(03/02/2016) Una herramienta de corte revestida que comprende un sustrato y un revestimiento, en la que el revestimiento comprende una capa de MTCVD TiCN, y una capa de α-Al2O3, en la que la capa de α-Al2O3 presenta un patrón de difracción de rayos X, medido usando radiación de CuKα y barrido θ-2θ, donde el coeficiente de textura TC(hkl) se define, según la fórmula de Harris**Fórmula** en la que I(hkl) ≥ intensidad medida (área integrada) de la reflexión (hkl), I0(hkl) ≥ intensidad normalizada según la PDF-card N.º 00-010-0173 de la ICDD, n ≥ número de reflexiones usadas en el cálculo, las reflexiones (hkl) usadas son , , , , , , y , y caracterizada por que el TC es mayor de 5, preferiblemente mayor de 6, lo más preferiblemente mayor de 7, y donde una anchura completa en el semimáximo (FWHM)…

(16/12/2015) Herramienta de corte con un cuerpo base y un recubrimiento multicapas aplicado sobre él, el cual comprende, dado el caso junto a otras capas, varias capas principales A y capas intermedias B depositadas alternativamente directamente unas sobre otras, donde las capas principales A y las capas intermedias B son correspondientemente capas de óxido metálico fabricadas por procedimiento PVD, el grosor de las capas principales A está en el rango desde 4 nm hasta 1 μm y el grosor de las capas intermedias B está en el rango desde 2 nm hasta 50 nm, donde la proporción de los grosores de las capas intermedias B con respecto a los grosores de las capas principales A se encuentra en el rango de 1:2 a 1:100, y donde dentro de una capa principal…

(11/03/2015) Un procedimiento de limpieza de un sustrato, que comprende las etapas de: preparar un sustrato recubierto con una capa comprendida de un material semiconductor fotocatalítico; y someter dicho material fotocatalítico a fotoexcitación para volver de este modo la superficie de dicha capa hidrófila; y aclarar dicho sustrato con agua con lo que los depósitos y/o contaminantes orgánicos que están adheridos a la superficie de dicha capa se liberan de la misma y se eliminan por lavado con agua, en el que dicha capa comprende titania mezclada con sílice.

(22/10/2014) Procedimiento para la obtención de capas aislantes sobre al menos una herramienta por medio de un recubrimiento en vacío, en el que se establece una descarga eléctrica de arco entre al menos un ánodo y un cátodo de una fuente de arco en una atmósfera, que contenga un gas reactivo, y generando en la superficie de un blanco conectado eléctricamente con el cátodo un campo magnético exterior, que comprende una componente Bz perpendicular a la superficie del blanco y una componente Br radial o paralela al la superficie menor que aquella, para la asistencia del proceso de vaporización, por el hecho de que un sistema magnético formado por…

(01/10/2014) Herramienta de corte con un cuerpo principal y un revestimiento multicapa aplicado sobre el mismo, en donde al menos dos capas superpuestas del revestimiento multicapa contienen o están compuestas por óxido metálico de diferentes metales de los elementos de los grupos IVa a VIIa del sistema periódico de elementos, y/o de aluminio y/o de silicio, caracterizada por que las al menos dos capas de óxido metálico superpuestas están dispuestas de forma directamente adyacente, sin capa(s) intermedia(s) y se fabrican sucesivamente por medio de diferentes procedimientos PVD, seleccionados de i) rMS, ii) deposición mediante arco catódico (Arc-PVD), iii) recubrimiento iónico, iv) deposición por haz…

(07/05/2014) Procedimiento para la producción de capas, en particular capas estables a altas temperaturas, por medio de vaporización por arco comprendiendo óxidos ternarios y/o mayores de componentes metálicos o semimetálicos, caracterizado porque una síntesis selectiva de estructuras cristalinas deseadas de la capa se consigue determinando la temperatura de formación necesaria para la síntesis de la estructura cristalina deseada y en base al diagrama de fases determina la selección de la composición de los blancos de aleación binarios (o mayores) de tal manera que el diagrama de fases de los componentes presente en la composición seleccionada la transición de…

