8 inventos, patentes y modelos de HUNZIKER, MAX, DR.

  1. 1.-

    NUEVOS (MET)ACRILATOS CONTENIENDO GRUPOS URETANO.

    (12/2000)
    Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: C07C271/24, C07C271/12, C08J3/28, C07C271/28, G03F7/031, C07D303/16, C07C271/34, C07C271/36, C07C271/38.

    LA INVENCION SE REFIERE A NUEVO (MET)ACRILATO QUE CONTIENE GRUPOS URETANO, CONTENIENDO EN UNA Y EN LA MISMA MOLECULA UN GRUPO (MET)ACRILATO Y UN GRUPO URETANO, ASI COMO OTROS GRUPOS POLIMERIZABLES Y PUEDEN POLIMERIZAR, TANTO DE FORMA RADICAL, COMO DE FORMA CATIONICA, SIENDO UTILIZADOS PARA LA ELABORACION DE RECUBRIMIENTOS, AGLOMERANTE, PRODUCTOS FOTORRESISTENTES, MASCARAS DE SOLDADURA BLANDA EN LA ESTEREOLOTOGRAFIA. LOS CUERPOS DE MOLDE ELABORADOS CON ELLO CONTIENEN UNA ESTRUCTURA DE RED HOMOGENEA, DE SUSPENSION CONJUNTA Y MUESTRAN ALTAS PROPIEDADES DE RESISTENCIA, SOBRE TODO PROPIEDADES MECANICAS.

  2. 2.-

    COMPUESTOS VINILETER CON GRUPOS FUNCIONALES ADICIONALES, DISTINTOS DE VINILETER, Y SU UTILIZACION EN LA FORMULACION DE COMPUESTOS RETICULABLES.

    (10/2000)
    Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: C08F2/48, C07D303/40, C07C271/18, G03C9/08, C07D303/28, C07C271/38, G03F7/028.

    LA INVENCION SE REFIERE A COMPUESTOS CON AL MENOS UN GRUPO ETER VINIL, QUE MUESTRAN AL MENOS UN OTRO GRUPO FUNCIONAL ELEGIDO A PARTIR DE LOS GRUPOS DE ACRILATO, METACRILATO, EPOXI, ALQUENIL, CICLOALQUENIL ASI COMO GRUPOS VINILARIL EN LA MOLECULA, COMPOSICIONES ESPECIALMENTE PARA ESTEREO LITOGRAFIA, CON ESTOS COMPUESTOS DE ETER VINIL Y UN PROCEDIMIENTO PARA LA ELABORACION DE OBJETOS TRIDIMENSIONALES CON LA AYUDA DE LAS COMPOSICIONES.

  3. 3.-

    COMPOSICION LIQUIDA ENDURECIBLE CON RADIACION, EN PARTICULAR PARA ESTEREOLITOGRAFIA

    (04/1999)
    Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: G03F7/032, G03C9/08, G03F7/075.

    SE DESCRIBEN COMPOSICIONES LIQUIDAS ENDURECIBLE CON RADIACION, EN PARTICULAR PARA ESTEREOLITOGRAFIA, SOBRE LA BASE AL MENOS DE UN COMPUESTO, QUE MUESTRA GRUPOS POLIMERIZABLES RADICALMENTE, Y AL MENOS UN FOTOINICIADOR APROPIADO PARA ESTA POLIMERIZACION, QUE ESTA CARACTERIZADO PORQUE CONTIENEN ADICIONALMENTE UN COPOLIMERO DE BLOQUE POLIOXIALQUILENO LAS FORMULAS QUIMICAS: DONDE R1 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO C1 FENIL; [T] ES UN GRUPO [PS] POLISILOXANO DETERMINADO, ESPECIFICADOR EN EL TEXTO SEGUN FORMA DESCRITA; [PS] REPRESENTA GRUPOS DE LA FORMULA Y [ALQ] REPRESENTA UN GRUPO ALQUILENO CON 3 HASTA 10 ATOMOS DE CARBONO, ASI COMO NUEVO COPOLIMERO DE BLOQUE DE LAS FORMULAS (I) Y (II). LAS COMPOSICIONES ENDURECIDAS MUESTRAN POR EJEMPLO UNA ALTA TENACIDAD DE IMPACTO.

