7 inventos, patentes y modelos de SAKANE, KAZUO

  1. 1.-

    COMPUESTOS DE CEFEMA DE ACTIVIDAD ANTIMICROBIANA.

    (12/1997)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/48.

    EL INVENTO SE REFIERE A UN COMPUESTO DE FORMULA (I) Y SU SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE, A LOS PROCESOS DE PREPARACION DEL MISMO, A UNA COMPOSICION FARMACEUTICA QUE CONTIENE EL MISMO Y A UN METODO PARA PREVENIR Y/O TRATAR LAS ENFERMEDADES INFECCIOSAS EN LOS SERES HUMANOS Y EN LOS ANIMALES. EN LA CITADA FORMULA (I), R1 ES AMINO O AMINO PROTEGIDO, R2 ES ETILO, PROPILO, CICLO(INFERIOR)ALQUILO , 1-METILPROPENILO O 2-METILPROPENILO, R3 ES HIDROXI(INFERIOR)ALQUILO O HIDROXI(INFERIOR)ALQUILO PROTEGIDO Y R4 ES AMINIO O AMINO PROTEGIDO.

  2. 2.-

    NUEVOS COMPUESTOS DE CEFEMA Y PROCESO PARA LA PREPARACION DE LOS MISMOS.

    (10/1996)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/18, C07D501/46.

    SE PRESENTA UN COMPUESTO DE LA FORMULA I EN DONDE, R1 ES AMINO O UN GRUPO AMINO PROTEGIDO, Z ES N O CH, R2 ES UN GRUPO ORGANICO Y R ES UN GRUPO DE LA FORMULA II, EN LA CUAL R3 Y R4 SON CADA UNO ALKIL INFERIOR , O R3 Y R4 ESTAN ENLAZADOS JUNTOS PARA FORMAR UN ALKILENO C3 - C5, A ES UN ALKILENO INFERIOR Y R5 ES HIDROXIDO O UN GRUPO DE HIDROGENO PROTEGIDO O UN GRUPO DE LA FORMULA III EN LA CUAL, R5 ES ALKIL INFERIOR, R 7 Y R8 SON CADA UNO HIDROXIDO O UN GRUPO HIDROXIDO PROTEGIDO, Y ES N O CH Y UNA SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE DE LOS MISMOS, TAMBIEN SE PRESENTAN PROCESOS PARA SU PREPARACION Y COMPUESTOS FARMECEUTICOS QUE LOS COMPRENDEN COMO INGREDIENTES ACTIVOS. EL INVENTO SE REFIERE TAMBIEN A LOS INTERMEDIOS DE LA FORMULA IV Y SU PREPARACION.

  3. 3.-

    NUEVOS COMPUESTOS CEFEM PARA SU PREPARACION Y PREPARADOS FARMACEUTICOS QUE LOS CONTIENEN.

    (12/1994)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/18, C07D501/46.

    LA INVENCION SE REFIERE A UN COMPUETSO DE FORMULA (I) EN LA QUE R1 Y R4 SON CADA UNO UN GRUPO AMINO O AMINO PROTEGIDO; R2 ES UN GRUPO CARBOXI-ALQUILO DE CADENA CORTA QUE PUEDE ESTAR PROTEGIDO; R3 ES ALQUILO O HIDROXI-ALQUILO DE CADENA CORTA QUE PUEDE ESTAR PROTEGIDO Y R5 ES HIDROGENO O ALQUILO DE CADENA CORTA. TAMBIEN SE REFIERE A UNA SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE DEL COMPUESTO I, A PROCESOS PARA SU PREPARACION Y A PREPARACIONES FARMACEUTICAS QUE LO CONTIENEN COMO INGREDIENTE ACTIVO. ASIMISMO SE DESCRIBEN COMPUESTOS INTERMEDIOS DE FORMULA (II) Y SU PREPARACION.

  4. 4.-

    NUEVOS COMPONENTES CEFEM Y PROCESO PARA LA PREPARACION DE ELLO

    (12/1994)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/46.

