15 inventos, patentes y modelos de SZCZYRBOWSKI, JOACHIM, DR.
DISPOSITIVO PARA RECUBRIR UN SUSTRATO.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Electricidad
(16/08/2007). Ver ilustración. Solicitante/s: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG. Clasificación: C23C14/34, H01J37/32, C23C14/56, C23C14/35, C23C14/00, H01J37/34, C23C14/40, C23C16/50.
EN UN DISPOSITIVO PARA RECUBRIMIENTO DE UN SUBSTRATO CON UNA FUENTE DE CORRIENTE ALTERNA, QUE SE UNE CON DOS CATODOS , UNO DE LOS POLOS DE LA FUENTE SE CONECTA A UN CATODO Y EL OTRO POLO AL OTRO CATODO A TRAVES DE CONDUCCIONES DE ABASTECIMIENTO. CADA UNO DE AMBOS CATODOS DISPUESTOS EN UN COMPARTIMENTO (32'',40) DE UNA MULTIPLICIDAD DE APLICACIONES VECINAS, FORMANDO CONJUNTAMENTE UNA CAMARA DE VACIO, HA PREVISTO COMPARTIMENTOS (32 HASTA 40'') QUE SE UNEN UNO CON OTRO A TRAVES DE UN PASO , DONDE AMBOS COMPARTIMENTOS (32'',40) QUE MUESTRAN CATODOS QUE SE UNEN CON LA FUENTE DE CORRIENTE ALTERNA SE DISPONEN DE FORMA SEPARADA UNO CON OTRO A TRAVES DE MULTIPLES COMPARTIMENTOS (33 HASTA 39 Y 33'' HASTA 38''), QUE ESTAN EQUIPADOS AL MENOS PARCIALMENTE CON CADA UNO DE LOS OTROS CATODOS (61 HASTA 66) DISPONIENDO DE ABASTECIMIENTO DE CORRIENTE SEPARADA.
DISPOSITIVO PARA RECUBRIR UN SUSTRATO CON AYUDA DE LA DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Electricidad
(01/04/2007). Solicitante/s: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG. Clasificación: C23C14/35, C23C14/00, H01J37/34, C23C14/40, H01J37/32, C23C14/56, C23C16/50.
EN UN DISPOSITIVO PARA RECUBRIMIENTO DE UN SUBSTRATO CON LA AYUDA DE PLASMA CVD (FIG.1), SE DISPONE DE UNA FUENTE DE CORRIENTE ALTERNA, QUE SE UNE CON DOS CATODOS MAGNETRON, DONDE UNO DE LOS POLOS DE LA FUENTE DE CORRIENTE ALTERNA ESTA CONECTADO EN UN CATODO Y EN EL OTRO POLO SE CONECTA EL OTRO CATODO A TRAVES DE UNA CONDUCCION DE ABASTECIMIENTO. DISPONIENDOSE CADA UNO DE AMBOS CATODOS EN UN COMPARTIMENTO PROPIO, DONDE CADA COMPARTIMENTO INCLUYE ENTRE ELLOS UN TERCER COMPARTIMENTO CONECTADO A UNA FUENTE DE VACIO. AMBOS COMPARTIMENTOS DISPUESTOS EXTERIORMENTE SE UNEN A TRAVES DE ABERTURAS O ESPACIOS EN LAS PAREDES UNO CON OTRO, DONDE EL SUBSTRATO DISPUESTO EN EL TERCER COMPARTIMENTO ESTA EQUIPADO CON UNA FUENTE CVD, QUE SE CONFIGURA ESENCIALMENTE A PARTIR DE UNA ENTRADA DE GAS REACTIVO Y UN COLIMADOR.
SISTEMA CALORIFUGO DE CAPAS.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/09/2003). Solicitante/s: LEYBOLD SYSTEMS GMBH. Clasificación: C03C17/36, C03C17/34.
