PROCEDIMIENTO DE DESTILACION DE DERIVADOS DE ETER SILILADO.

SE PRESENTA UN METODO MEJORADO PARA DESILILAR UN COMPUESTO DE SILILETER QUE CONSISTE EN HACER REACCIONAR UN COMPUESTO DE SILILETER DE LA FORMULA GENERAL (I):

O UNA SAL DEL MISMO (DONDE X ES UNA METINA SUSTITUIDA POR UN GRUPO ALKILO QUE TIENE DE 1 A 3 ATOMOS DE CARBONO, METILENO O UN ATOMO DE AZUFRE; R1, R2 Y R3, QUE PUEDEN SER IGUALES O DIFERENTES, REPRESENTAN UN GRUPO ALKILO QUE TIENE DE 1 A 6 ATOMOS DE CARBONO, UN GRUPO ALCOXI QUE TIENE DE 1 A 6 ATOMOS DE CARBONO, UN GRUPO ARILO O UN GRUPO ARALKILO; R4 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO, UN GRUPO ALKILO INFERIOR OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, UN GRUPO ALKILTIO INFERIOR OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, UN GRUPO ALCOXI INFERIOR OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, UN GRUPO HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, UN GRUPO ALKILO INFERIOR HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, UN GRUPO TIO HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, UN GRUPO ALKILTIO INFERIOR HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, UN GRUPO ARILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, UN GRUPO ARILOXI OPCIONALMENTE SUSTITUIDO O UN GRUPO ARALKILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO; Y R5 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO PROTECTOR DE ACIDO CARBOXILICO) CON UNA SAL DE FLUORURO DE HIDROGENO DE AMINA DE LA FORMULA GENERAL (I): (DONDE R6, R7 Y R8, QUE PUEDEN SER IGUALES O DIFERENTES, REPRESENTAN UN GRUPO ALKILO QUE TIENE DE 1 A 8 ATOMOS DE CARBONO, UN GRUPO ARILO, UN GRUPO ARALKILO O UN ATOMO DE HIDROGENO; N ES EL NUMERO DE FLUORUROS DE HIDROGENO INHERENTES EN UNA SAL DE AMINA DE INTERES) O UNA SAL DE FLUORURO DE HIDROGENO DE PIRIDINA DE LA FORMULA GENERAL (III): (DONDE PY ES UNA PIRIDINA OPCIONALMENTE SUSTITUIDA; N ES EL NUMERO DE FLUORUROS DE HIDROGENO INHERENTES EN UNA SAL DE PIRIDINA DE INTERES) EN UN SOLVENTE ORGANICO PARA OBTENER ASI UN COMPUESTO DE LA FORMULA GENERAL (IV): (DONDE X, R4 Y R5 REPRESENTAN LO INDICADO ANTERIORMENTE). SEGUN ESTE METODO, LOS COMPUESTOS DE SILILETER INESTABLES BAJO FUENTES CONDICIONES BASICAS O ACIDICAS SE PUEDEN DESILILAR DE MANERA EFICIENTE MEDIANTE LA UTILIZACION DE REACTIVOS BARATOS.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: SUNTORY LIMITED
NIPPON SODA CO., LTD.

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 1-40, DOJIMAHAMA 2-CHOME,KITA-KU, OSAKA-SHI, OSAKA.

Inventor/es: NAKATSUKA, TAKASHI, KANEBO, AKIRA, KAKU, TSUTOMU, ISHIGURO, MASAJI.

Fecha de Publicación: 1 de Enero de 2004.

Fecha Concesión Europea: 2 de Mayo de 2003.

Clasificación Internacional de Patentes:

C07D477/00 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07D COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares C08). › Compuestos heterocíclicos que contienen sistemas cíclicos 1-azabiciclo [3.2.0] heptano, p. ej. compuestos que contienen un sistema cíclico de fórmula: , p. ej. carbapenicilinas, tienamicinas; Estando a su vez dichos sistemas cíclicos condensados, p. ej. condensación 2-3 con heterociclos que contienen oxígeno, nitrógeno o azufre.
C07D499/88 C07D […] › C07D 499/00 Compuestos heterocíclicos que contienen sistemas cíclicos tío-4 aza-1 biciclo [3.2.0] heptano, es decir, compuestos que contienen un sistema cíclico de fórmula: , p. ej. penicilinas, penems; Dichos sistemas cíclicos a su vez condensados, p. ej. condensación 2-3 con heterociclos que contienen oxígeno, nitrógeno o azufre. › Compuestos que tienen un doble enlace entre las posiciones 2 y 3, y un átomo de carbono que tiene tres enlaces a heteroátomos, con a lo más un enlace a halógeno, p. ej. un radical ester o nitrilo, unido directamente en posición 2.

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