  4. 4.-

    NUEVOS COMPUESTOS EPOXIDOS CICLOALIFATICOS

    (06/1998)
    Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08L63/10, G03F7/038, C07D303/12, C08G59/17.

    NUEVOS COMPUESTOS EPOXIDOS CICLOALIFATICOS QUE CONTIENEN EN LA MOLECULA POR LO MENOS UN GRUPO ACRILATO Y POR LO MENOS UN GRUPO EPOXIDO CICLOALIFATICO, PUEDEN EMPLEARSE PARA PRODUCIR MEDIOS DE RECUBRIMIENTO, ADHESIVOS, FOTORESISTENTE O EN LA ESTEROLITOGRAFIA QUE CONTIENEN UNA ESTRUCTURA HOMOGENEA FUNDAMENTAL PRESENTANDO EL MOLDE UNA BUENA RESISTENCIA FUNDAMENTAL Y BUENAS PROPIEDADES DE RESISTENCIA.

  5. 5.-

    COMPOSICION FOTOSENSIBLE

    (06/1997)
    Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08L63/00, C08L75/00, C08F283/10, C08L67/00, C08L71/02, C08G59/68, G03C9/08.

    LA INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION FOTOSENSIBLE CONTENIENDO A) 40 A 80% EN PESO POR LOS MENOS DE UNA RESINA EPOXI FLUIDA CON UNA FUNCIONALIDAD EPOXIDO MAYOR O IGUAL A 2: B) 0,1 A 10% EN PESO POR LO MENOS DE UN FOTOINICIADOR CATIONICO PARA EL COMPONENTE A); C) 5 A 40% EN PESO POR LO MENOS DE UN DIACRILATO CICLOALIFATICO O AROMATICO; D) 0 A 15% EN PESO POR LO MENOS DE UN POLIMETACRILATO FLUIDO CON UNA FUNCIONALIDAD METACRILATO MAYOR QUE 2, POR LO QUE EL CONTENIDO EN METACRILATO ASCIENDE A LO SUMO AL 50% EN PESO; E) 0,1 A 10% EN PESO POR LOS MENOS DE UN FOTOINICADOR RADICAL PARA EL COMPONENTE C Y EN CASO DADO D Y F) 5 A 40% EN PESO POR LO MENOS DE UN POLIETER, POLIESTER O POLIURETANO TERMINADO EN OH QUE SON APROPIADOS PARA LA PRODUCCION DE CAPAS FOTOPOLIMERIZADAS, PARTICULARMENTE OBJETOS TRIDIMENSIONALES.

  6. 6.-

    MEZCLAS POLIMERIZABLES QUE CONTIENEN TETRAACRILATO

    (06/1996)
    Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: G03F7/027, C08F20/36, G03C9/08.

    MEZCLAS POLIMERIZABLES, QUE CONTIENEN (A) UN TETRAACRILATO DE LA FORMULA I O II, EN DONDE R1 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O METILO, X1 Y X2, INDEPENDIENTES ENTRE SI, REPRESENTAN -OALIFATICO O AROMATICO DE UNA COMBINACION DIGLICIDILO QUE YA NO PRESENTA NINGUN GRUPO ETER GLICIDILO O GRUPO ESTER GLICIDILO, A REPRESENTA UN RESTO BIVALENTE ALIFATICO, CICLOALIFATICO O AROMATICO DE UNA COMBINACION DIISOCIANATO QUE YA NO PRESENTA NINGUN GRUPO ISOCIANATO, N REPRESENTA UN NUMERO ENTERO DESDE 1 HASTA 8 Y R3 SIGNIFICA UN RESTO TETRAVALENTE CICLOALIFATICO DE UNA COMBINACION DIEPOXIDO QUE YA NO PRESENTA NINGUN GRUPO 1,2-EPOXIDO COMBINADO EN EL ANILLO CICLOALIFATICO, (B) POR LO MENOS UNA COMBINACION LIQUIDA POLIMERIZABLE RADICALMENTE DE MODO DIFERENTE DE LOS COMPONENTES (A) Y (C) UN FOTOINICIADOR RADICAL; ESTAS MEZCLAS SON APROPIADAS CON PREFERENCIA PARA LA FABRICACION DE OBJETOS TRIDIMENSIONALES POR MEDIO DEL PROCESO ESTEREOLITOGRAFICO.

