SONDAS PARALELAS DIRECCIONABLES INDIVIDUALMENTE, PARA NANOLITOGRAFIA.
Un aparato de nanolitografía (32, 100) para aplicar al menos un compuesto de formación de patrones (26) a un sustrato,
aparato que comprende: una matriz (56, 74) de sondas accionables selectivamente, la mencionada matriz de sondas accionables (38, 54, 72, 104) estando dispuesta en paralelo, donde cada una de las mencionadas sondas accionables selectivamente comprende: un voladizo (50); una punta (20) en un extremo del mencionado voladizo, para aplicar al mencionado sustrato uno de los mencionados al menos un compuesto de formación de patrones, la punta (20) estando dispuesta para ser cubierta con el mencionado compuesto de formación de patrones y para aplicar el mencionado compuesto de formación de patrones (26) al mencionado sustrato; y un accionador (66, 68, 76) acoplado operativamente el mencionado voladizo, el mencionado accionador estando controlado por una unidad de control auxiliar (48) conectada, adaptada para aplicar corriente o tensión al objeto de mover el mencionado voladizo para que mueva la mencionada punta separándola del mencionado sustrato, para controlar el estado del contacto entre la punta (20) y el sustrato, teniendo como resultado una suspensión del proceso de formación de patrones, caracterizado porque el mencionado accionador (66, 68, 76) es un accionador térmico o un accionador electrostático (76).
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: BOARD OF TRUSTEES OF THE UNIVERSITY OF ILLINOIS.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 352 ADMINISTRATION BUILDING, 506 SOUTH WRIGHT STREET,URBANA, ILLINOIS 61801.
Inventor/es: LIU,CHANG, ZHANG,MING, BULLEN,DAVID,ANDREW.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 22 de Octubre de 2008.
Clasificación PCT:
- B81B7/04 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B81 TECNOLOGIA DE LAS MICROESTRUCTURAS. › B81B DISPOSITIVOS O SISTEMAS DE MICROESTRUCTURA, p. ej. DISPOSITIVOS MICROMECANICOS (elementos piezoeléctricos, electroestrictivos o magnetoestrictivos en sí H01L 41/00). › B81B 7/00 Sistemas de microestructura. › Redes o matrices de dispositivos de microestructura semejantes.
- G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
- H01L21/66 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › Ensayos o medidas durante la fabricación o tratamiento.
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