    UN COMPONENTE DE LA FORMULA (I) EN DONDE R1 ES AMINO O AMINO PROTEGIDO, R2 ES ALKIL BAJO O ALKENIL BAJO, R3 ES ALKIL BAJO, HIDROXI (BAJO) ALKIL O HIDROXI (BAJO) ALKIL PROTEGIDO; R4 ES AMINO, AMINO PROTEGIDO, ALKILAMINO BAJO, ALKILAMINO BAJO PROTEGIDO, CARBOXI (BAJO) ALKILAMINO. N - [ALKIL (BAJO) CARBOXI PROTEGIDO] AMINO Y R7 ES HIDROGENO O ALKIL BAJO, Y UNA SAL ACEPTABLE FARMACEUTICAMENTE DE ELLO, PROCESOS PARA SU PREPARACION Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LAS COMPRENDEN COMO UN INGREDIENTE ACIVO EN MEZCLAS CON PORTADORES ACEPTABLES FARMACEUTICAMENTE.

  5. 5.-

    NUEVO COMPONENTE CEFEM Y UN PROCESO PARA SU PREPARACION.

    (12/1994)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/46.

    UN COMPONENTE DEFEM DE LA FORMULA: EN DONDE R1 ES AMINO O UN AMINO PROTEGIDO, R2 ES ALKIL BAJO QUE DEBE TENER UNO O MAS SUSTITUYENTES CONVENIENTES, R3 ES COO(THETA), CARBOXI O UN CARBOXI PROTEGIDO, R4 ES HIDROXI (BAJO ALKIL O HIDROXI (BAJO) ALKIL PROTEGIDO , R5 ES AMINO O UN AMINO PROTEGIDO, R6 ES HIDROGENO O ALKIL BAJO, X(THETA) ES UN ANION Y N ES 0 O 1, CON PREVISTO QUE: (I) CUANDO R3 ES COO(THETA), ENTONCES N ES 0 Y (II) CUANDO R3 ES CORBOXI O UN CARBOXI PROTEGIDO, ENTONCES N ES 1. Y SALES ACEPTABLES FARMACEUTICAMENTE DE ELLO, PROCESO PARA SU PREPARACION Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LES COMPRENDAN COMO INFGREDIENTES ACTIVOS EN MEZCLA CON PORTADORES ACEPTABLES FARMACEUTICAMENTE.

  6. 6.-

    COMPUESTO DE ANTIBIOTICOS SOLUBLE EN AGUA Y SALES SOLUBLES EN AGUA DE COMPUESTOS CEFEN NUEVOS

    (11/1994)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/46.

    UN COMPUESTO ANTIBIOTICO SOLUBLE EN AGUA COMPRENDE CRISTALES DE UN COMPUESTO CEFEN CON LA SIGUIENTE FORMULA; DONDE R1 ES UN RESIDUO DE UN HIDROCARBURO ALIFATICOS, EL CUAL PUEDE TENER SUBSTITUYENTES CONVENIENTES, Y R2 ES UN ALKILO (BAJO) HETERONIO, O UNA SAL DE ACIDO DE ELLO, EN UNA SAL ACIDA TAMBIEN CUENTAN CON UNA SAL QUE COMPRENDE CATIONES Y ANIONES DE LA FORMULA: DONDE R1 ES UN RESIDO DE UN HIDROCARBURO ALIFATICO EL CUAL PUEDE TENER SUBSTITUYENTES CONVENIENTES, R2 ES UN ALKILO (BAJO) HETERONIO, UN PROCESO PARA PREPARAR TAL SAL Y UN COMPUESTO FARMACEUTICO COMPRENDIENDOLO.

  7. 7.-

    PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE COMPUESTOS DE 7-(2-(2-AMINOTIAZOL-4-IL)-2-HIDROCIIMINOACETAMINO)-3-CEFEM.

    (06/1990)
    Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/04.

    PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE COMPUESTOS DE 7-[2-(2-AMINOTIAZOL-4-IL)-2-HIDROXIIMINOACETAMIDO]-3-CEFEM DE FORMULA:.