Módulo solar de capas delgadas con interconexión integrada así como procedimiento para su fabricación.
(27/03/2019) Módulo solar a base de capas delgadas con la interconexión integrada de al menos dos células solares, que contiene
a) un sustrato no eléctricamente conductor; o
b) un sustrato eléctricamente conductor;
con una capa de barrera no eléctricamente conductora, sobre la que está depositada una estructura de capas que contiene al menos una capa semiconductora cristalina con una primera dotación así como al menos una capa semiconductora cristalina con una segunda dotación contraria a la primera dotación,
en el cual el módulo solar presenta entre las distintas células solares fosas de separación aislantes en las que se ha eliminado la estructura…
Dispositivo de soporte para sustratos, así como procedimiento para el revestimiento de un sustrato.
(27/02/2019) Dispositivo de soporte para sustratos a revestir que comprende un dispositivo de apoyo para el sustrato a revestir, que presenta una cara delantera configurada de forma plana para el apoyo del sustrato , así como una cara trasera enfrentada a la cara delantera con una cara delantera configurada de forma plana para el apoyo del sustrato, así como una cara trasera enfrentada a la cara delantera, en donde está presente al menos una abertura pasante, que une las dos caras del dispositivo de apoyo , a través de la cual es posible una regulación de la presión de gas que reina en la cara del sustrato ,
caracterizado por que
el dispositivo de apoyo está delimitado por al menos dos elementos de soporte dispuestos de manera enfrentada, en donde los elementos de soporte están formados…
Esclusa de gas así como dispositivo de revestimiento con una esclusa de gas.
(25/04/2018) Esclusa de gas (I) para la separación de dos compartimentos de gas (G1, G2), que comprende:
a) al menos un cuerpo de admisión (K), que presenta al menos un canal de entrada (H) para un gas, que desemboca en un primer lado del cuerpo de admisión (K),
b) al menos una pared (A) dispuesta a distancia del primer lado del al menos un cuerpo de admisión (K), donde entre la pared (A) y el al menos un cuerpo de afluencia (K) está configurado un intersticio (B) que está en conexión de fluido con el canal de entrada (H),
c) al menos dos aberturas de escape (i1, i2) para el gas que están en conexión de fluido con el intersticio…
Esclusa de gas, así como dispositivo de revestimiento con una esclusa de gas.
(16/08/2017) Esclusa de gas (I) para la separación de dos cámaras de gas (G1, G2), que comprende:
a) al menos un cuerpo de admisión (K), que presenta al menos dos canales de entrada (1, H2) para un gas, que desembocan en un primer lado del cuerpo de admisión (K),
b) una pared (A) dispuesta de modo distanciado respecto al primer lado del al menos un cuerpo de admisión (K), estando conformada entre la pared (A) y el al menos un cuerpo de admisión (K) una ranura (B) que está en unión fluida con los al menos dos canales de entrada (H1, H2),
c) al menos dos aberturas de escape (i1, i2) para el gas, que están en unión fluida con la ranura (B),
en la que en el lado contigua al al menos un cuerpo de admisión (K) y/o en el lado de la pared (A) opuesto al primer lado del cuerpo de admisión (K) hay n cámaras de medición…
Segmento circular para la recepción de un segmento de filtro.
Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes
(09/08/2017). Solicitante/s: HUBER SE. Clasificación: B01D33/23, B01D29/03.
Segmento circular para la recepción al menos de un segmento de filtro y para el uso en un filtro rotativo para el filtrado de líquidos, en el que el segmento circular presenta dos secciones laterales opuestas, que presentan respectivamente una superficie interior para el guiado del segmento de filtro y una superficie exterior correspondiente, que está configurado como superficie adyacente para la superficie exterior correspondiente de otro segmento circular, en el que el segmento circular se compone de elementos individuales conectados entre sí de forma separable, caracterizado porque dos de los elementos individuales están construidos de forma similar, presentan una estructura esencialmente en forma de L y forman un armazón base en forma de U, que está completado por uno o varios elementos cobertores, de manera que se produce un segmento circular cerrado.
PDF original: ES-2643410_T3.pdf
Procedimiento y dispositivo para el revestimiento en continuo de sustratos.