Sistema de capas termoaislantes, para láminas de vidrio a doblar y/o templar térmicamente, que incluye una capa de metal precioso con una capa embebida de subóxido de níquel-cromo ultradelgada. Un revestimiento termoaislante de lámina de vidrio doblada y/o templada que incluye una capa de metal precioso con una capa embebida de subóxido de níquel-cromo ultradelgada. Un sistema de capas termoaislantes, para láminas de vidrio dobladas y/o templadas, que comprende unas capas de bloqueo con una capa de metal precioso entre medias de ellas que tiene una capa embebida de subóxido NiCrOx con un grosor de 1 Angstrom a 2 nm.
DISPOSITIVO PARA LA APLICACION DE CAPAS DELGADAS SOBRE UN SUBSTRATO.
(16/10/2002) LA INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA LA APLICACION DE CAPAS DELGADAS SOBRE UN SUBSTRATO , ABARCANDO UNA FUENTE DE CORRIENTE, QUE ESTA UNIDA CON UN CATODO , QUE SE DISPONE EN UNA CAMARA DE VACIO Y CON UN OBJETIVO ACTUANDO CONJUNTAMENTE, ASI COMO UNA FUENTE DE GAS DE PROCESO, QUE SE UNE CON LA CAMARA DE VACIO. ENTRE LA CAMARA DE VACIO Y LA FUENTE DE GAS DE PROCESO SE CONECTA UNA VALVULA DOSIFICADORA CONTROLADA POR MEDIO DE UN REGULADOR Y SE UNE CON AL MENOS UNA BOMBA DE VACIO, CUYO LADO DE ASPIRACION SE CONECTA CON LA CAMARA DE VACIO. SE CARACTERIZA A TRAVES DE UN SENSOR DE MEDICION, EN PARTICULAR UN ELECTRODO DE MEDICION POTENCIOMETRICO, QUE COMPARA LA PORCION DE UN GAS EN LA CAMARA DE VACIO O UNA CONDUCCION DE AFLUENCIA, QUE SE UNE CON LA CAMARA DE VACIO…
SISTEMA DE CAPAS DE INTERFERENCIA.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/04/2000). Ver ilustración. Solicitante/s: LEYBOLD SYSTEMS GMBH. Clasificación: C23C14/34, C23C14/08, C23C14/00.
UNAS CAPAS DIELECTRICAS QUE ACTUAN OPTICAMENTE, POR EJEMPLO DE SIO SUB,2}, AL SUB,2}O SUB,3}, ZRO SUB,2}, TIO SUB,2}, ZNO SUB,2}, SON SEPARADAS MEDIANTE UN PROCEDIMIENTO DE DESALOJO POR BOMBARDEO IONICO CON UN TIPO DE CRECIMIENTO DE LA CAPA 4 NM/S EN LOS SUBSTRATOS. ESTAS CAPAS DE OXIDO METALICO DESALOJADAS POR BOMBARDEO MUESTRAN UN INDICE DE ROTURA DE ENTRE 2,55 Y 2,60. LAS CAPAS DE TIO SUB,2} APLICADAS CON UN PLASMA DE BOMBARDEO ALIMENTADO CON TENSION ALTERNA, SE CRISTALIZAN COMO ESTRUCTURA DE RUTILO SOBRE LOS SUBSTRATOS, COMO POR EJEMPLO UN SI-WAVER 2, Y MUESTRAN UNA ELEVADA CONSISTENCIA FRENTE A LA ACCION DE SUSTANCIAS QUIMICAS REACTIVAS. LAS CAPAS DE OXIDO METALICO SON IDONEAS PARA LA FABRICACION DE SISTEMAS DE CAPAS LOW-E, ASI COMO PARA LA FABRICACION DE CAPAS DE CONTROL SOLAR. LA FRECUENCIA ALTERNA DE LA CORRIENTE ELECTRICA QUE ABASTECE EL PLASMA DE BOMBARDEO ES PREFERENTEMENTE DE ENTRE 10 KHZ Y 80 KHZ.
DISPOSITIVO PARA EL RECUBRIMIENTO DE SUSTRATOS AL VACIO.
Sección de la CIP Electricidad
(01/10/1999). Solicitante/s: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG. Clasificación: H01J37/34.
