USO DE PEROXIDOS DE ACILCARBONATO Y DE PEROXIDOS DE DIACILO INSATURADOS EN PROCEDIMIENTOS DE RETICULACION.

Procedimiento de curado de cauchos de silicona y/o resinas de poliéster insaturado en ellas que se usa un peróxido orgánico como una fuente de radicales libres, caracterizado porque al menos un peróxido orgánico se selecciona del grupo constituido por peróxidos según la fórmula

(I) y mezclas de los mismos, en donde n = 0 o 1, R1, R2, y R3 se seleccionan, independientemente, del grupo constituido por hidrógeno, alquilo C1-C20, alquenilo C2- C20, alquinilo C2-C20, cicloalquilo C3-C20, cicloalquenilo C3-C20, arilo C6-C20, aralquilo C7-C20 y alcarilo C7-C20, cuyos grupos pueden incluir restos alquilo lineales o ramificados y que, opcionalmente, están sustituidos con uno o más grupos seleccionados de hidroxi, alcoxi, polialquiloxi lineal o ramificado, ariloxi, halógeno, éster, cetona, carboxi, nitrilo y amido, en donde cualquier par de R1-R2, R1-R3, y R2-R3 puede enlazarse para formar una estructura cíclica, y R1, R2, y R3 pueden enlazarse también para formar una estructura policíclica, y R4 se selecciona del grupo de radicales constituidos por alquilo C1-C20, alquenilo C2-C20, alquinilo C2-C20, cicloalquilo C3- C20, cicloalquenilo C3-C20, arilo C6-C20, aralquilo C7-C20 y alcarilo C7-C20, cuyos grupos pueden incluir restos alquilo lineales o ramificados y que, opcionalmente, estáén sustituidos con uno o más grupos seleccionados de hidroxi, alcoxi, polialquiloxi lineal o ramificado, ariloxi, halógeno, éster, cetona, carboxi, nitrilo y amido, y radicales de las fórmulas II y III, (III), en la que m = 0 ó 1, R5 se selecciona de grupos alquileno C1-C20, alquenileno C1- C20, alquinileno C2-C20, cicloalquileno C3-C20, cicloalquenileno C3-C20, arileno C6-C20, aralquileno C7-20 y aralquenileno C7-C20, cuyos grupos pueden incluir restos alquilo lineales o ramificados y todos ellos pueden contener, opcionalmente, uno o más heteroátomos, y en donde R6, R7, R8, y R1´, R2´, R3´ se seleccionan, independientementeindependientemente , del grupo constituido por compuestos según la definición de R1, R2, y R3, respectivamente.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: AKZO NOBEL N.V..

Nacionalidad solicitante: Países Bajos.

Dirección: VELPERWEG 76,6824 BM.

Inventor/es: MEIJER, JOHN, JELENIC, JERNEII, NAVARRO, CHARLES, MANUEL.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 8 de Diciembre de 2000.

Fecha Concesión Europea: 9 de Junio de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION... > UTILIZACION DE SUSTANCIAS INORGANICAS U ORGANICAS... > Utilización de ingredientes orgánicos > C08K5/14 (Peróxidos)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION... > COMPOSICIONES DE COMPUESTOS MACROMOLECULARES (composiciones... > Composiciones de compuestos macromoleculares obtenido... > C08L83/04 (Polisiloxanos)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION... > COMPOSICIONES DE COMPUESTOS MACROMOLECULARES (composiciones... > Composiciones de compuestos macromoleculares obtenido... > C08L83/14 (en los que al menos dos, pero no todos los átomos de silicio están unidos por enlaces diferentes a los átomos de oxígeno (C08L 83/10 tiene prioridad))
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION... > COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES... > Compuestos macromoleculares obtenidos por interreacción... > C08F299/04 (a partir de poliésteres)

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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