(09/12/2015) Procedimiento para el revestimiento en continuo de sustratos, en el que en un dispositivo de revestimiento los sustratos son transportados a través de un espacio de deposición que está limitado por dos soportes de sustrato (1, 1') así como por un suelo y una tapa , en donde el suelo presenta un dispositivo para guiar los soportes de sustrato (1, 1'), y los sustratos son transportados sobre los soportes de sustrato (1, 1') a través del dispositivo de revestimiento, durante el transporte se realiza el revestimiento en continuo de los sustratos, y en donde la tapa está fijada a los soportes de sustrato (1, 1') y de esta manera se transporta junto con los soportes (1, 1') de sustrato mediante el dispositivo de revestimiento.
Segmento de filtro destinado a ser empleado en un filtro giratorio.
(16/04/2014) Segmento de filtro destinado a ser empleado en un filtro giratorio para filtrar líquidos, con un elemento de marco al menos parcialmente de plástico y que rodea la superficie de filtración , en el cual se incrusta al menos un material de filtro plano , que cubre la superficie de filtración, caracterizado porque la superficie de filtración no tiene puntales transversales intermedios y el material de filtro está pretensado.
Célula solar de película delgada y procedimiento para su fabricación.
(08/05/2013) Una célula solar de película delgada con una cara frontal en la que entra la luz y una cara trasera que tiene
- un sustrato de calidad no solar que tiene al menos un agujero pasante que conecta la cara frontalcon la cara trasera;
- al menos una capa de base depositadaactiva de manera fotovoltaica y al menos una capa (1') deemisor formadas al menos en regiones de la cara frontal y enrolladas a través de dicho agujero pasantedesde la cara frontal hasta la cara trasera que proporciona un contacto de emisor de enrollamientopasante (EWT); y
- al menos una región de contacto de emisor y al menos una región de contacto de base en la caratrasera aisladas entre sí.
PROCEDIMIENTO PARA LA RECRISTALIZACIÓN Y EL DOPAJE SIMULTÁNEOS DE CAPAS SEMICONDUCTORAS Y SISTEMAS DE CAPAS SEMICONDUCTORAS FABRICADOS SEGÚN ESTE PROCEDIMIENTO.
(25/05/2011) Procedimiento para la fabricación de un sistema de capas semiconductoras dopadas para la electrónica o la fotovoltaica en el que en una primera etapa se fabrica una capa de base de sustrato , en una segunda etapa, sobre esta capa de base de sustrato se deposita un sistema de capas intermedias constituido por al menos una capa parcial, en el que al menos una de las capas parciales del sistema de capas intermedias se enriquece con un primer dopante en la primera concentración, en una tercera etapa, una capa absorbente sin dopar o dopada con un segundo dopante en una segunda concentración se deposita sobre el sistema…
PROCEDIMIENTO PARA LA RECRISTALIZACIÓN DE ESTRUCTURAS DE CAPAS MEDIANTE FUSIÓN POR ZONAS Y SU USO.
(01/04/2011) Procedimiento para la recristalización de estructuras de capas mediante fusión por zonas, en el que con al menos dos fuentes térmicas se estiran zonas de fusión generadas con forma de líneas por la capa mediante un movimiento relativo de las fuentes térmicas con respecto a la capa en dirección perpendicular con respecto a las zonas de fusión con forma de líneas, estirándose las zonas de fusión simultáneamente por toda la capa con solapamiento por áreas de las zonas de fusión con zonas ya recristalizadas, de tal forma que se garantiza una recristalización sin huecos de la capa, caracterizado porque a) en una primera fase (fase de fusión), las al menos dos zonas de fusión se estiran en dirección perpendicular con respecto a las zonas de fusión con forma de líneas simultáneamente a lo largo de un primer tramo d + a y con una velocidad que posibilita una alta…
DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA LA PRECIPITACION CONTINUA DE UNA FASE GASEOSA A LA PRESION ATMOSFERICA, Y UTILIZACION DE ESTOS.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(30/10/2009). Ver ilustración. Solicitante/s: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FORDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.. Clasificación: C23C16/455, C23C16/54.
Dispositivo para la precipitación continua sobre sustratos de una fase de gas a la presión atmosférica comprendiendo una cámara de reacción abierta por dos lados opuestos entre sí, a lo largo de cuyos lados abiertos se pueden transportar los sustratos, estando cerrada la cámara de reacción, presentando la cámara de reacción sendas paredes frontal y posterior con respecto al sentido de transporte de los sustratos, que están unidas entre sí a través de dos paredes laterales opuestas, caracterizado porque las paredes laterales presentan por lo menos cada una dos entradas y salidas para gases de proceso, que están dispuestas alternadas en el sentido de transporte, al menos por zonas.