14 inventos, patentes y modelos de DAHMS, WOLFGANG

  1. 1.-

    Disolución ácida que contiene un compuesto de polivinilamonio y método de depositar electrolíticamente un depósito de cobre

    (05/2015)

    Una disolución ácida acuosa para depositar electrolíticamente recubrimientos de cobre, conteniendo dicha disolución ácida iones cobre, caracterizada porque dicha disolución contiene al menos un compuesto de polivinilamonio seleccionado del grupo que comprende compuestos que tienen la fórmula química general (I):**Fórmula** en la que I y m son índices de unidades de monómero que indican la fracción, que va a expresarse en [% en moles], de las unidades de monómero respectivas en el compuesto de polivinilamonio, en la que l + m en el compuesto es el 100 % en moles caracterizada porque m esté en un intervalo del 1 al 100 % en moles, referente...

  2. 2.-

    BAÑO DE ELECTRODEPOSICION ACIDO Y METODO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE DEPOSITOS DE NIQUEL SATINADOS

    (10/2009)

    Un baño de electrodeposición ácido para la deposición electrolítica de depósitos de níquel satinado que contiene por lo menos un compuesto de amonio cuaternario y por lo menos un poliéter, teniendo el por lo menos un poliéter la fórmula química general siguiente (I): ** ver fórmula** en donde R1 y R1'' son independientemente hidrógeno o metilo y pueden seleccionarse independientemente en cada unidad [(CH2CHR1O)]a-CHR1'' -CH3, R 3 es hidrógeno o un alquilo C1-C18 de cadena lineal o ramificada, a es un número entero de 1 a...

  3. 3.-

    MEZCLA DE COMPUESTOS OLIGOMERICOS DE FENAZINIO Y BAO ACIDO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE UN REVESTIMIENTO DE COBRE

    (06/2009)
    Ver ilustración. Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: C25D3/38, C25D7/12.

    Una mezcla de compuestos oligoméricos de fenazinio que contiene por lo menos un compuesto de fenazinio, seleccionado de entre el grupo que comprende #a) compuestos que contienen dos unidades monoméricas que tienen la siguiente fórmula química general <I>: **(Ver fórmula)** y #b) compuestos que contienen tres unidades monoméricas que tienen la siguiente fórmula química general <II> **(Ver fórmula)** así como otros compuestos oligoméricos de fenazinio adicionales, en donde, en las anteriormente mencionadas fórmulas químicas <I> y <II>, la unidad de estructura N(R 5/50 /50 0 )CC(R 4/40 /40 0 )C (R (3/30 /30 0 ) tiene una de las fórmulas químicas generales <IIIa> ó <IIIb>: **(Ver fórmula)**.

  4. 4.-

    BAO ACIDO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE UN DEPOSITO DE COBRE QUE CONTIENE COMPUESTOS DE FENAZINIO MONOMEROS HALOGENADOS O SEUDOHALOGENADOS

    (11/2008)

    Compuestos de fenazinio monoméricos halogenados o seudohalogenados de una pureza por lo menos del 85% molar que tienen la fórmula química general siguiente: (Ver fórmula) en la que R 1 , R 2 , R 4 , R 6 , R 7 ¿, R 7 ¿, R 8 y R 9 se eligen con independencia entre sí entre el grupo formado por hidrógeno, halógeno, amino, aminoalquilo, hidroxi, ciano, tiocianato, isotiocianato, cianato, isocianato, mercapto, carboxi, sus sales, ésteres de ácidos carboxílicos, sulfo, sus sales, ésteres de ácidos sulfónicos, alquilo C1-C4, arilo sin sustituir, arilo sustituido, heteroarilo y heterorradicales alicíclicos, R 5 se elige entre el grupo formado por alquilo...

  5. 5.-

    SOLUCION ACIDICA ACUOSA Y METODO PARA DEPOSITAR ELECTROLITICAMENTE RECUBRIMIENTOS DE COBRE ASI COMO EL USO DE DICHA SOLUCION

    (05/2008)
    Ver ilustración. Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: C25D3/38.

