CIP-2021 : C25D 3/10 : caracterizadas por los constituyentes orgánicos utilizados en el baño.
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
C QUIMICA; METALURGIA.
C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.
C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B).
C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados.
C25D 3/10 · · · caracterizadas por los constituyentes orgánicos utilizados en el baño.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Electrólito para galvanoplastia.
(25/03/2020). Ver ilustración. Solicitante/s: UNIVERSITY OF LEICESTER. Inventor/es: ABBOTT, ANDREW, PETER, RYDER,KARL SCOTT, HARRIS,ROBERT.
Un electrólito para la electrodeposición de cromo que comprende:
(A) de un 10 a un 25 % en peso de agua;
(B) al menos una sal de cromo;
(C) al menos un agente complejante seleccionado de acetamida, urea, etilenglicol, 1,3-propanodiol, 1,4-butanodiol, 1,5-pentanodiol, 1,6-hexanodiol, glicerol, haluro de amonio cuaternario o cloruro de colina, en el que la proporción molar de los componentes B:C está en el intervalo de 1:1 a 1:50; y
(D) al menos una sal de bromuro o yoduro, en el que la sal presente está en una concentración de 0,05 a 0,2 mol dm-3.
PDF original: ES-2808869_T3.pdf
Baño de galvanoplastia y método para producir capas de cromo oscuro.
(18/12/2019) Un baño de galvanoplastia para deposición de una capa de cromo oscuro sobre una pieza de trabajo, comprendiendo el baño de galvanoplastia:
(A) iones de cromo trivalente;
(B) iones carboxilato que son iones citrato, iones malato o mezclas de los mismos;
(C) al menos una sustancia amortiguadora de pH; y
(D) una mezcla de uno o más agentes de coloración seleccionados del grupo de compuestos que contienen azufre según la Fórmula (I) con uno o más agentes de coloración seleccionados del grupo de compuestos que contienen azufre según la Fórmula (II)
**(Ver fórmula)**
donde
n, p, q son, independientemente…
Composición acuosa de electrolito que tiene una emisión aérea reducida.
(06/11/2019). Solicitante/s: MacDermid Enthone Inc. Inventor/es: HORSTHEMKE,HELMUT.
Composición acuosa de electrolito para depositar una capa metálica sobre una superficie de sustrato, en donde la composición comprende al menos iones del metal que se van a depositar y al menos un tensioactivo, en donde el tensioactivo está comprendido en una concentración eficaz para conseguir una tensión superficial dinámica de la composición de ≤35 mN/M, preferiblemente de ≤33 mN/M, con máxima preferencia de ≤30 mN/M, caracterizado porque el tensioactivo es al menos un tensioactivo de la fórmula general CNFMHZSO2X, en donde N es un número entero entre ≥6 y ≤ 22, preferiblemente entre ≥ 7 y ≤ 20, 0 < M ≤ 2N, Z = 2N+1-M, y X es uno de F, Cl, o Br y en donde el tensioactivo está comprendido en un intervalo de concentración entre ≥0,0000001 % en peso y ≤0,000002 % en peso, preferiblemente entre ≥0,0000004 % en peso y ≤ 0,0000015 % en peso.
PDF original: ES-2766775_T3.pdf
Recubrimiento de aleación de cromo con una resistencia aumentada a la corrosión en entorno de cloruro de calcio.
(16/04/2019). Solicitante/s: MacDermid Acumen, Inc. Inventor/es: PEARSON,TREVOR, HERDMAN,RODERICK D, HANDY,STACEY, YAMAMOTO,TOSHIYUKI, ISHIWATA,KOTARO, HARA,MASAHIRO, NISHIYAMA,TATSUYA.
Una solución de electrodeposición de cromo, que comprende:
a. una sal de cromo trivalente soluble en agua;
b. más de un agente formador de complejos para iones de cromo trivalente, donde los agentes formadores de complejos se seleccionan de entre ácido málico, ácido aspártico, ácido maleico, ácido succínico, glicina y sales solubles de cualquiera de los anteriores, y donde los agentes formadores de complejos están presentes en el intervalo de 5 a 40 gramos por litro;
c. un compuesto tamponador del pH adicional; y
d. un compuesto orgánico que contiene azufre, donde el compuesto orgánico que contiene azufre comprende azufre divalente;
donde el pH de la solución es de 2,8 - 4,2.
PDF original: ES-2709506_T3.pdf
Depósito de cromo cristalino.
(07/03/2018). Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Inventor/es: BISHOP,CRAIG,V, ROUSSEAU,AGNES, MATHE,ZOLTAN.
Un depósito de cromo funcional cristalino que tiene un parámetro de red de 2,8895 ± 0,0025 Å, en el que el depósito de cromo funcional comprende carbono, nitrógeno y azufre en el depósito de cromo, en el que el depósito de cromo funcional comprende del 1 % en peso al 10 % en peso de azufre, del 0,1 % en peso al 5 % en peso de nitrógeno y del 0,1 % en peso al 10 % en peso de carbono.
