Disolución ácida que contiene un compuesto de polivinilamonio y método de depositar electrolíticamente un depósito de cobre.
(06/05/2015) Una disolución ácida acuosa para depositar electrolíticamente recubrimientos de cobre, conteniendo dicha disolución ácida iones cobre, caracterizada porque dicha disolución contiene al menos un compuesto de polivinilamonio seleccionado del grupo que comprende compuestos que tienen la fórmula química general (I):**Fórmula**
en la que
I y m son índices de unidades de monómero que indican la fracción, que va a expresarse en [% en moles], de las unidades de monómero respectivas en el compuesto de polivinilamonio, en la que l + m en el compuesto es el 100 % en moles caracterizada porque
m esté en un intervalo del 1 al 100 % en moles, referente a l + m, y l esté en un intervalo del 99 al 0 % en moles, referente a l + m,
R1 es un radical, seleccionado…
MEZCLA DE COMPUESTOS OLIGOMERICOS DE FENAZINIO Y BAO ACIDO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE UN REVESTIMIENTO DE COBRE.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/06/2009). Ver ilustración. Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: C25D3/38, C25D7/12.
Una mezcla de compuestos oligoméricos de fenazinio que contiene por lo menos un compuesto de fenazinio, seleccionado de entre el grupo que comprende #a) compuestos que contienen dos unidades monoméricas que tienen la siguiente fórmula química general <I>: **(Ver fórmula)** y #b) compuestos que contienen tres unidades monoméricas que tienen la siguiente fórmula química general <II> **(Ver fórmula)** así como otros compuestos oligoméricos de fenazinio adicionales, en donde, en las anteriormente mencionadas fórmulas químicas <I> y <II>, la unidad de estructura N(R 5/50 /50 0 )CC(R 4/40 /40 0 )C (R (3/30 /30 0 ) tiene una de las fórmulas químicas generales <IIIa> ó <IIIb>: **(Ver fórmula)**.
BAO ACIDO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE UN DEPOSITO DE COBRE QUE CONTIENE COMPUESTOS DE FENAZINIO MONOMEROS HALOGENADOS O SEUDOHALOGENADOS.
(01/11/2008) Compuestos de fenazinio monoméricos halogenados o seudohalogenados de una pureza por lo menos del 85% molar que tienen la fórmula química general siguiente: (Ver fórmula) en la que R 1 , R 2 , R 4 , R 6 , R 7 ¿, R 7 ¿, R 8 y R 9 se eligen con independencia entre sí entre el grupo formado por hidrógeno, halógeno, amino, aminoalquilo, hidroxi, ciano, tiocianato, isotiocianato, cianato, isocianato, mercapto, carboxi, sus sales, ésteres de ácidos carboxílicos, sulfo, sus sales, ésteres de ácidos sulfónicos, alquilo C1-C4, arilo sin sustituir, arilo sustituido, heteroarilo y heterorradicales alicíclicos, R 5 se elige entre el grupo formado por alquilo C1-C4, arilo sin sustituir, arilo sustituido y heteroarilo, X es halógeno o a seudohalógeno y A- es un anión ácido,…
COMPOSICIONES DE TRATAMIENTO DEL CABELLO.
Sección de la CIP Necesidades corrientes de la vida
(16/12/2006). Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: A61K7/06, A61K8/06, A61Q5/12, A61K8/895.
Una composición para el tratamiento del cabello que comprende gotitas discretas, caracterizada porque las gotitas, dentro de la misma gota, comprenden: (i) una silicona funcionalizada seleccionada entre siliconas amino-, carboxi-, betaína-, amonio cuaternario-, carhidrato-, hidroxi- y alcoxi-substituida; y (ii) un aceite hidrocarburado; en la que las gotitas discretas comprenden al menos 5% en peso de silicona funcionalizada y al menos 5% en peso de aceite hidrocarburado expresados como un porcentaje del peso total de las gotitas.
BAÑO ALCALINO ACUOSO EXENTO DE CIANUROS PARA LA DISPOSICION GALVANICA DE REVESTIMIENTOS DE ZINC O ALEACIONES DE ZINC.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/11/2003). Ver ilustración. Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: C25D3/56, C25D3/22.
Baño alcalino acuoso exento de cianuros para la deposición galvánica de revestimientos de zinc o de aleaciones de zinc sobre superficies de substratos, realizándose que éste contiene (a) una fuente para iones de zinc y eventualmente una fuente para otros iones metálicos, (b) iones de hidróxido y (c) un polímero soluble en el baño, que tiene la Fórmula general A **(Fórmula)** en la que m tiene el valor de 2 ó 3, n tiene un valor de por lo menos 2, R1, R2, R3 y R4, que pueden ser iguales o diferentes, representan en cada caso metilo, etilo o hidroxietilo, p tiene un valor situado en el intervalo de 3 a 12 y X- representa Cl-, Br- y/o I- así como eventualmente (d) aditivos usuales.
Solución y procedimiento para el tratamiento preliminar de superficies de cobre.
(16/11/2002) Solución para el tratamiento preliminar de superficies de cobre para la formación posterior de una unión adhesiva rme entre las superficies de cobre y los sustratos de material plástico, que contiene a. Peróxido de hidrógeno, b. al menos un ácido y c. al menos un compuesto heterocíclico de cinco miembros que contiene nitrógeno, que no contiene ningún átomo de azufre, selenio o telurio en el heterociclo, que se caracteriza por que d. adicionalmente al menos se incluye un compuesto adherente del grupo de ácidos sulfínico, selénico, telúrico, compuestos heterocíclicos que contienen al menos un átomo de sulfuro, selenio y/o telurio en el heterociclo, así como sales de sulfonio,…
Procedimiento para el pretratamiento de superficies de cobre.
(16/05/2002) Procedimiento para el pretratamiento de superficies de cobre para la subsiguiente formación de una unión adhesiva entre las superficies de cobre y substratos de plástico mediante la puesta en contacto de las superficies de cobre con una primera solución, que contiene a. peróxido de hidrógeno, b. por lo menos un ácido, y c. un compuesto heterocíclico de cinco miembros, que contiene por lo menos un nitrógeno, y no tiene ningún átomo de azufre, selenio o telurio en el heterociclo, caracterizado porque a continuación, las superficies de cobre se ponen en contacto con una segunda solución, que contiene, d. por lo menos un compuesto mediador de la adhesividad, del grupo formado por los ácidos sulfínicos, ácidos selénicos, ácidos telúricos, compuestos heterocíclicos, que contiene por lo menos un átomo de azufre, selenio y/o telurio en…