  7. 7.-

    COMPUESTOS FOTOSENSIBLES.

    (03/1996)
    Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: G03F7/032, C08G63/58, C08G63/52, G03C9/08.

    COMPUESTOS FOTOSENSIBLES QUE CONTIENEN A) 5-95% EN PESO DE UN POLIESTER DE LAS FORMULAS I, II O III EN DONDE R1 EQUIVALE A UN RESTO DE ANHIDRIDO CICLICO DE UN ACIDO DICARBOXILICO DESPUES DE ELIMINAR EL GRUPO TUIDO POR C1 ALQUENILO, C6 PUEDE ESTAR INTERRUMPIDO POR O, C1 C5 O UN RESTO QUIVALE A C1 LOS ATOMOS DE CARBONO, A LOS QUE VAN UNIDOS, EQUIVALEN A UN RESTO DE CICLOPENTILENO O CICLOHEXILENO, R4 UN RESTO CON 4 A 12 ATOMOS DE CARBONO QUE CONTIENE UN GRUPO FINAL NO SATURADO Y GRUPOS CARBOXILO O ETER, A REPRESENTA UN CARBOXILATO O ALCOHOLATO MONO O MULTIFUNCIONAL DE BAJO O ALTO PESO MOLECULAR, X UN NUMERO ENTRE 0 Y 100, N UN NUMERO ENTRE 2 Y 150 Y Z UN NUMERO ENTRE 1 Y 4. B) 10-90% EN PESO DE UN (MET)ACRILATO LIQUIDO, POLIFUNCIONAL ALIFATICO, CICLOALIFATICO O AROMATICO, C) 0-70% EN PESO DE UN MONO MOLECULAR DE 500 COMO MAXIMO, D) 0,1-10% EN PESO DE UN FOTOINICIADOR Y, DADO EL CASO, E) 0-10% EN PESO DE ADITIVOS CORRIENTES.

  8. 8.-

    COMPOSICIONES FOTOCURABLES

    (05/1995)
    Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C09D4/02, G03C9/08, C08F220/20.

    LA INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION DE RESINA LIQUIDA QUE PUEDE POLIMERIZARSE MEDIANTE RADIACION Y QUE CONTIENE: (I) UN ACRILATO O METACRILATO MONOMERICO O POLIMERICO DIFUNCIONAL (II) UN ACRILATO O METACRILATO TRIFUNCIONAL O POLIFUNCIONAL (III) AL MENOS UN COMPUESTO MONOMERICO MONOFUNCIONAL SIN SATURAR DE LA FORMULA VI EN DONDE R5 DENOTA HIDROGENO O METILO Y R6 ES UN GRUPO DE LA FORMULA VII R7 ES TETRAHIDROFURFURILO, CICLOHEXILO, 2-FENOXIETILO, BENZOILO, ISOBORNILO, GLICIDILO, DICICLOPENTENILO, MORFOLINOETILO, DIMETILAMINOETILO, DIETILAMINOETILO O UN RESIDUO C1-C20 ALIFATICO LINEAL O DERIVADO, O SI R5 ES HIDROGENO R6 DENOTA ADICIONALMENTE PIRROLIDINON-2-IL, IMIDAZONILO, CARBAZOLILO, ANTRACENILO, FENILO, C5-C8CICLOALQUILO, NAFTENILO, 2-NORBORNILO, PIRIDILO, N-CAPROLACTAMILO O TOLUILO Y (IV) UN INICIADOR DE FOTOPOLIMERIZACION PARA (I), (II) Y/O (III). DICHA COMPOSICION RESULTA IDEAL EN EL PROCESO ESTEREOLITOGRAFICO, COMO LOS REVESTIMIENTOS PROTECTORES O ADHESIVOS.