(02/04/2014) Un artículo revestido que comprende (A) un sustrato (B) una capa dieléctrica depositada, por medio de metalizado por bombardeo atómico, sobre el sustrato que comprende: (i) una primera película dieléctrica seleccionada entre óxido de cinc, óxido de silicio, óxido de estaño, nitruro de silicio, oxinitruro de silicio y estannato de cinc, que tiene cinc en un porcentaje en peso igual y mayor de 10 e igual y menor de 90 y estaño en un porcentaje en peso igual y menor de 90 e igual y mayor de 10, depositada sobre el sustrato (A) y (ii) una segunda película de mejora eléctrica depositada sobre la primera película dieléctrica (i) que es una segunda película de estannato de cinc en donde la segunda película de estannato de cinc tiene cinc dentro del intervalo del 60 al 90 por ciento en peso y estaño en el intervalo del…

(18/12/2013) Un artículo recubierto que tiene un color negro que comprende un sustrato que tiene una superficie y que tienesobre al menos una porción de la superficie un recubrimiento en multi-capas que comprende, por orden: una primera capa de oxicarburo de un metal refractario que tiene un contenido de oxígeno y un contenido decarbono en donde el contenido de oxígeno es mayor que el contenido de carbono, una segunda capa de color encima de la primera capa de color, en donde la segunda capa de color comprende unacapa de oxicarburo de metal refractario que tiene un contenido de oxígeno y un contenido de carbono en donde…

(21/08/2013) Procedimiento para la producción de una capa de óxido de zinc conductora y transparente sobre un sustratomediante bombardeo iónico en fase gaseosa reactivo, en donde el proceso presenta una zona de histéresis y, - el calentador para el sustrato se ajusta de manera se ajusta una temperatura del sustrato por encima de200ºC, y - se ajusta una tasa de deposición dinámica mayor que 50 nm*m/min, la cual corresponde a una tasa dedeposición estática mayor que 190 nm/min, caracterizado por las etapas: - se utiliza un objetivo de Zn metálico con una sustancia dopante, ascendiendo el contenido en la sustanciadopante del…

(14/08/2013) Un método de fabricación de un artículo recubierto, el método que consiste en: producir un sustrato de vidrio; utilizar pirólisis de llama para depositar al menos una capa sobre el sustrato de vidrio;y formar una capa antigrabado encima del sustrato de vidrio sobre la capa depositadapor pirólisis de llama, en la que la pirólisis de llama se utiliza para depositar una capaque comprende óxido de silicio sobre el sustrato de vidrio, y en la que la pirólisis dellama utiliza gas TEOS que se introduce al menos en un quemador para depositar lacapa que comprende óxido de silicio y donde el artículo recubierto es una ventana, enla que la capa antigrabado comprende oxicarburo de circonio.

(25/02/2013) Uso de un compuesto que comprende un sustrato y una capa fotocatalizadora recubierta sobre el mismo, dicha capa fotocatalizadora comprende un material semiconductor fotocatalizador que tiene una superficie que se ha vuelto hidrófila mediante fotoexcitación con la luz solar, para antiempañar dichas superficies.

(16/05/2012) Instalación de procesamiento en vacío con una cámara de vacío para el tratamiento de la superficie de piezas con una fuente de vaporización con arco, que comprende un ánodo y un primer electrodo (5') configurado comoelectrodo de target, estando conectados este ánodo y este electrodo (5') con una fuente de alimentación concorriente continua y con un segundo electrodo dispuesto separado de la fuente de vaporización conarco y de la cámara de vacío, caracterizada porque los dos electrodos (5', 3, 18, 20, 22) están conectados con unafuente bipolar de corriente pulsada para la formación de una vía de descarga adicional.

(26/04/2012) Un procedimiento para fabricar una diana de 6xido mediante depósito por pulverización catódica, procedimiento que comprende las etapas de - proporcionar un soporte de diana; - aplicar una capa exterior de un material depositable por pulverización catódica sobre el mencionado soporte de diana por proyectar simultaneamente al menos un óxido y al menos un metal, capa exterior que comprende una primera fase y una segunda fase, comprendiendo la mencionada primera fase un óxido de al menos un primer metal y un segundo metal; comprendiendo la mencionada segunda fase un metal en su fase metalica, por lo que el mencionado metal en su fase metalica forma volumenes discretos situados en o entre el mencionado óxido de la mencionada primera fase, comprendiendo la mencionada…

(28/03/2012) Un procedimiento de hacer un artículo recubierto, el procedimiento comprendiendo: proporcionar un sustrato de cristal; pulverizar catódicamente una capa reflectora de IR sobre el sustrato de cristal; pulverizar catódicamente una capa que comprende Ni y/o Cr sobre el sustrato de cristal encima de la capareflectora de IR; y tratar con haz de iones al menos una superficie superior de la capa que comprende Ni y/o Cr con al menosoxígeno de forma que después de dicho tratamiento con haz de iones la capa que comprende Ni y/o Cr estámás oxidada en una ubicación más alejada de la capa reflectora de IR que en una ubicación más cerca dela capa reflectora de IR.

