos descendentes (21, 61, 81, 101, 134) se utilizan en dicha unidad de distribución (31, 75, 71, 111).