LA INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA RECUBRIMIENTO DE SUBSTRATOS EN VACIO, QUE SE COMPONE DE UNA FUENTE DE CORRIENTE ALTERNA, QUE ESTA UNIDA CON DOS CATODOS DISPUESTOS EN UNA CAMARA DE RECUBRIMIENTO EVACUABLE, ACTUANDO CONJUNTAMENTE DE FORMA ELECTRICA CON OBJETIVOS, DE FORMA QUE SE PRODUCE UNA PULVERIZACION EN LA DESCARGA DE GAS Y LAS PARTICULAS PULVERIZADAS SE CONDENSAN SOBRE EL SUBSTRATO . EN LA CAMARA DE RECUBRIMIENTO ES APLICABLE UN GAS DE PROCESO, QUE SE DISPONE ENTRE LA FUENTE DE CORRIENTE ALTERNA Y EL PAR DE CATODO CON UNA RED , QUE ACTUA COMO FILTRO, Y SE CONFIGURA A PARTIR DE UN TRANSFORMADOR Y OTRAS BOBINAS , ASI COMO CONDENSADORES , GARANTIZANDOSE UN PROCESO DE RECUBRIMIENTO ESTABLE.
LAMINA DE MATERIAL TRANSPARENTE, ASI COMO PROCEDIMIENTO PARA SU FABRICACION.
(16/08/1999) DISCO U HOJA HECHO DE UN MATERIAL TRANSPARENTE CON ELEVADO COMPORTAMIENTO DE TRANSMISION EN LA ZONA VISIBLE Y ALTO COMPORTAMIENTO DE REFLEXION EN LA ZONA DE RADIACION DE CALOR, SE COLOCA ENCIMA UNA CAPA DE BAJA EMISION HECHA DE CAPAS SOLDADAS, QUE COMPRENDE CINCO CAPAS. LA PRIMERA CAPA COLOCADA SOBRE EL SUSTRATO ESTA HECHA DE UN OXIDO METALICO, P. E. ZNO, SNO{SUB,2}, Y LA SEGUNDA CAPA DE UN SUBOXIDO METALICO, P. E. ZN Y/O TA, Y LA TERCERA CAPA DE UN METAL, P. E. AG, CU, Y LA CUARTA CAPA DE UN METAL, P. E. TI, CR, NB O UN SUBOXIDO METALICO, Y LA QUINTA CAPA DE UNA COMPOSICION SIMILAR A LA DE LA PRIMERA CAPA. LAS DIFERENTES CAPAS SE COLOCAN SUCESIVAMENTE MEDIANTE PULVERIZACION, PREFERIBLEMENTE MEDIANTE UN PROCEDIMIENTO DE PULVERIZACION POR…
INSTALACION DE RECUBRIMIENTO POR VACIO CON UN CRISOL SITUADO EN LA CAMARA DE VACIO PARA EL ALOJAMIENTO DE MATERIAL A VAPORIZAR.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/08/1999). Solicitante/s: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG. Clasificación: C23C14/56, C23C14/02, C23C14/32.
EN UNA INSTALACION DE RECUBRIMIENTO POR VACIO CON UN CRISOL COLOCADO EN LA CAMARA DE VACIO PARA EL MATERIAL QUE SE EVAPORA, POR EJEMPLO SIO{SUB,2}, Y CON UNA FUENTE DE RADIACION ELECTRONICA QUE EVAPORA EL MATERIAL Y CON UNOS SUSTRATOS (7, 7{SUP,'}, ...) MANTENIDOS A DISTANCIA DEL CRISOL , POR EJEMPLO LENTES OPTICAS, SE DISPONE A AMBOS LADOS DE UNA LINEA DE UNION (L) ENTRE EL CRISOL Y EL SOPORTE DE SUSTRATO UNA UNIDAD , EN LAS QUE SE DISPONE EN CADA UNO UN CATODO MAGNETRONICO UNIDO CON UNA FUENTE DE FRECUENCIA MEDIA , ESTANDO UNIDA CADA UNA DE LAS UNIDADES MEDIANTE UNA HENDIDURA, ORIFICIO O CANAL (21, 22 O 27, 28) CON LA ZONA O LUGAR DEL PROCESO QUE ESTA ENTRE EL SUSTRATO (7, 7{SUP,'}, ...) Y EL CRISOL, ESTANDO AMBAS PIEZAS UNIDAS ENTRE SI , MEDIANTE CONDUCCIONES DE PRESION A UNA FUENTE DEL GAS DEL PROCESO.