(08/07/2011) Cuerpo de óxido sinterizado para una placa de fuente de evaporación que contiene óxido de indio y donde está contenido tungsteno en solución sólida, de forma que la proporción atómica entre el tungsteno y el indio es de 0,001 a 0,034 y la densidad está entre 4,0 g/cm 3 y 5,9 g/cm 3 , no conteniendo el cuerpo de óxido sinterizado ninguna fase metálica y presentando un tamaño medio de grano cristalino inferior o igual a 10 μm

(24/06/2011) Material para la deposición de vapor para la obtención de capas ópticas de un alto índice de refracción, de dióxido de titanio, titanio y óxido de lantano en vacío, caracterizado porque se trata de una mezcla sinterizada de 58,9 % en peso de óxido de lantano, 37,9 % en peso de dióxido de titanio y 3,2 % en peso de titanio en relación al peso total de la mezcla

(05/07/2010) Herramienta cortante con un cuerpo de base , que lleva una estructura estratificada con por lo menos una capa de óxidos por lo menos ternaria, monofásica metastable, producida según el procedimiento de PVD, que se presenta en forma de un cristal mixto de sustitución, que tiene un componente principal y por lo menos un componente secundario, constituyendo el componente principal la proporción predominante y el componente secundario, con una proporción de más de 1% en átomos y hasta de 4% en átomos, una proporción menor, siendo el componente principal aluminio y el componente secundario cromo o titanio o zirconio, y teniendo la capa de óxidos ternaria la estructura de una capa de ?-óxido de aluminio

(16/03/2007) Procedimiento de fabricación de una pletina de fijación que comprende, en una sola pieza, una placa de base y un cuerpo tubular, que comprende las etapas consistentes en: - recorte de una pieza de partida de chapa de modo que éste defina una parte central de forma general rectangular flanqueada por dos partes laterales que comprenden un ala denominada media bordeada lateralmente por una aleta bordeada a su vez, en el lado de la parte central , por una ranura (16A, 17A), estando provista cada aleta , en su lado libre perpendicular a la ranura (16A, 17A) de, al menos, una lengüeta adaptada para penetrar en una abertura rectangular de la otra ala ;…

(01/05/2004) Método para la obtención de óxidos conductores eléctricos y transparentes mediante pulverización catódica. Consiste en depositar óxido de indio dopado con estaño y óxido de zinc dopado con aluminio, sobre substratos de vidrio sin calentar intencionadamente, mediante la técnica de pulverización catódica. Comprende las siguientes etapas: Preparación de los substratos mediante desengrasado, lavado en baño de ultrasonidos, aclarado con agua desionizada y secado mediante chorro de aire. Introducción de los substratos a recubrir en una cámara de pulverización catódica, y bombardeo de los mismos con iones Ar{sup,+}. Preparación de blancos de óxido de indio dopado con estaño o de óxido de zinc dopado con aluminio mediante bombardeo con iones Ar{sup,+}. Recubrimiento…

(01/12/2003) LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO Y UNA PLANTA PARA LA FABRICACION DE UNA CAPA ABSORBENTE CON SELECTIVIDAD ESPECTRAL SOBRE COLECTORES SOLARES QUE PRESENTAN UNA ELEVADA CAPACIDAD DE ABSORCION SOLAR Y UNA BAJA EMITANCIA TERMICA. DICHO PROCEDIMIENTO SE LLEVA A CABO SOBRE UN MATERIAL RECEPTOR MOVIL, ATOMIZANDO METAL EN UNA ZONA DE REVESTIMIENTO , PRESENTE EN UNA CAMARA, UTILIZANDO UNA ATMOSFERA DE PULVERIZACION CATODICA, QUE CONTIENE AL MENOS UN GAS UTILIZADO PARA LA PULVERIZACION CATODICA, PREFERIBLEMENTE ARGON (AR) Y UN GAS REACTIVO, PREFERIBLEMENTE OXIGENO (O). EL METAL FORMA EL CATODO Y EL MATERIAL RECEPTOR FORMA EL ANODO, ENTRE LOS CUALES SE OBTIENE UNA DIFERENCIA DE POTENCIAL Y POR TANTO UN PLASMA, CON LO CUAL SE PRODUCE…