UN PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR UN ELEMENTO CAPAZ DE FORMAR IMAGENES.
COMPOSICION DEL REVESTIMIENTO DE PLACAS DE IMPRESION, Y PLACAS DE IMPRESION QUE SON REVELABLES CON DISOLVENTES O CON AGUA.
LA COMPOSICION ESTA FORMADA POR UNA MEZLCA HOMOGENEA DE RESINA OLIGOMERA FOTORREACTIVA EN UN 1-75 POR 100 EN PESO, SOLUBLE EN DISOLVENTES INORGANICOS; UNA DIAZORRESINA OLEOFILA AGLUTINANTE EN UN 17-20 POR 100 EN PESO SOLUBLE EN DISOLVENTES ORGANICO; UN SISTEMA FOTOINICIADOR DE RADICALES LIBRES EN UN 0,5-15 POR 100 EN PESO; UN 10-65 POR 100 EN PESO DE COMPUESTOS INSATURADOS POLIETILENICAMENTE, POLIMERIZABLES POR RADICALES LIBRES, Y CON DOS GRUPOS ETILENICAMENTE INSATURADOS AL MENOS, Y UN 5-40 POR 100 EN PESO DE UN POLIMERO SOLUBLE EN DISOLVENTES ORGANICOS Y ABLANDABLE CON AGUA. LA PLACA DE IMPRESION ES DE UN SUSTRATO OLEOFOBO DE ALUMINIO SOBRE EL QUE SE APLICA EL REVESTIMIENTO. DE APLICACION EN PLACAS SENSIBLES A LA LUZ PARA SISTEMAS DE IMPRESION.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 3M CENTER, SAINT PAUL, MINNESOTA 55101.
Fecha de Solicitud: 25 de Febrero de 1980.
Fecha de Publicación: .
Fecha de Concesión: 16 de Febrero de 1981.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/021 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos de diazonio macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.
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