    Una solución acídica acuosa para depositar electrolíticamente recubrimientos de cobre, conteniendo dicha solución por lo menos un compuesto de polialquilenglicol y por lo menos un compuesto de azufre soluble en agua, caracterizado porque la solución contiene, adicionalmente, por lo menos un derivado de halógeno aromático que tiene la fórmula general (I) (Ver fórmula) en donde R1, R2, R3, R4, R5 y R6 son cada uno independientemente radicales elegidos del grupo que comprende hidrógeno, aldehido, acetilo, hidroxilo, hidroxialquilo con 1-4 átomos de carbono, alquilo con 1-4 átomos de carbono y halógeno, con la condición de que el número de radicales R1, R2, R3, R4, R5 y R6 que son halógeno oscila entre 1-5 y en que por lo menos uno de R 1, R 2, R 3, R 4, R 5 y R 6 se elige del grupo constituido por hidroxilo, aldehido, acetilo e hidroxialquilo con 1-4 átomos de carbono, en donde la concentración del a lo menos un derivado de halógeno aromático oscila entre 0,005 y 0,9 mg/l.

  6. 6.-

    COMPOSICIONES DE TRATAMIENTO DEL CABELLO.

    (12/2006)
    Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: A61K7/06, A61K8/06, A61Q5/12, A61K8/895.

    Una composición para el tratamiento del cabello que comprende gotitas discretas, caracterizada porque las gotitas, dentro de la misma gota, comprenden: (i) una silicona funcionalizada seleccionada entre siliconas amino-, carboxi-, betaína-, amonio cuaternario-, carhidrato-, hidroxi- y alcoxi-substituida; y (ii) un aceite hidrocarburado; en la que las gotitas discretas comprenden al menos 5% en peso de silicona funcionalizada y al menos 5% en peso de aceite hidrocarburado expresados como un porcentaje del peso total de las gotitas.

  7. 7.-

    RECUBRIMIENTO EN NIQUEL O ALEACION DE NIQUEL CON ACABADO SATINADO.

    (07/2006)

    Baño ácido de electrorecubrimiento de níquel o aleación de níquel para la deposición de un recubrimiento de níquel o aleación de níquel con acabado satinado, que contiene un compuesto de ácido sulfosuccínico que presenta la fórmula general (I) (I) en la que R1, R2 = ion hidrógeno, ion alcalino, ion alcalinotérreo, ion amonio y/o un resto hidrocarburo C1-C18, siendo R1 y R2 idénticos o diferentes, con la condición de que, como máximo, uno de los grupos R1, R2 = ion hidrógeno, ion alcalino, ion amonio y ion alcalinotérreo, y en la que...

  8. 8.-

    BAÑO ACUOSO Y PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE CAPAS DE COBRE.

    (11/2001)
    Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: C25D1/00.

    Baño acuoso para deposición electrolítica de capas de cobre, que contiene por lo menos una fuente de iones cobre, por lo menos un compuesto que aumenta la conductividad eléctrica del bano y por lo menos un aditivo, caracterizado porque como aditivo contiene por lo menos un producto de reacción formado a partir de por lo menos un compuesto elegido del grupo formado por las epihalogenohidrinas, dihalogenohidrinas y 1-halogeno-2,3-propanodioles , con por lo menos una poliamidoamina.

  9. 9.-

    PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE CAPAS METALICAS.

    (06/2000)

    LA INVENCION SE RELACIONA CON UN PROCESO DE ELECTRODEPOSICION DE CAPAS DE METAL, EN ESPECIAL DE CAPAS DE COBRE, DE CARACTERISTICAS OPTICAS Y FISIOMECANICAS ESPECIFICAS Y DE GROSOR UNIFORME. CON LOS PROCESOS CONOCIDOS EN LA ACTUALIDAD EN LOS QUE SE EMPLEAN ANODOS DISOLVENTES Y CORRIENTE DIRECTA, LA DISTRIBUCION DE LA CAPA DE METAL EN LOS ARTICULOS DE FORMA COMPLEJA ES SIEMPRE DESIGUAL. EL PROBLEMA DE OBTENER UNA CAPA DE GROSOR DESIGUAL EN DIFERENTES PUNTOS DE LA SUPERFICIE DE LOS ARTICULOS PUEDE DISMINUIRSE SI SE UTILIZA UNA CORRIENTE PULSADA O UN PROCESO DE VOLTAJE PULSADO, AUNQUE ESTO NO RESUELVE EL OTRO PROBLEMA DE LA GEOMETRIA QUE CAMBIA...

  10. 10.-

    PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA LA DEPOSICION POR ELECTROLISIS DE LAS CAPAS METALICAS.

    (09/1998)
    Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: C25D21/14.

