SISTEMAS Y PROCEDIMIENTOS PARA ESTABILIZAR LA ROTACION DE CLICHES DE ESTAMPADO USADOS PARA TEJIDOS DE ESTAMPADO POR AIRE.

Un sistema para estampar una superficie de un tejido estampable usando un gas que comprende un cliché cilíndrico

(128) que tiene una superficie interior (223) y una superficie opuesta al tejido (233) y una lanza (100, 300, 500, 700) que incluye al menos una boquilla (216) en la misma colocada con respecto a la superficie interior del cliché (128) de manera que puede emitir una corriente de gas de modo que dicho gas se dirige a través de al menos una abertura (144) en el cliché (112) y cuando el sistema está en funcionamiento incide en la superficie estampable del tejido, teniendo la corriente de gas velocidad y colimación suficientes para crear depresiones estampadas visibles en la superficie del tejido en un patrón que corresponde a un patrón que caracteriza al menos a una abertura del cliché caracterizado por al menos un estabilizador de cliché (250, 251, 550, 900) accionable para aplicar una fuerza a la superficie interior del cliché (128) durante el funcionamiento del sistema, para reducir variaciones en una distancia que separa la superficie estampable del tejido y una parte de la superficie opuesta al tejido del cliché (128) directamente adyacente a la misma durante la rotación del cliché (128).

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: MICROFIBRES, INC..

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 1 MOSHASSUCK STREET,PAWTUCKET,RI 02862.

Inventor/es: LAIRD, WILLIAM, CROMPTON, KEVIN, R.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 3 de Agosto de 2001.

Fecha Concesión Europea: 27 de Abril de 2005.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION D — TEXTILES; PAPEL > TRATAMIENTO DE TEXTILES O SIMILARES; LAVANDERIA;... > ACABADO, APRESTO, RAMEADO O ESTIRADO DE TEJIDOS TEXTILES... > Producción de motivos o dibujos sobre tejidos (por... > D06C23/04 (por contracción, estampado, muarado o rizado)

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Guinea Ecuatorial, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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