DISPOSICION DE CATODO EN UN DISPOSITIVO PARA PULVERIZACION DE UN OBJETIVO.
(16/01/1999) EN UNA DISPOSICION DE CATODO EN UN DISPOSITIVO PARA PULVERIZACION DE UN OBJETIVO (49 O 50) CON UN YUGO MAGNETICO Y CON HILERAS DE IMANES (33,34,53,54 O 35,36,55,56) PERMANENTES DISPUESTOS ENTRE EL OBJETIVO Y EL YUGO MAGNETICO ASI COMO CON UN SOPORTE (A O B) PARA SUJECION DEL YUGO (22 O 23) MAGNETICO EN UNA PARTE DE PARED DE LA CAMARA DE VACIO, EL YUGO (22 O 23) MAGNETICO SOPORTADO DE FORMA FIJA SE APOYA SOBRE SU LADO CON RESPECTO AL OBJETIVO (49 O 50) EN UNA LEVA O UN PAR (43,44 O 43',44') DE LEVAS POR MOTIVOS DE SUJECION CONJUNTA DE LAS PARTES INDIVIDUALES DEL CATODO (3 O 4). LAS LEVAS O EL PAR DE LEVAS SE APOYAN POR SU LADO EN UNA PLACA (41 O 42) CABEZAL, QUE ESTA UNIDA CON UN JUEGO ADECUADO CON EL YUGO (22 O 23) MAGNETICO A TRAVES DE UN TORNILLO O UN PERNO (67,67',...)…
PROCESO Y DISPOSITIVO PARA EL RECUBRIMIENTO DE UN SUBSTRATO, EN PARTICULAR CON CAPAS NO CONDUCTORAS ELECTRICAS.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/03/1997). Solicitante/s: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: C23C14/35.
EN UN PROCESO Y UN DISPOSITIVO PARA EL RECUBRIMIENTO DE UN SUBSTRATO CON CAPAS NO CONDUCTORAS ELECTRICAMENTE DE UN OBJETIVO CAPAZ DE CONDUCCION ELECTRICA EN ATMOSFERA REACTIVA (POR EJEMPLO OXIDANTE), CON UN CATODO DISPUESTO EN UNA CAMARA DE RECUBRIMIENTO EVACUABLE, QUE ACTUA CONJUNTAMENTE DE FORMA ELECTRICA CON EL OBJETIVO , EL CATODO ESTA CONECTADO POR MOTIVOS DE UNA DEPRESION DEL ARCO EN UNA FUENTE DE CORRIENTE DC Y EQUIPADO CON LA AYUDA DE UN CIRCUITO (22 O 3 HASTA 15) ADICIONALMENTE ADAPTADO DE FORMA PERIODICA PARA TENSION DE TIEMPO CORTO APLICABLE SOBRE UN POTENCIAL POSITIVO, CON LO QUE LA FRECUENCIA DE ESTA INVERSION DE POLOS PERIODICA QUE DEPENDE DE LA CAPA DE SEPARACION ES AJUSTABLE.
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA RECUBRIR UN SUBSTRATO, ESPECIALMENTE CON CAPAS NO CONDUCTORAS ELECTRICAS.
