CIP-2021 : G03F 7/039 : Compuestos macromoleculares fotodegradables, p. ej. reservas positivas sensibles a los electrones (G03F 7/075 tiene prioridad;
quinonadiazidas macromoleculares G03F 7/023).
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G FISICA.
G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.
G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).
G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F 7/039 · · Compuestos macromoleculares fotodegradables, p. ej. reservas positivas sensibles a los electrones (G03F 7/075 tiene prioridad; quinonadiazidas macromoleculares G03F 7/023).
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Método para fabricar una plancha de impresión litográfica fotosensible positiva.
(26/05/2015) Método para fabricar un material de plancha de impresión litográfico fotosensible positivo, comprendiendo dicho método los pasos de
- granular un soporte de aluminio mediante pulido con cepillo o grabado electrolítico en una solución de ácido clorhídrico o ácido nítrico,
- anodizar el soporte de aluminio granulado en un disolvente de ácido sulfúrico,
- recubrir la superficie del soporte con una solución de una composición fotosensible positiva en un disolvente, y
- secar,
en el que la solubilidad en un revelador alcalino de dicha composición, durante una exposición por barrido a la luz en el intervalo de longitud de onda de 650 a 1.300 nm, aumenta en la área expuesta, lo que permite formar una imagen mediante un revelador alcalino,
en el que la composición contiene como componentes esenciales inductores de dicho…
Elementos de fotopolímero con formación de imagen digital sin procesamiento usando microesferas.
(06/11/2013) Un método de fabricación de una plancha de impresión en relieve con formación de imagen digital que comprendelas etapas de:
a) proporcionar una capa curable colapsable que comprende (i) un elastómero curable, (ii) un material queabsorbe la luz láser a una longitud de onda seleccionada y (iii) microesferas, entre una lámina de cubierta y unalámina de respaldo para formar una plancha de impresión;
b) exponer la capa curable colapsable a través de la lámina de respaldo para establecer una capa de suelo;
c) retirar la lámina de cubierta de la plancha de impresión;
d) usar un láser para colapsar y fundir porciones de la capa curable colapsable para formar una imagen enrelieve sobre la plancha…
COMPOSICIONES DIELECTRICAS FOTODEFINIBLES.
(16/12/2002). Solicitante/s: THE B.F. GOODRICH COMPANY. Inventor/es: SHICK, ROBERT, A., JAYARAMAN, SAIKUMAR, ELCE, EDMUND, GOODALL, BRIAN, L.
LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION DIELECTRICA FOTODEFINIBLE QUE CONTIENE UN FOTOINICIADOR Y UN POLIMERO DE ADICION POLICICLICO QUE COMPRENDE UNIDADES DE REPETICION QUE CONTIENEN SUSTITUYENTES HIDROLIZABLES SUSPENDIDOS CON FUNCIONALIDADES SILILO. TRAS SU EXPOSICION A UNA FUENTE DE RADIACION, EL FOTOINICIADOR CATALIZA LA HIDROLISIS DE LOS GRUPOS HIDROLIZABLES PARA CAUSAR LA CURA DEL POLIMERO Y LA ADHESION DEL POLIMERO A LOS SUBSTRATOS DESEADOS.
COMPOSICION FOTOSENSIBLE.
(16/04/2001). Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Inventor/es: MEYER, HEINRICH, PIRRI, ROSANGELA, MEUNIER, GILLES, VERZARO, FRANCIS, URRUTIA DESMAISON, GONZALO.
LA INVENCION SE REFIERE A COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES CAPACES DE SER REVELADAS COMO POSITIVOS. LAS COMPOSICIONES NORMALES MUESTRAN UNA FOTOSENSIBILIDAD NO SUFICIENTE O NO SON ADECUADAS PARA USARSE EN SUPERFICIES DE COBRE, POR EJEMPLO PLACAS DE CIRCUITOS IMPRESOS, YA QUE LAS PARTES DE LAS CAPAS ILUMINADAS DE LA COMPOSICION NO PUEDEN EXTRAERSE POR COMPLETO DURANTE EL REVELADO, DE TAL FORMA QUE SE PRODUCEN PROBLEMAS DURANTE LA METALIZACION O ESTAMPACION SUBSIGUIENTES. EN LAS COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES CONFORME A LA INVENCION NO SE OBSERVAN ESTOS INCONVENIENTES. SE DESCRIBEN DIFERENTES COMPOSICIONES QUE CONTIENEN GENERADORES FOTO-ACIDOS Y UNA RESINA POLIMERICA CON GRUPOS LATERALES QUE PUEDEN ESCINDIRSE CON ACIDOS, LA CUAL ESTA COMPUESTA MEDIANTE POLIMERIZACION POR AL MENOS TRES DIFERENTES MONOMEROS DE ACRILATO O METACRILATO.
CAPA FOTOPROTECTORA EN SECO QUE OPERA EN POSITIVO DE ALTA RESOLUCION.
