9 inventos, patentes y modelos de COEURET, FRANCOIS

  1. 1.-

    EQUIPO DE RETICULACION ULTRAVIOLETA BAJO ATMOSFERA CONTROLADA

    (11/2008)
    Ver ilustración. Solicitante/s: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE. Clasificación: B05D3/04.

    Instalación en la que se realiza una operación de reticulación de una capa de producto tal como una tinta o un barniz por radiación Ultra Violeta o mediante un haz de electrones, en presencia de una mezcla gaseosa con un contenido residual de oxígeno controlado, comprendiendo la instalación un recinto que comprende una o varias lámparas UV o una fuente de electrones acelerados, necesarios para la realización de la operación de reticulación, caracterizada porque incluye un dispositivo de entrada contiguo al recinto, que comprende al menos los tres componentes siguientes, vistos sucesivamente por el producto que pasa por la instalación y que se va a tratar: un sistema de laberinto, medios para inyectar un gas inerte que forma una cuchilla gaseosa, y un canal.

  2. 2.-

    DISPOSITIVO DE TRATAMIENTO DE SUPERFICIE POR ZONAS DE UN ARTICULO MEDIANTE DESCARGA ELECTRICA CON BARRERA DIELECTRICA

    (09/2007)

    Dispositivo de tratamiento de superficie por zonas de un artículo, mediante descarga eléctrica con barrera dieléctrica, en presencia de una mezcla gaseosa de tratamiento, que comprende un electrodo metálico cortado en elementos individuales aptos cada uno para girar alrededor de un eje central para garantizar una distancia suficiente entre el elemento considerado girado y la zona del artículo enfrente del elemento considerado para que la descarga no pueda desarrollarse en la misma; caracterizado porque: - el electrodo metálico...

  3. 3.-

    PROCEDIMIENTO DE TRATAMIENTO DE SUPERFICIE DE SUBSTRATOS DE POLIMEROS.

    (11/2006)
    Solicitante/s: L'AIR LIQUIDE, S.A. DIRECTOIRE ET CONSEIL DE SURVEILLANCE POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCE SOFTAL ELECTRONIC ERIK BLUMENFELD GMBH & CO. Clasificación: C08J7/12, B29C59/12.

    Procedimiento de tratamiento de superficie de substratos de polímeros durante el cual se somete al substrato a una descarga eléctrica con barrera dieléctrica, en una mezcla gaseosa de tratamiento que incluye un gas portador, así como un gas reductor y un gas oxidante, a una presión sensiblemente igual a la presión atmosférica, estando comprendido el contenido de gas oxidante en la mezcla dentro de un intervalo que va de 50 a 2000 ppm en volumen, y estando comprendido el contenido de gas reductor en la mezcla dentro de un intervalo que va de 50 a 30.000 ppm en volumen.

  4. 4.-

    PROCEDIMIENTO E INSTALACION DE ELABORACION DE UNA MEZCLA GASEOSA QUE COMPRENDE UN GAS PORTADOR, UN GAS OXIDANTE Y UN SILANO.

    (11/2001)
    Ver ilustración. Solicitante/s: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE. Clasificación: C23C16/40, C23C16/44.

    LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO DE ELABORACION DE UNA MEZCLA GASEOSA FINAL QUE COMPRENDE UN GAS PORTADOR, UN GAS OXIDANTE Y UN SILANO, DE CONTENIDO DETERMINADO EN CADA UNO DE LOS TRES COMPONENTES GASEOSOS, Y QUE INCLUYE LA REALIZACION DE UNA MEZCLA GASEOSA PRIMARIA QUE COMPRENDE UN GAS NEUTRO Y EL MENCIONADO SILANO, SIENDO EL CONTENIDO EN SILANO DE LA MEZCLA GASEOSA PRIMARIA INFERIOR AL LIMITE DE AUTOINFLAMACION DEL SILANO CONSIDERADO EN EL AIRE, Y LA REALIZACION DE UNA MEZCLA ENTRE LA MEZCLA GASEOSA PRIMARIA Y UNA CORRIENTE DEL CITADO GAS PORTADOR Y, EN SU CASO, DE UNA CORRIENTE DEL CITADO GAS OXIDANTE, EN PROPORCIONES QUE PERMITEN OBTENER LA MEZCLA FINAL REQUERIDA, EFECTUANDOSE LA MEZCLA EN MODO DINAMICO.

  5. 5.-

    PROCEDIMIENTO Y APARATO DE FORMACION DE UN GAS EXCITADO.

    (07/1999)

    LA INVENCION SE REFIERE A LA UTILIZACION, PARA FORMAR UN DEPOSITO DE UNA PELICULA QUE CONTIENE SILICIO SOBRE UN SUBSTRATO NO METALICO , DE AL MENOS UN APARATO CORRIENTE ABAJO DE FORMACION DE ESPECIES GASEOSAS EXCITADAS O INESTABLES, EN EL QUE SE TRANSFORMA UNA MEZCLA GASEOSA INICIAL DE TRATAMIENTO , SIENDO EL APARATO EL ASIENTO DE UNA DESCARGA ELECTRICA CREADA ENTRE UN PRIMER ELECTRODO Y UN SEGUNDO ELECTRODO , QUE SE EXTIENDEN SEGUN UNA DIRECCION PRINCIPAL ALARGADA, ATRAVESANDO LA MEZCLA GASEOSA INICIAL DE TRATAMIENTO LA DESCARGA TRANSVERSALMENTE...