(01/02/1996) EN UN PROCEDIMIENTO Y EN UN DISPOSITIVO PARA RECUBRIR UN SUBSTRATO DE OBJETOS ELECTRICAMENTE CONDUCTORES EN ATMOSFERA REACTIVA, HAY PREVISTA UNA FUENTE DE CORRIENTE QUE ESTA UNIDA CON UN CATODO DISPUESTO EN UNA CAMARA DE RECUBRIMIENTO EVACUABLE, Y ACTUAN CONJUNTAMENTE DE FORMA ELECTRICA CON LOS OBJETOS , EN DONDE HAY PREVISTOS DOS ANODOS SEPARADOS DE LA CAMARA Y ELECTRICAMENTE ENTRE SI, QUE ESTAN EN UN PLANO ENTRE DOS CATODOS Y EL SUBSTRATO , EN DONDE LAS DOS SALIDAS (12A, 12B) DEL BOBINADO SECUNDARIO DE UN TRANSFORMADOR UNIDO, BAJO INTERCONEXION DE UNA BOBINA DE REACTANCIA , CON UN GENERADOR DE MEDIA FRECUENCIA ESTAN CONECTADOS RESPECTIVAMENTE A UN CATODO (1 O 2) MEDIANTE DOS LINEAS DE…
PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE PIEZAS DE VIDRIO CON ALTO COMPORTAMIENTO A LA TRANSMISION EN EL MARGEN ESPECTRAL VISIBLE Y CON UN ALTO COMPORTAMIENTO A LA REFLEXION DE LAS RADIACIONES TERMICAS, ASI COMO VIDRIOS OBTENIDOS POR MEDIO DEL PROCEDIMIENTO.
(16/01/1996) PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE PIEZAS DE VIDRIO CON ALTO COMPORTAMIENTO A LA TRANSMISION EN EL MARGEN ESPECTRAL VISIBLE Y CON UN ALTO COMPORTAMIENTO A LA REFLEXION DE LAS RADIACIONES TERMICAS. LOS VIDRIOS SON RECUBIERTOS POR PULVERIZACION CATODICA. SOBRE EL SUBSTRATO S SE EXTIENDE UNA PRIMERA CAPA 1 DE UN MATERIAL DEL GRUPO OXIDO ZNO, SNO2, IN2O3, TIO2, ZRO2, TA2O5, SIO2, AL3O3 O SUS MEZCLAS, O DE UNO DE LOS NITRUROS, ALN, SI3N4, O SUS MEZCLAS, O DE NITRURO DE ALUMINIO, DE TITANIO, DE CIRCONIO O DE SILICIO, O SUS MEZCLAS, CON UN GROSOR DE 20 A 60 NM. SIGUE UNA SEGUNDA CAPA 2 DE UNO DE LOS METALES AG, CU O SUS MEZCLAS CON UN GROSOR DE 5 A 30 NM, UNA TERCERA CAPA 3 DE UNO DE LOS METALES PD O PT O SUS MEZCLAS, CON EL…
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA RECUBRIR UN SUBSTRATO, ESPECIALMENTE CON CAPAS SIN CONDUCTIVIDAD ELECTRICA.
(01/09/1995) EN UN PROCEDIMIENTO Y UN DISPOSITIVO PARA LA APLICACION DE CAPAS A UN SUBSTRATO DE OBJETOS CON CONDUCTIVIDAD ELECTRICA EN ATMOSFERA REACTIVA (FIG. 1), COMPUESTO DE UNA FUENTE DE CORRIENTE QUE ESTA UNIDA A LOS CATODOS DISPUESTOS EN UNA CAMARA DE REVESTIMIENTO EVACUABLE , QUE ACTUAN DE FORMA ELECTRICA CONJUNTA CON LOS OBJETOS , EN EL QUE DOS ANODOS ELECTRICOS ESTAN DISPUESTOS SEPARADOS DE LA CAMARA DE PULVERIZACION , QUE ESTAN PREVISTOS EN UN PLANO ENTRE LOS CATODOS Y EL SUBSTRATO , POR LO QUE LAS DOS SALIDAS (12A,12B) DEL DEVANADO SECUNDARIO DE UN TRANSFORMADOR , UNIDO CON UN GENERADOR DE FRECUENCIA MEDIA BAJO LA INTERCONEXION DE UNA BOBINA DE REACTANCIA , ESTAN CONECTADAS RESPECTIVAMENTE A UN CATODO (1 O 2) A…
PROCESO DE FABRICACION DE DISCOS DE ALTO COMPORTAMIENTO TRANSMISOR EN EL ESPECTRO VISIBLE Y CON ALTO COMPORTAMIENTO DE REFLEXION PARA RADIACIONES DE CALOR ASI COMO LOS DISCOS FABRICADOS POR ESTE PROCESO.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/01/1993). Solicitante/s: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: C03C17/36.
