CIP-2021 › C › C23 › C23C › C23C 14/00 › C23C 14/12[2] › Compuesto orgánico.
Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
C QUIMICA; METALURGIA.
C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.
C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).
C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento.
C23C 14/12 · · Compuesto orgánico.
(07/12/2015) Uso de alcoxisilanos alfa-aminofuncionales para el tratamiento de superficies de acero con contenido en fósforo que son expuestas seguidamente a una atmósfera corrosiva de una mezcla gaseosa a base de humedad residual, cloro, cloruro de hidrógeno, clorosilanos, hidrógeno y eventualmente silicio elemental reactivo.
(05/03/2014) Máquina para revestir un artículo óptico con una composición de revestimiento antisuciedad, que comprende: - una cámara de vacío que presenta un especio interior configurado para recibir el artículo óptico ; - una bomba de vacío conectada a la cámara de vacío ; - un generador de plasma configurado para llevar a cabo un tratamiento de plasma al vacío del artículo óptico en la cámara de vacío ; - un dispositivo de evaporación configurado para llevar a cabo un tratamiento de evaporación al vacío de la composición de revestimiento antisuciedad para su depósito sobre el artículo óptico en la cámara de vacío ; y - una unidad de control configurada para controlar tanto el generador de plasma como el dispositivo de evaporación; controlando…
(12/03/2012) Laminado que comprende una capa de sustrato y una película de plástico y, entremedias, una capa de triazina cristalina y una capa de metal o de óxido de metal, teniendo el laminado una resistencia a la laminación de aproximadamente 2 N/25 mm (pulgada) o más, medido en una prueba de tensión de 90 grados a 30 mm/min.
(23/06/2010) Un procedimiento para formar una lámina delgada en un sustrato que comprende: proporcionar un sustrato en una cámara; formar una lámina de óxido en el sustrato en la cámara; insertar un material compuesto que comprende un soporte poroso y un material anfifílico de silsesquioxano poliédrico oligomérico en la cámara, en donde el soporte poroso comprende un metal y comprende poros de un tamaño de poros promedio alrededor de 1 micrómetro a alrededor de 1000 micrómetros; ajustar en la cámara al menos una temperatura del material compuesto de alrededor de 50 a alrededor de 300ºC y una presión de alrededor de 0.000001 a alrededor de 760 torr para inducir una vaporización del material anfifílico de silsesquioxano poliédrico oligomérico; y recuperar el sustrato con la lámina delgada encima, en dónde…
(16/05/2006). Solicitante/s: MERCK PATENT GMBH. Inventor/es: ANTHES, UWE, DOMBROWSKI, REINER.
AGENTE PARA LA PREPARACION DE RECUBRIMIENTOS HIDROFOBICOS SOBRE SUSTRATOS OPTICOS, QUE COMPRENDEN UN CUERPO DE MOLDEO ELECTROCONDUCTOR POROSO Y UN COMPUESTO ORGANICO DE SILICIO, QUE SE OBTIENE MEDIANTE A) MEZCLADO DE UN MATERIAL SOPORTE ELECTROCONDUCTOR O SEMICONDUCTOR CON UN LIGANTE Y COMPRESION DE LA MEZCLA PARA DAR UN CUERPO COMPRIMIDO, B) SINTERIZACION DEL CUERPO COMPRIMIDO A 1100 HASTA 1500 C EN EL AIRE PARA DAR UN CUERPO DE MOLDEO POROSO, C) IMPREGNACION DEL CUERPO DE MOLDEO CON EL CUERPO ORGANICO DE SILICIO, Y D) ENVEJECIMIENTO DEL CUERPO DE MOLDEO IMPREGNADO MEDIANTE SU ALMACENAMIENTO AL AIRE DURANTE AL MENOS 3 DIAS.
(01/05/2004). Solicitante/s: DSM N.V.. Inventor/es: JAHROMI, SHAHAB, AAGAARD, OLAV, MARCUS, HOUBEN, JAN, MARIA, RAEMAEKERS, KAREL, GERARDUS, HUBERTUS.
Un material compuesto, obtenible por el procedimiento de una cualquiera de las reivindicaciones 7-10, que comprende un sustrato y una capa sobre el sustrato, caracterizado porque la capa comprende un compuesto de triazina seleccionado entre melamina, amelina, amelida, ácido cianúrico, 2-ureidomelamina, melam, melem, melon y sales de melamina, o una combinación de ellos.
(16/11/2002). Solicitante/s: MERCK PATENT GMBH. Inventor/es: DOMBROWSKI, REINER, FRIZ, MARTIN, DR.
LA INVENCION TRATA DE UN COMPUESTO Y PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE RECUBRIMIENTOS HIDROFUGOS SOBRE SUSTRATOS OPTICOS. SE COLOCAN SOBRE LOS SUSTRATOS COMPUESTOS DE FORMULA I EN DONDE R{SUP,1} ES ALCOXILO CON 1 A 3 ATOMOS DE C O C{SUB,N}F{SUB,2N+1}(CH{SUB ,2}){SUB,M}-SI(R{SUP ,2}R{SUP,3})-OR{SUP,2} , R{SUP,3} ES ALQUILO O ALCOXILO CON 1 A 3 ATOMOS DE C N VALE DE 1 A 12 M VALE DE 1 A 6, POR EVAPORACION A VACIO.
