PROCEDIMIENTO DE DOPADO PARA PRODUCIR HOMOUNIONES EN SUSTRATOS DE SEMICONDUCTORES.
LA INVENCION DESCRIBE UN METODO DE IMPURIFICACION PARA FABRICAR HOMOUNIONES EN SUSTRATOS DE SEMICONDUCTORES EN LOS QUE LAS SUSTANCIAS DE IMPURIFICACION PENETRAN POR DIFUSION,
QUE INCLUYE UNA FUENTE LUMINOSA CUYO ESPECTRO DE EMISION CONTIENE COMPONENTES ULTRAVIOLETAS Y QUE INCIDE SOBRE LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO DE SEMICONDUCTOR. LA INVENCION SE CARACTERIZA PORQUE ENTRE EL SUSTRATO DE SEMICONDUCTOR A IMPURIFICAR Y LA FUENTE LUMINOSA SE INTRODUCE UNA MASCARA QUE, DEPENDIENDO DE LAS ZONAS A IMPURIFICAR CON SIMILAR CONCENTRACION DE IMPUREZAS, PRESENTA AREAS DE GROSOR VARIABLE HASTA LOS ORIFICIOS DE PASO DE LA MISMA; ENTRE LA MASCARA Y EL SUSTRATO DE SEMICONDUCTOR A IMPURIFICAR SE INSERTAN ATOMOS DE IMPUREZAS; Y PARA INTRODUCIR LAS IMPUREZAS POR DIFUSION EN EL SUSTRATO DE SEMICONDUCTOR SE ILUMINA LA SUPERFICIE DE LA MASCARA CON LA FUENTE LUMINOSA UTILIZANDO RAPID THERMAL PROCESSING (TRATAMIENTO TERMICO RAPIDO).
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FORDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V..
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: LEONRODSTRASSE 54,80636 MUNCHEN.
Inventor/es: SCHINDLER, ROLAND.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 28 de Agosto de 1996.
Fecha Concesión Europea: 6 de Febrero de 2002.
Clasificación Internacional de Patentes:
- H01L21/033 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › incluyendo capas inorgánicas.
- H01L21/225 H01L 21/00 […] › utilizando la difusión en o fuera de un sólido a partir de o en una fase sólida, p. ej. una capa de óxido dopada.
- H01L31/18 H01L […] › H01L 31/00 Dispositivos semiconductores sensibles a la radiación infrarroja, a la luz, a la radiación electromagnética de ondas más cortas, o a la radiación corpuscular, y adaptados bien para la conversión de la energía de tales radiaciones en energía eléctrica, o bien para el control de la energía eléctrica por dicha radiación; Procesos o aparatos especialmente adaptados a la fabricación o el tratamiento de estos dispositivos o de sus partes constitutivas; Sus detalles (H01L 51/42 tiene prioridad; dispositivos consistentes en una pluralidad de componentes de estado sólido formados en o sobre un sustrato común, diferentes a las combinaciones de componentes sensibles a la radiación con una o varias fuentes de luz eléctrica H01L 27/00). › Procesos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de estos dispositivos o de sus partes constitutivas.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Mónaco, Irlanda, Finlandia, Oficina Europea de Patentes.
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