7 inventos, patentes y modelos de BERGMANN, ERICH, DR.

  1. 1.-

    DISPOSITIVO Y PROCESO PARA LA EVAPORACION DE MATERIAL EN VACIO, DISPOSICION DE ARCO DE PLASMA ASI COMO UTILIZACION DEL PROCESO.

    (03/1997)
    Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: H01J37/32, C23C14/32, C23C14/28, H01J37/305, C23C14/30.

    EL OBJETIVO DE ESTA INVENCION ES LLEGAR A PRODUCIR LA INFLAMACION EN UN ARCO DE EVAPORACION, DE AL MENOS MATERIAL FUNDIDO EN SU SUPERFICIE COMO CONSECUENCIA DE LA EVAPORACION, ASI COMO SU ESTABILIZACION Y SU CONTROL. PARA ELLO SE PREVEE DE UN CAÑON DE RADIACION ELECTRONICA O DE UN LASER, PARA LA GENERACION DE UNA NUBE DE VAPOR LOCAL O UNAS MANCHAS DE MATERIAL PREFUNDIDO SOBRE LA SUPERFICIE OBJETO, Y CON ELLO PRODUCIR LA INFLAMACION DE MANCHA DE ARCO O RESPECTIVAMENTE SU CONTROL.

  2. 2.-

    PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO REACTIVO DEL MATERIAL CON APOYO DE UN PROCESO DE DESCARGA POR ARCO VOLTAICO DE CORRIENTE CONTINUA.

    (03/1995)

    LA INVENCION TRATA DE UN PROCEDIMIENTO QUE SE UTILIZA PARA EL TRATAMIENTO REACTIVO DE SUPERFICIES DE UNAS PIEZAS HERRAMIENTAS Y CONSISTE EN: APLICAR UN GAS EN UN RECIPIENTE; PRODUCIR EN EL RECIPIENTE UNA DESCARGA DE CORRIENTE CONTINUA POR ARCO VOLTAICO Y; MANTENER LA DESCARGA MEDIANTE UN ACOPLAMIENTO DE UNA CORRIENTE DE PARTICULAS CARGADAS, Y SE CARACTERIZA PORQUE: PARA EVITAR EL PROBLEMA DE LA DISTRIBUCION NO HOMOGENEA DEL PLASMA ORIGINADO EN EL ARCO VOLTAICO DE CORRIENTE CONTINUA POR EL ESPACIO INTERIOR, Y PARA AMPLIAR LA ZONA QUE CONTIENE AL PLASMA NECESARIO PARA EL TRATAMIENTO SUPERFICIAL, LA DISTRIBUCION ACTIVA DEL PLASMA DE TRATAMIENTO POR EL RECIPIENTE, SE AFIANZA A LO LARGO DE UNA SUPERFICIE...

  3. 3.-

    PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR UNA CAPA DE DIAMANTE E INSTALACION

    (03/1995)
    Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: C23C16/50, C23C16/26.

    LA INVENCION TRATA DE UN PROCEDIMIENTO PARA SEPARAR UNA CAPA DE DIAMANTE DE UNA PIEZA DE TRABAJO COMO UNA MATRIZ DE EMBUTICION O UN TROQUEL DE HERRAMIENTA, Y DESCRIBE UNA INSTALACION PARA LA REALIZACION DEL PROCEDIMIENTO, Y SE CARACTERIZA PORQUE SE EMPLEA UN PROCEDIMIENTO DE RECUBRIMIENTO REACTIVO DE APOYO DE PLASMA. LA PRODUCCION DE PLASMA SE EFECTUA MEDIANTE DESCARGA POR ARCO VOLTAICO DE TENSION CONTINUA; SE APLICA UNA CORRIENTE DE PARTICULAS CARGADAS EN LA EXTENSION DE DESCARGA, Y LA PIEZA DE TRABAJO A RECUBRIR SE DISPONE EN UNA EXTENSION DE DESCARGA. A CONSECUENCIA DE LA CONFIGURACION DEL DISPOSITIVO, SE EMPLEA UNA EXTENSION DE DESCARGA CON LONGITUD VARIABLE, SE RECUBREN GRANDES ZONAS SUPERFICIALES EN UNA ZONA DE GRAN HOMOGENEIDAD Y HERMETICIDAD DE PLASMA. EL PROCEDIMIENTO CONFORME A LA INVENCION SE REALIZA CON PEQUEÑOS COSTOS Y DE FORMA SEGURA Y DA LUGAR A RECUBRIMIENTOS DE GRAN SUPERFICIE.

  4. 4.-

    MATERIAL COMPUESTO CON UNA CAPA DE ANTIDESLIZANTE LLEVADA MEDIANTE PULVERIZACION CATODICA

    (04/1993)

    PARA UTILIZACION DETERMINADA DE CAPAS ANTIDESLIZANTES, POR EJEMPLO EN COJINETES DE BIELAS DE MOTORES DE COMBUSTION, SE PRETENDE UNA ELEVADA CAPACIDAD DE CARGA PARA UNOS LUGARES DE UNA PIEZA DE FORMA, MIENTRAS QUE PARA OTROS LUGARES DE LA MISMA PIEZA DE FORMA SE REQUIERE UNA BUENA CAPACIDAD DE EMPOTRAMIENTO. UN MATERIAL COMPUESTO CON UNA ANTIDESLIZANTE LLEVADA MEDIANTE PULVERIZACION CATODICA DE UNA MATRIZ FIRMEMENTE ACOPLADA Y UN COMPONENTE INSOLUBLE DISTRIBUIDO ESTADISTICAMENTE SE ADAPTA ASI A ESTAS EXIGENCIAS CONTRARIAS DE MODO QUE EL DIAMETRO DE LAS PARTICULAS DEL MATERIAL INSOLUBLE MUESTRE GRADACIONES EN DETERMINADOS LUGARES, QUE TRANSCURREN PARALELAMENTE A LA SUPERFICIE DE LA CAPA ANTIDESLIZANTE Y CUYAS GRADACIONES CORRESPONDEN...