    PARA LA SEPARACION ELECTROLITICA DE CAPAS METALICAS REGULARES CON PROPIEDADES FISICOMECANICAS DETERMINADAS, EN PARTICULAR A BASE DE COBRE, NO SE UTILIZA NINGUN ANODO SOLUBLE, QUE MODIFIQUE SU FORMA GEOMETRICA DURANTE LA SEPARACION Y CON ELLO MODIFIQUE LA DISTRIBUCION DE LINEAS DE CAMPO EN LAS CELDAS ELECTROLITICAS. PARA RESOLVER EL PROBLEMA EXISTENTE, SE DESCRIBE UN PROCESO DE ACUERDO CON EL CUAL LOS COMPUESTOS DE UN SISTEMA REDOX SE AÑADEN A UNA SOLUCION DE PRECIPITACION, SIENDO DETECTADOS DURANTE LA PRECIPITACION EN LOS ANODOS INSOLUBLES. LOS COMPUESTOS RESULTANTE ARROJAN LOS NUEVOS IONES METALICOS DE LA PARTE DEL RECIPIENTE QUE CONTIENE EL METAL A SER PRECIPITADO PARA REEMPLAZAR LOS IONES METALICOS PRECIPITADOS A PARTIR DE LA SOLUCION. SE DESCRIBE UN PROCESO EN DONDE LOS COMPUESTOS DE ADICION NO SON DESTRUIDOS, DE FORMA CONTRARIA A LOS PROCEDIMIENTOS CONOCIDOS.

  11. 11.-

    BAÑOS DE NIQUEL ACIDOS, CONTENIENDO 1-(2-SULFOETIL)-PIRIDINIUMBETAINA.

    (04/1995)
    Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: C25D3/18.

    LA INVENCION CONCIERNE A BAÑOS DE NIQUEL ACIDOS, CONTENIENDO 1.

  12. 12.-

    BAÑO ACIDO PARA LA ELECTRODEPOSICION DE RECUBRIMIENTOS DE COBRE Y PROCEDIMIENTO CON UTILIZACION DE ESTA COMBINACION.

    (03/1995)
    Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: C25D3/38.

    LA INVENCION SE REFIERE A UN BAÑO PARA LA ELIMINACION GALVANICA DE RECUBRIMIENTO DE COBRE CON ACIDO ACUOSO Y SU UTILIZACION DEL BAÑO PARA DEPOSICION ELECTROLITICA DEL COBRE.

  13. 13.-

    BAÑO ACIDO ACUOSO PARA DEPOSITO GALVANICO DE RECUBRIMIENTOS DE COBRE BRILLANTES Y NIVELADOS.

    (01/1994)
    Solicitante/s: SCHERING AKTIENGESELLSCHAFT BERLIN UND BERGKAMEN. Clasificación: C25D3/38.

    LA INVENCION SE REFIERE A UN BAÑO ACIDO ACUOSO PARA DEPOSICION GALVANICA DE RECUBRIMIENTOS SW COBRE BRILLANTES Y NIVELADOS, CARACTERIZADO PORQUE PRESENTA UN CONTENIDO CON AL MENOS UN COMPUESTO DE BENZOTIAZONIO E LA FORMULA GENERAL (I) EN LA QUE R1 ES C1-C5 ALQUILO, SI ES CASO ARILO O ARALQUILO SUSTITUIDO; R1 ES HIDROGENO, C1-C5 ALQUILO O C1-C5 ALCOXI, R3 Y R4 ES C1-C4 ALQUILO Y X ES UN RESTO ACIDO.

  14. 14.-

    ACIDO ALFA DE NIQUEL ACIDOS, CONTENIENDO ESTOS COMPUESTOS, ASI COMO UN PROCEDIMIENTO PARA SU OBTENCION.

    (04/1992)
    Solicitante/s: SCHERING AKTIENGESELLSCHAFT BERLIN UND BERGKAMEN. Clasificación: C07C309/20, C25D3/16.

    LA INVENCION CONCIERNE A ACIDO O ICO Y SUS SALES, BAÑOS DE NIQUEL ACIDOS CONTENIENDO ESTOS COMPUESTOS, ASI COMO UN PROCEDIMIENTO PARA SU OBTENCION. LOS BAÑOS DE NIQUEL ACIDOS SON ADECUADOS PARA LA PRECIPITACION, TANTO DE LOS RECUBRIMIENTOS DE NIQUEL MATES COMO DE LOS DE ALTO BRILLO, ESPECIALMENTE A BAJA DENSIDAD DE CORRIENTE.