NUEVOS COMPUESTOS DE INDANILIDENO.

Procedimiento para la obtención de compuestos de indanilideno de la fórmula donde R1 a R4 independientemente entre sí, significa hidrógeno, alquilo con 1 a 20 átomos de carbono o cicloalquilo con 5 a 10 átomos de carbono, con la condición de que también dos substituyentes en átomo de carbono adyacentes puedan significar conjuntamente un grupo alquileno con 1 a 4 átomos de carbono, en caso dado substituido; además, independientemente entre sí, alquilo con 2 a 20 átomos de carbono, en el que al menos un grupo metileno pueda estar substituido por oxígeno, alquenilo con 3 a 20 átomos de carbono, alquinilo con 3 a 20 átomos de carbono, o un grupo S, pudiendo ser S un grupo silano, oligosiloxano o polisiloxano; R5 a R8 independientemente entre sí, significan hidrógeno, alquilo con 1 a 20 átomos de carbono o cicloalquilo con 5 a 10 átomos de carbono o alcoxi con 1 a 20 átomos de carbono, cicloalcoxi con 5 a 10 átomos de carbono, hidroxi, acetoxi, acetamino, carboxi, carbalcoxi o carbamoilo, adicionalmente, dos substituyentes de R5 a R8 en átomos de carbono adyacentes pueden formar conjuntamente un anillo de 5 a 7 eslabones, que contiene hasta tres heteroátomos, en especial oxígeno o nitrógeno, pudiendo estar substituidos los átomos de anillo por oxígeno unido mediante doble enlace hexocíclico

(grupo ceto), además, en el caso de alcoxi, independientemente entre sí, pueden significar alquilo con 2 a 20 átomos de carbono, en el que al menos un grupo metileno puede estar substituido por oxígeno, alquenilo con 3 a 20 átomos de carbono, alquinilo con 3 a 20 átomos de carbono, o un grupo S, pudiendo ser S un grupo silano, oligosiloxano o polisiloxano; X representa ciano, CON(R)2 o CO2R, representando R hidrógeno o alquilo con 1 a 8 átomos de carbono; n representa 1 o 0; R9 a R11 en el caso de n = 1, pueden significar hidrógeno, alquilo con 1 a 20 átomos de carbono o cicloalquilo con 5 a 10 átomos de carbono, arilo o heteroarilo, adicionalmente, dos substituyentes de R9 a R11 pueden formar, junto con el átomo, un anillo de 3 a 7 eslabones, que puede contener hasta tres hetoroátomos, en especial oxígeno o nitrógeno, además, en el caso de n = 0, R9 a R10 significan, junto con el átomo un resto arilo o heteroarilo, y en el que se obtienen compuestos de indanilideno de la fórmula (I) mediante condensación de (Knoevenagel) de compuestos de la fórmula teniendo R1 a R8 el significado citado anteriormente, con compuestos de la fórmula teniendo R9 a R11 y X el significado citado anteriormente.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: SYMRISE GMBH & CO. KG.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: MUHLENFELDSTRASSE 1,37603 HOLZMINDEN.

Inventor/es: DILK, ERICH, KOCH, OSKAR, LANGNER, ROLAND, JOHNCOCK, WILLIAM, DR.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 30 de Octubre de 2001.

Fecha Concesión Europea: 4 de Agosto de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos... > Nitrilos de ácidos carboxílicos (cianógeno o sus... > C07C255/40 (estando la estructura carbonada sustituida por átomos de oxígeno unidos por enlaces dobles)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS, CARBOCICLICOS O HETEROCICLICOS... > Compuestos que contienen elementos de los grupos... > C07F7/08 (Compuestos que tienen uno o más enlaces C — Si)
  • A61K7/42
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares... > Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de... > C07D319/18 (Etilenodioxibencenos, no sustituidos en el heterociclo)
  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > MATERIALES FOTOSENSIBLES PARA FOTOGRAFIA; PROCESOS... > Materiales fotosensibles (materiales fotosensibles... > G03C1/815 (caracterizados por medios para filtrar o absorber la luz ultravioleta, p. ej. agentes para el blanqueo óptico (para la reproducción fotográfica G03C 5/10; para intensificar las imágenes obtenidas mediante rayos X G03C 5/17))

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Guinea Ecuatorial, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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