  5. 5.-

    PROCESO DE APLICACION DE CAPAS SOBRE SUSTRATOS E INSTALACIONES DE RECUBRIMIENTO EN CAPAS AL VACIO PARA LA REALIZACION DEL PROCESO

    (12/1991)
    Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: C23C14/35, C23C14/22, C23C14/30.

    PARA CONSEGUIR CAPAS MAS DENSAS Y COMPACTAS QUE HASTA AHORA EN EL REVESTIMIENTO EN CAPAS DE SUSTRATOS MEDIANTE PULVERIZACION CATODICA APOYADA EN CAMPOS MAGNETICOS, SE CONDENSA DURANTE LA FORMACION DE LA CAPA UNA CIERTA PARTE DE VAPOR METALICO (OBTENIDO POR EVAPORACION DEL ANODO O CATODO DE UNA DESCARGA DE ARCO VOLTAICO) SOBRE LAS SUPERFICIES DE FUNCION DE LOS SUSTRATOS JUNTO CON EL MATERIAL PULVERIZADO, CONCRETAMENTE UN MINIMO DE 5% DE ATOMOS DEL TOTAL DE COMPONENTE METALICO DE LA CAPA. UNA INSTALACION DE RECUBRIMIENTO EN CAPAS AL VACIO APROPIADA PARA LA EJECUCION DE ESTE PROCESO PRESENTA DENTRO DE UNA CAMARA DE VACIO UN DISPOSITIVO PARA LA EVAPORACION DE UNA PARTE DEL MATERIAL QUE FORMARA LA CAPA POR MEDIO DE UNA DESCARGA DE ARCO VOLTAICO, ASI COMO OTRO DISPOSITIVO PARA LA PULVERIZACION APOYADA POR CAMPO MAGNETICO DE OTRA PARTE DEL MATERIAL QUE FORMARA LA CAPA.

  6. 6.-

    APOYO DESLIZANTE.

    (12/1991)
    Solicitante/s: KOLBENSCHMIDT AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: C23C14/02, C23C14/06, F16C33/12.

    EN UN GRUPO DESLIZANTE, SOBRE UN SOPORTE METALICO SE DEPOSITA POR PULVERIZACION CATODICA UNA SUPERFICIE DE DESLIZAMIENTO CONSTITUIDA POR UNA MATRIZ METALICA CON INCLUSIONES DE PARTICULAS Y DE OXIGENO. PARA MEJORAR LA RESISTENCIA FRENTE A ESFUERZOS DINAMICOS INTERMITENTES EN EL DOMINIO DE LA FRICCION DE FLUIDOS, EL CONTENIDO DE OXIGENO DE LA MATRIZ ES DE 0,5 A 2,0 % EN PESO, Y LAS PARTICULAS, CONSTITUIDAS POR UN MATERIAL DESLIZANTE CUYAS PROPIEDADES SON MEJORES QUE LAS DE LA MATRIZ TIENEN UN DIAMETRO CUYO VALOR MEDIO ES X < 0,8 MICRAS.

  7. 7.-

    MATERIAL COMPUESTO CON AL MENOS UNA CAPA DESLIZANTE APLICADA POR PROYECCION CATODICA (SPUTTERING), PROCEDIMIENTO PARA SU PRODUCCION Y APLICACIONES DEL MISMO.

    (02/1991)
    Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: F16C33/12, C23C14/16.

    LAS CAPAS DESLIZANTES APLICADAS POR PROYECCION CATODICA, CONSTITUIDAS POR UN MATERIAL METALICO FORMADOR DE LA MATRIZ Y POR LO MENOS OTRO MATERIAL MAS. MUY INSOLUBLE EN LA MATRIZ, OFRECEN PROPIEDADES MECANICAS Y DE CORROSION ESENCIALMENTE MEJORADAS CUANDO EL MATERIAL INSOLUBLE TIENE UN PUNTO DE FUSION MAS BAJO QUE EL DEL MATERIAL DE LA MATRIZ Y CUANDO EL DIAMETRO DE LAS PARTICULAS DEL MATERIAL INSOLUBLE PRESENTA UNA DISTRIBUCION NORMAL ESTADISTICA CON UN VALOR MEDIO DE X MENOS QUE 0,8 MICROMETROS. TALES CAPAS SE OBTIENEN MANTENIENDO LA TEMPERATURA DEL SUSTRATO A RECUBRIR POR DEBAJO DE LOS 150 GRADOS CENTIGRADOS DURANTE LA OPERACION DE PROYECCION CATODICA. LAS VELOCIDADES DE RECUBRIMIENTO SUPERIORES A 0,2 MICROMETROS/MINUTO PUEDEN FAVORECER LA FORMACION DE TALES CAPAS.