6 inventos, patentes y modelos de MARTYAK, NICHOLAS M.

  1. 1.-

    Compuesto anti-formación de piel y composiciones que lo contienen

    (06/2012)

    Uso de una combinación sinérgica de una hidroxilamina e hidroquinona en una relación de hidroxilamina a hidroquinona que oscila entre 0,1 a 10 y 10 a 0,1 partes en peso en calidad de un agente anti-formación de piel en un material de revestimiento, pintura o acabado que contiene un formador de película de secado por oxidación.

  2. 2.-

    COMPUESTO INHIBIDOR DE LA FORMACIÓN DE PIEL, Y COMPOSICIONES QUE LO CONTIENEN

    (04/2011)

    Un material de revestimiento, pintura o acabado que contiene un formador de película que seca de forma oxidativa, y, como un agente inhibidor de la formación de piel, una combinación que comprende a) un depurador orgánico de oxígeno de la fórmula general en la que R 1 y R 2 representan mutua e independientemente hidrógeno, una molécula o radical alifático de C1-C20 lineal o ramificado, saturado o insaturado, que puede estar opcionalmente mono- o polisustituido, o una molécula o radical arílico de C6-C12, una molécula o radical aralifático de C7-C14, o una molécula o radical cicloalifático de C5-C7, b) una alquilamina de fórmula (II) en la que R 3 , R 4 y R 5 pueden ser mutua e independientemente hidrógeno, pero...

  3. 3.-

    PROCESO PARA LA PRODUCCION DE REVESTIMIENTOS ELECTROGALVANICOS SEMI-BRILLANTES Y BRILLANTES CON ALTA DENSIDAD DE CORRIENTE A PARTIR DE UN BAÑO QUE COMPRENDE UNA SAL DE CINC DE UN ACIDO QUE CONTIENE AZUFRE, Y COMPOSICION PARA EL MISMO.

    (03/2004)

    LOS INVENTORES DESCRIBEN UN PROCEDIMIENTO DE PRODUCCION DE REVESTIMIENTOS ELECTROGALVANICOS, BRILLANTES Y SEMI-BRILLANTES, A ELEVADAS DENSIDADES DE CORRIENTE, QUE COMPRENDE ELECTROPLAQUEAR UN SUSTRATO CATODICO CONDUCTOR, EN UN BAÑO DE REVESTIMIENTO A BASE DE: A) UNA SAL DE ZINC DE ACIDO DE AZUFRE; B) UN POLIOXIALQUILEN GLICOL, DE BAJO PESO MOLECULAR, A BASE DE OXIDOS DE ALQUILENO DE ENTRE APROX. 2 Y 4 ATOMOS DE CARBONO; C) UN SULFONATO AROMATICO; Y D) UNA SAL PROMOTORA DE LA CONDUCTIVIDAD. DICHO PROCEDIMIENTO, CONSISTE EN MANTENER LA COMPOSICION DE REVESTIMIENTO, A UN PH ENTRE APROX. 2 Y 5, Y LA DENSIDAD DE CORRIENTE SOBRE EL SUSTRATO, ENTRE APROX. 1000 Y APROX. 3700 ASF. LA SAL DE...

  4. 4.-

    PROCEDIMIENTO Y COMPOSICIONES DE ELECTRODEPOSICION DE CLORURO DE ZINC CON ALTA DENSIDAD DE CORRIENTE.

    (02/2002)

    UN PROCEDIMIENTO Y COMPOSICION DE ELECTROGALVANIZACION PARA REDUCIR LA FORMACION DE DENDRITO DE ALTA DENSIDAD DE CORRIENTE (HCD) E INCINERACION DE BORDE Y CONTROLAR LA RUGOSIDAD DE DENSIDAD DE ALTA CORRIENTE, EL TAMAÑO DE GRANO Y LA ORIENTACION DE UN RECUBRIMIENTO DE ZINC OBTENIDO DE UN BAÑO RECUBRIDOR ELECTROGALVANICO ACIDICO ACUOSO DE HALURO DE ZINC. UN HOMOPOLIMERO DE GLICOL POLIOXIALQUILENO DE BAJO PESO MOLECULAR O COPOLIMERO BASADO EN OXIDOS DE ALQUILENO DE 3 A 4 ATOMOS DE CARBONO COMO UN AGENTE DE REFINAMIENTO DE GRANO EN COMBINACION CON UN PRODUCTO DE CONDENSACION SULFONADO DE NAFTALENO...

  5. 5.-

    PROCEDIMIENTO DE CHAPADO ELECTROLITICO CON SULFATO DE ZINC A ALTA DENSIDAD DE CORRIENTE Y COMPOSICION PARA EL MISMO.

    (11/1999)
    Solicitante/s: ATOTECH USA, INC.. Clasificación: C25D3/22.

    SE PRESENTA UNA COMPOSICION Y UN PROCEDIMIENTO DE ELECTROGALVANIZACION DE ALTA DENSIDAD DE CORRIENTE PARA REDUCIR LA FORMACION DE DENDRITA Y LOS BORDES QUEMADOS Y CONTROLAR LA RUGOSIDAD, EL TAMAÑO DEL GRANO Y LA ORIENTACION DE UN REVESTIMIENTO DE ZINC OBTENIDO A PARTIR DE UN BAÑO DE REVESTIMIENTO GALVANICO, ACIDO, ACUOSO DE SULFATO DE ZINC. LA COMPOSICION COMPRENDE UN AGENTE DE REFINAMIENTO DEL GRANO DE GLICOL DE POLIOXIALQUILENO DE ALTO PESO MOLECULAR EN COMBINACION CON UN PRODUCTO SULFONADO DE CONDENSACION DE NAFTALENO Y FORMALDEHIDO QUE SE UTILIZA COMO AGENTE ANTIDENDRITICO.

  6. 6.-

    BAÑO DE CHAPADO ELECTROLITICO PARA DEPOSICION FUNCIONAL, CON ALTOS RENDIMIENTOS, DE CROMO BRILLANTE Y LISO, Y PROCEDIMIENTO DE CHAPADO ELECTROLITICO QUE EMPLEA DICHO BAÑO.

    (02/1990)
    Solicitante/s: M & T CHEMICALS, INC.. Clasificación: C25D3/10.

    SE DESCRIBE UN BAÑO MEJORADO DE CHAPADO ELECTROLITICO DE CROMO PARA DEPOSICION DE CAPAS DE CROMO FUNCIONAL QUE SON BRILLANTES Y LISAS A DENSIDADES DE CORRIENTE DE 0,155-1,55 A/CM2 Y A ALTOS RENDIMIENTOS.