(16/05/2002). Solicitante/s: ELF ATOCHEM S.A.. Inventor/es: VERZARO, FRANCIS, FERRY, DIDIER.
LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO DE DEPOSITO POR POLIMERIZACION-PLASMA DE UNA CAPA O DE UNA PELICULA PROTECTORA SOBRE LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO DE MATERIA PLASTICA. COMPRENDE AL MENOS LAS ETAPAS: 1) DE PRETRATAMIENTO QUE CONSISTE EN DISPONER EL SUSTRATO DE MATERIA PLASTICA SOBRE UN PORTASUSTRATO POCO O NO SOLIDARIZADO, EN SOMETERLO A AL MENOS UN GAS DE PRETRATAMIENTO QUE PERMITE EL APORTE DE OXIGENO Y EN PROPORCIONAR AL MEDIO GASEOSO DE PRETRATAMIENTO UNA CANTIDAD DE ENERGIA MINIMA PARA CREAR UNA CANTIDAD DE OXIGENO EN EL PLASMA CON VISTAS A ACTIVAR LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO, SIENDO ESTA ENERGIA PROPORCIONADA EN FORMA DE UN IMPULSO DE DENSIDAD DE POTENCIA ELECTRICA Y 2) DE DEPOSITO DE LA CAPA O DE LA PELICULA SOBRE LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO MEDIANTE UN PLASMA CONSTITUIDO DE UNA MEZCLA GASEOSA DE DEPOSITO QUE COMPRENDE AL MENOS UN GAS QUE PERMITE EL APORTE DE OXIGENO Y UN COMPUESTO ORGANOSILICIADO.
(01/10/1997). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: BLANCHET-FINCHER, GRACIELA, BEATRIZ.
UN PROCESO PARA PRODUCIR CAPAS DELGADAS DE UN PRIMER POLIMERO DE ADICION EN UN SUBSTRATO COMPRENDIENDO BOMBARDEAR UN OBJETO, CONSISTIENDO ESENCIALMENTE DE UN SEGUNDO POLIMERO DE ADICION, CON RADIACION DE UN LASER PULSADO EN UNA ATMOSFERA DE VACIO O GAS PARA FORMAR UN PENACHO DE COMPONENTES DE DICHO SEGUNDO POLIMERO; Y DEPOSITAR DICHO PENACHO EN UN SUBSTRATO, POR EL QUE ES FORMADA UNA CAPA DE DICHO PRIMER POLIMERO. EL PRIMER Y SEGUNDO POLIMERO DE ADICION DEBEN SER IDENTICOS O DIFERENTES Y EN AMBOS CASOS DEBEN SER FLUOROPOLIMERO.
(01/04/1997). Solicitante/s: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY. Inventor/es: DEBE, MARK, K.
ESTA INVENCION PRESENTA UN ARTICULO COMPUESTO QUE TIENE MICROESTRUCTURAS DISCRETAS PARCIALMENTE ENCAPSULADAS DENTRO DE UNA CAPA . TAMBIEN SE PRESENTA UN METODO PARA LA PRODUCCION DEL MISMO. EL ARTICULO DE LA PRESENTE INVENCION ES UTIL PARA DISPOSITIVOS ABSORBEDORES DE RADIACIONES VISIBLES TALES COMO, POR EJEMPLO, ABSORBEDORES SOLARES SELECTIVOS, COLECTORES SOLARES DE PLACA PLANA, PANELES DE ABSORCION SOLARES Y CELULAS SOLARES.
(16/02/1996). Ver ilustración. Solicitante/s: DAVIDSON TEXTRON INC.. Inventor/es: EISFELLER, RICHARD C., CLARK, JOHN.
SISTEMA PARA PRODUCIR PIEZAS DE ALUMINIO BRILLANTES; SE FORMA REVESTIMIENTO DE CONVERSION DE CROMATO DEL OBJETO DE ALUMINIO; SE APLICA SECUENCIALMENTE UN RECUBRIMIENTO DE CEBADOR A LA SUPERFICIE EXTERIOR Y LUEGO UN RECUBRIMIENTO DE BASE DEL SUSTRATO DIELECTRICO; SE METALIZA EN VACIO UN METAL PROPENSO A LA CORROSION SOBRE EL RECUBRIMIENTO DE BASE DEL SUSTRATO DIELECTRICO PARA FORMAR "ISLAS" DEL METAL PROPENSO A LA CORROSION, QUE ESTAN RECUBIERTAS EN SU PARTE SUPERIOR CON UNA CAPA RESINOSA TRANSPARENTE PARA ENCAPSULAR Y AISLAR LAS ISLAS UNA DE OTRA; ESTAS ISLAS TIENEN UN ESPESOR MENOR QUE 1.000 ANGSTROMS Y TIENEN UN DIAMETRO MEDIDO MENOR QUE 3.000 ANGSTROMS. EL AGENTE DE ATAQUE QUIMICO SE SELECCIONA PARA LIMPIAR LOS CANALES ENTRE LAS ESTRUCTURAS DE ISLA PARA MEJORAR LA ADHERENCIA DE UN RECUBRIMIENTO SUPERIOR RESINOSO DIELECTRICO AL SUSTRATO DIELECTRICO, EN AL MENOS UN ORDEN DE MAGNITUD, A LA ADHERENCIA DE LAS ISLAS.