  6. 6.-

    PROCESO PARA CREAR UN DEPOSITO DE OXIDO DE SILICIO SOBRE UN SUSTRATO SOLIDO DE PASO

    (02/1998)
    Solicitante/s: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE SOFTAL ELECTRONIC GMBH. Clasificación: C23C16/40, C23C16/54, C23C16/44.

    SEGUN EL PROCESO SE SOMETE EL SUSTRATO A UNA DESCARGA ELECTRICA DE BARRERA DIELECTRICA, POR EJEMPLO UNA DESCARGA EN PRESENCIA DE UNA ATMOSFERA QUE CONTIENE SILANO, GAS OXIDANTE NO N2O, CO2 U O2, PARTICULARMENTE Y UN GAS PORTADOR NEUTRO TAL COMO NITROGENO O ARGON. SE MANTIENE ALREDEDOR DEL ELECTRODO UTILIZADO PARA LA DESCARGA ELECTRICA UNA ATMOSFERA CONTROLADA QUE CONTIENE EL SILANO Y EL GAS OXIDANTE CERCA DEL ELECTRODO, EVITANDO QUE EL PROCESO SEA PERTURBADO POR EL AIRE ATMOSFERICO ARRASTRADO, POR EJEMPLO POR EL SUSTRATO DE PASO.

  7. 7.-

    PROCESO DE ELABORACION DE UNA ESTRUCTURA OPTICA ASI REALIZADA.

    (09/1995)
    Solicitante/s: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES. Clasificación: G02B1/10.

    LA INVENCION SE REFIERE A LA ELABORACION DE UNA ESTRUCTURA OPTICA.SOBRE UN SUSTRATO POLIMERICO 41 SE ASEGURA EN PRIMER LUGAR UNA ACTIVACION DE SUPERFICIE EN 42, Y EL DEPOSITO DE UNA CAPA 43 DE SIO2 DE 2000A, DESPUES EL DEPOSITO DE VARIAS CAPAS FUNCIONALES 44, 44', 44"... Y FINALMENTE UN DEPOSITO 45 DE SIO2 DE 3 MICRONES SEGUIDO DE UN DEPOSITO DE SI3N4/SIOXNY DE 3 MICRONES, ESTE ULTIMO BAJO RADIOFRECUENCIA. LA ESTRUCTURA OPTICA ASI REALIZADA PRESENTA CALIDADES DE ADHERENCIA, DE RESISTENCIA A LA ABRASION Y DE RESISTENCIA A LOS CHOQUES TERMICOS.

  8. 8.-

    REVESTIMIENTO PROTECTOR DEL TIPO SICXNYOZHT OBTENIDO POR TRATAMIENTO CON UN PLASMA.

    (07/1994)
    Solicitante/s: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE. Clasificación: C09D1/00, B05D1/00, B29C59/14, C08J7/00.

    LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN REVESTIMIENTO PROTECTOR, A UN PROCEDIMIENTO DE PROTECCION DE UN SUSTRATO POR DEPOSITO DE UNA PELICULA INORGANICA AMORFA CONTINUA Y TRANSPARENTE QUE COMPORTA ESENCIALMENTE SILICIO, CARBONO NITROGENO, OXIGENO E HIDROGENO CON LA AYUDA DE UN PLASMA. SE REFIERE IGUALMENTE A UN DISPOSITIVO PARA SU PUESTA EN MARCHA QUE COMPRENDE UN RECINTO ESTANCO DOTADO DE MEDIOS DE INYECCION DE GAS , DE MEDIOS PARA CREAR UN PLASMA , DE MEDIOS PARA EVACUAR LOSGASES Y DE UN SOPORTE PARA SUSTRATO.

  9. 9.-

    REVESTIMIENTO PROTECTOR MULTICAPA PARA SUBSTRATO, PROCESO DE PROTECCION DE SUBSTRATO POR DEPOSITO POR PLASMA DE TAL REVESTIMIENTO, REVESTIMIENTOS OBTENIDOS Y SUS APLICACIONES

    (08/1993)
    Solicitante/s: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE. Clasificación: C23C16/02, C03C17/34, C09K3/16, B29C71/04.

    EL PRESENTE INVENTO CONCIERNE UN REVESTIMIENTO PROTECTOR, MULTICAPA PARA SUBSTRATO Y UN PROCESO DE PROTECCION DE SUBSTRATO POR DEPOSITO DE UN REVESTIMIENTO INORGANICO AMORFO CONTINUO Y TRANSPARENTE COMPORTANDO ESENCIALMENTE SILICIO, CARBONO, NITROGENO, OXIGENO E HIDROGENO CON LA AYUDA DE UN PLASMA. CONCIERNE IGUALMENTE LA APLICACION DE LOS REVESTIMIENTOS SEGUN EL INVENTO A LA PROTECCION DE LOS SUBSTRATOS, EN PARTICULAR ENTRE LAS CARGAS ELECTROSTATICAS.