PROCESO DE FABRICACION DE DISCOS DE ALTO COMPORTAMIENTO DE TRANSMISION EN EL ESPECTRO VISIBLE Y DE ALTO COMPORTAMIENTO DE REFLEXION PARA RADIACIONES DE CALOR, ASI COMO BAJA RESISTENCIA SUPERFICIAL. SOBRE SUSTRATOS DE CRISTAL MINERAL SE VA MONTANDO UN SISTEMA DE CAPAS CON EL SIGUIENTE ORDEN: CAPA1: OXIDO DEL GRUPO DEL OXIDO ESTANNICO, DIOXIDO DE SILICIO, OXIDO DE ALUMINIO, OXIDO DE TANTALIO Y OXIDO DE CIRCONIO U OXIDOS DE SUS MEZCLAS. CAPA2: ALEACION DE 80% DEL PESO DE NIQUEL Y DE 20% DEL PESO DE CROMO. CAPA3: PLATA O UNA ALEACION DE PLATA CON UN CONTENIDO DE PLATA DE UN 50% DEL PESO COMO MINIMO. CAPA4: ALEACION DE 80% DEL PESO DE NIQUEL Y DE 20% DEL PESO DE CROMO. CAPA5: OXIDO DEL GRUPO DEL OXIDO ESTANNICO, OXIDO DE SILICIO, OXIDO DE ALUMINIO, OXIDO DE TANTALIO Y OXIDO DE CIRCONIO U OXIDOS DE SUS MEZCLAS. A CONTINUACION, SE CALIENTA EL SUSTRATO CON TODO EL CONJUNTO DE CAPAS A LA TEMPERATURA DE REBLANDECIMIENTO DEL CRISTAL Y SE DOBLA PARA DARLE LA FORMA DEFINITIVA.
PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE PLANCHAS DE VIDRIO CON ALTO INDICE DE TRANSMISION EN EL CAMPO DEL ESPECTRO VISIBLE Y CON ALTO INDICE DE REFLEXION DE LAS RADIACIONES TERMICAS, ASI COMO LAS PLANCHAS DE VIDRIO OBTENIDAS POR ESTE PROCEDIMIENTO.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/08/1991). Solicitante/s: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: C03C17/36.
PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE PLANCHAS DE VIDRIO CON ALTO INDICE DE TRANSMISION EN EL CAMPO DEL ESPECTRO VISIBLE Y CON ALTO INDICE DE REFLEXION DE LAS RADIACIONES TERMICAS. SOBRE SUSTRATOS DE VIDRIO MINERAL SE APLICA UN SISTEMA DE CAPAS EN EL SIGUIENTE ORDEN DE SUCESION: CAPA 1: OXIDO DEL GRUPO DEL OXIDO DE ESTAÑO, DIOXIDO DE SILICIO, OXIDO DE ALUMINIO, OXIDO DE TANTALIO, OXIDO DE CIRCONIO O SUS OXIDOS MIXTOS; CAPA 2: METAL DEL GRUPO DEL TANTALIO, VOLFRAMIO, NIQUEL, HIERRO O SUS ALEACIONES; CAPA 3: PLATA O UNA ALEACION DE PLATA CON UNA PROPORCION DE PLATA DE UN 50% EN PESO POR LO MENOS; CAPA 4: METAL DEL GRUPO DEL TANTALIO, VOLFRAMIO, NIQUEL, HIERRO O SUS ALEACIONES; CAPA 5: OXIDO DEL GRUPO DEL OXIDO DE ESTAÑO, DIOXIDO DE SILICIO, OXIDO DE ALUMINIO, OXIDO DE TANTALIO, OXIDO DE CIRCONIO O SUS OXIDOS MIXTOS. A CONTINUACION EL SUSTRATO CON TODAS LAS CAPAS APLICADAS, SE CALIENTA A LA TEMPERATURA DE REBLANDECIMIENTO DEL VIDRIO Y SE SOMETE A CURVADO HASTA LA FORMA FINAL.