(16/01/2001). Ver ilustración. Solicitante/s: MORTON INTERNATIONAL, INC.. Inventor/es: KOES, THOMAS A., BELTRAMO, GRIEG B.
COMPOSICION DE UNA CAPA PROTECTORA DE LA LUZ QUE ACTUA DE POSITIVO (P.EJ. UNA PELICULA SECA EN MONOCAPA) QUE ES DESPRENDIBLE EN SOLUCION ACUOSA ALCALINA, COMPUESTA DE UN GENERADOR FOTOACIDO Y UN SISTEMA AGLUTINANTE DE RESINA TRANSPARENTE AL UV, QUE PERMITE UN FOTOBLANQUEADO EFICIENTE DEL COMPONENTE FOTOACTIVO. UNA RESINA CELULOSICA CON UN GRUPO FUNCIONAL ACIDO PUEDE SER LA UNICA RESINA AGLUTINANTE, AUNQUE OPCIONALMENTE PUEDE USARSE UNA RESINA ACRILICA ACIDA. EL RECUBRIMIENTO SECO ES FLEXIBLE Y PUEDE USARSE COMO CAPA DE PROTECCION EN PROCESOS DE AGUAFUERTE Y PLAQUEADO.
PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE CUERPOS MICROESTRUCTURADOS.
(16/03/1998). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: REINECKE, HOLGER, HOFFMANN, GERHARD, HOESSEL, PETER, DR., LANGEN, JUERGEN, DR.
LA INVENCION CONCIERNE A UN PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE CUERPOS MICROESTRUCTURADOS, CON PROFUNDIDADES DE ESTRUCTURA DE VARIOS (MU)M HASTA EN EL MARGEN MM, POR MEDIO DE RADIACIONES DE LOS POLIMEROS CON RAYOS X, EN EL QUE SON APLICADOS COMO POLIMEROS, POLIESTERES ALIFATICOS.
PROCEDIMIENTO DE FOTOESTRUCTURACION.
(16/07/1997). Solicitante/s: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BIRKLE, SIEGFRIED, LEUSCHNER, RAINER, KUHN, EBERHARD, BECK, JURGEN, DIPL.-CHEM., SEBALD, MICHAEL, DR., SEZI, RECAI, DR., AHNE, HELLMUT, DR..
UN PROCEDIMIENTO PARA ESTRUCTURACION EN EL CAMPO SUBMICRON ESTA CARACTERIZADO POR LOS SIGUIENTES PASOS: SE REUNE UNA CAPA FOTORESISTENTE DE UN COMPONENTE DE POLIMERO CON GRUPOS FUNCIONALES QUE ESTAN CAPACITADOS PARA UNA REACCION CON AMINAS PRIMARIAS O SECUNDARIAS Y GRUPOS IMIDOS QUE BLOQUEAN EL NITROGENO, DE UN FOTOINICIADOR LIBERADO POR LA EXPOSICION DE UN ACIDO Y DE UN DISOLVENTE APROPIADO; ENTE SE SECA; LA CAPA FOTORESISTENTE EXPUESTA SE SOMETE A UN TRATAMIENTO DE TEMPERATURA ; ESTRUCTURA FOTORESISTENTE; RATA CON UN AGENTE QUIMICO QUE CONTENGA UN AMINO PRIMARIO O SECUNDARIO; EN EL REVELADO SE GRADUA UN NIVEL DE OSCURIDAD DEFINITIVO EN UN CAMPO ENTRE 20 Y 100 NM.
(16/10/1996). Solicitante/s: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BIRKLE, SIEGFRIED, SEBALD, MICHAEL, DR., SEZI, RECAI, DR., AHNE, HELLMUT, DR., RAINER, LEUSCHNER, DR., BORNDORFER, HORST, DIPL.-CHEM.
UNA FOTORESISTA PARA LA GENERACION DE UNA ESTRUCTURA EN EL CAMPO DE LOS SUBMICRONES CONTIENE LOS SIGUIENTES COMPONENTES: RGANICO Y GRUPOS DE ACIDO ORGANICO TERCIARIO-BUTILESTER , FOTOINICIADOR QUE LIBERA UN ACIDO DURANTE LA EXPOSICION, Y.
PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE GRABADOS POSITIVOS.
(01/11/1994). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Inventor/es: DEMMER, CHRISTOPHER GEORGE, DR., IRVING, EDWARD, DR.
COMPRENDE: I) UNA CAPA DE UNA COMPOSICION CONTENIENDO: A) UN MATERIAL ORGANICO FORMADO POR PELICULA Y B) UN SULFONATO DE OXAMIDAS AROMATICO IRRADIADO CON UNA MUESTRA CONOCIDA DE UN RAYO ACTINICO, CON LO QUE DICHA COMPOSICION RECIBE EN LAS PARTES DE LA SUPERFICIE TRATADA UNA ELEVADA SOLUBILIDAD EN UN REVELADOR ACUOSO-ALCALINO, COMO EN LAS PARTES DE LA SUPERFICIE NO TRATADA; Y II) LAS PARTES DE SUPERFICIE TRATADA DE DICHA COMPOSICION SE RETIRAN MEDIANTE UN TRATAMIENTO CON UN REVELADOR ACUOSO ALCALINO. EL PROCEDIMIENTO DE GRABADO ES APROPIADO PARA LA FABRICACION DE PLACAS DE PRESION Y CIRCUITOS DE CONMUTACION.
PROCESO DE FOTOATAQUE AL ACIDO DE REVESTIMIENTOS DE SUPERFICIES BASADO EN MATERIALES POLIMERICOS.
(16/10/1993). Solicitante/s: MONTEDISON S.P.A.. Inventor/es: OCCHIELLO, ERNESTO, DR. CHEM., GARBASSI, FABIO, DR. CHEM., MALATESTA, VINCENZO, DR.-CHEM.
EL PROCESO DE FOTOATAQUE AL ACIDO DE REVESTIMIENTOS SUPERFICIALES BASADO EN MATERIAL POLIMERICO, COMPRENDE LA IRRADIACCION DE LA SUPERFICIE REVESTIDA, CON PROTECTOR LOCALIZADA POR RAYOS LASER, CON LONGITUDES DE ONDA IGUALES O INFERIORES A 193 NM.
UN METODO DE AUMENTAR EL CONTRASTE DE UN MATERIAL PROTECTOR POSITIVO DE POLIMERO.
(16/09/1985). Solicitante/s: EXXON RESEARCH AND ENGINEERING COMPANY.
PROCEDIMIENTO PARA AUMENTAR LA SENSIBILIDAD DE MATERIALES PROTECTORES POSITIVOS SENSIBLES A RADIACIONES.COMPRENDE: OBTENER UNA FRACCION ESTRECHA DE PESOS MOLECULARES DE UN MATERIAL PROTECTOR POSITIVO DE POLIMERO; RECUBRIR UN SUSTRATO CON DICHO MATERIAL DE FRACCION ESTRECHA DE PESOS MOLECULARES; Y COCER DICHO SUSTRATO RECUBIERTO CON EL MATERIAL PROTECTOR DE FRACCION ESTRECHA A UNA TEMPERATURA SUPERIOR A LA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA.
UN METODO DE AUMENTAR LA SENSIBILIDAD DE UNA CAPA PROTECTORA POSITIVA DE POLIMERO.
(01/03/1985). Solicitante/s: EXXON RESEARCH AND ENGINEERING COMPANY.
METODO DE AUMENTAR LA SENSIBILIDAD DE UN MATERIAL PROTECTOR POSITIVO DE POLIMERO.CONSISTE EN: A) OBTENER UNA FRACCION ESTRECHA (ENTRE 1HMW/MNH1,5) DEL MATERIAL PROTECTOR POSITIVO DE POLIMERO (PMMA), SIENDO MW F PESO MOLECULAR PROMEDIO PONDERAS Y MN F PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO; B) RECUBRIR UN SUSTRATO CON EL MATERIAL PROTECTOR DE FRACCION ESTRECHA DE PESOS MOLECULARES; Y C) COCER EL SUSTRATO RECUBIERTO CON EL MATERIAL PROTECTOR DE FRACCION ESTRECHA DE PESOS MOLECULARES, A UNA TEMPERATURA INFERIOR A LA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA.
PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE ARTICULOS CON CAPAS PROTECTORAS SENSIBLES A LA RADIACION.
(16/01/1980) Procedimiento de fabricación de artículos con capas protectoras sensibles a la radiación, que comprende una operación durante la cual el artículo a fabricar incluye una superficie de artículo y una capa de elaboración actínica super yacente, consistiendo esencialmente dicha capa de elaboración en material polimérico, cuyo procedimiento comprende las etapas de exponer selectivamente porciones de dicha capa de elaboración a radiación actínica para definir un modelo , con lo cual se aumenta la facilidad de separación de dichas porciones de la capa de elaboración por un agente de revelado, dependiendo dicha facilidad de separación de la disminución eficaz del peso molecular de dicho material polimérico resultante de la exposición por la citada radiación actínica tratar dicha capa de elaboración con el agente de revelado para separar…
PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE ARTICULOS CON CAPAS PROTECTORAS SENSIBLES A LA RADIACION.
(16/01/1980) Procedimiento para la fabricación de un articulo que comprende una operación durante la cual el artículo de fabricación comprende una superficie del artículo y una capa de elaboración actínica super yacente, comprendiendo la capara de elaboración una mezcla de fase compatible que comprende material polímero, cuyo procedimiento comprende las fases de: exponer de una forma selectiva partes de la capa de elaboración a radiación actínica de modelación, por lo que se efectúa una diferencia en la facilidad de remocción o eliminación de partes expuestas con relación a partes sin exponer de la capa de elaboración por un agente revelador revelar por tratamiento de la capa de elaboración con el agente revelador para eliminar material de una forma selectiva, produciendo por lo tanto una capa de elaboración modelada, definiéndose el modelo…