PDF original: ES-2669050_T3.pdf
Baño de electrometalizado y método para producir capas de cromo oscuras.
(13/04/2016) Un baño de electrometalizado para deposición de una capa de cromo oscura sobre una pieza a máquina, comprendiendo el baño de electrometalizado:
(A) iones de cromo trivalente;
(B) iones de carboxilato;
(C) al menos una sustancia de regulación del pH; y
(D) al menos un agente de coloreado seleccionado entre compuestos que contienen azufre que tienen la **Fórmula**
en la que
n, p, q son independientemente uno de otro números enteros de 0 a 4;
R1 representa -H, -OH, -COOH, -CO-OCH3, -CO-OCH2-CH3, -(-O-CH2-CH2-)m-OH, -CH(-NH2)-COOH, -CH(- NH-CH3)-COOH, -CH(-N(-CH3)2)-COOH, -CH(-NH2)-CO-OCH3, -CH(-NH2)-CO-OCH2-CH3, -CH(-NH2)-CH2- OH, -CH(-NH-CH3)-CH2-OH, -CH(-N(CH3)2)-CH2-OH, -SO3H;
m representa un número entero de 5 a 15;
R2 representa -H, -OH, -(CH2-)p-OH, -(CH2-)pC(-NH2)≥NH,…
Procedimiento para la segregación de cromo duro a partir de electrolitos exentos de Cr(VI).
(17/12/2014) Procedimiento para la segregación galvánica de cromo duro sobre un sustrato a partir de una solución electrolítica que contiene Cr(II) o mezclas de Cr(II) y Cr(III), así como halogenuros, caracterizado porque la formación de halógeno elemental se impide por utilización de un ánodo soluble o porque el halógeno elemental que se origina durante la segregación forma un complejo con un formador de complejos, el cual es un compuesto de amonio cuaternario.
Capa de cromo funcional con resistencia a la corrosión mejorada.
(22/10/2014) Un baño de galvanoplastia acuoso para depositar una capa de cromo funcional, que comprende
(i) una fuente de iones cromo (VI),
(ii) una fuente de iones sulfato y
(iii) ácido metano-trisulfónico, o una sal del mismo.
Depósito de aleación de cromo cristalino.
(11/06/2014) Un depósito de aleación de cromo funcional, cristalino, electrodepositado, en el que la aleación comprende cromo, de 0,1% en peso a 10% en peso de carbono, de 0,1% en peso a 5% en peso de nitrógeno, de 0,5% en peso a 7% en peso de oxígeno y de 0,05% en peso a 20% en peso de azufre y el depósito es nanogranular tal como fue depositado.
CROMADO A PARTIR DE BAÑOS CATALIZADOS POR COMPUESTOS ALCANODISULFONICOS-ALCANOSULFONICOS CON INIBIDORES COMO BASES AMINACANOSULFONICAS Y HETEROCICLICAS.
(01/09/2001). Solicitante/s: LUIGI STOPPANI S.P.A.. Inventor/es: FREDIANI, LIDO, MERELLO, GIOVANNI.
Se usan compuestos alcanosulfónicos o alcanodisulfónicos C1-C12 y ácidos aminoalcanosulfónicos o sus sales como aditivos en baños de cromado para reducir la corrosión anódica, mejora el poder de recubrimiento y penetración del baño, reduce la tensión superficial y da un depósito brillante.
PROCEDIMIENTO Y BAÑO PARA CHAPAR DE CROMO CON POLICROMATOS.
(16/07/1999). Solicitante/s: LUIGI STOPPANI S.P.A.. Inventor/es: FREDIANI, LIDO, MERELLO, GIOVANNI.
UN BAÑO DE ELECTRODEPOSICION DE CROMO, QUE CONTIENE POLICROMATOS Y SULFATOS, SE SOMETE A ADICION DE SULFONAMIDAS Y/O SULFONIMIDAS, PRODUCIENDO DEPOSITOS BRILLANTES, E INHIBIENDO LA CORROSION ANODICA, Y A ADICION DE CATIONES DE NA, MG Y AMONIO, PARA AUMENTAR EL PODER CUBRIENTE.
INHIBIDORES DE NIEBLA DE ROCIADO PARA BAÑOS DE ELECTROLISIS BASICA.
(16/10/1997). Solicitante/s: BAYER AG. Inventor/es: STACHULLA, KARL-HEINZ, POHMER, KLAUS, DR., ALTEWEIER, HANS-BERND.
LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A LA UTILIZACION DE NIEBLA DE ROCIADO EN PROCESOS DE BAÑO DE ELECTROLISIS BASICA.
CAPAS DE CROMO ELECTRODEPOSITADAS DE ELEVADO COMPORTAMIENTO EN SERVICIO.
(16/11/1992). Solicitante/s: ATOCHEM NORTH AMERICA, INC.. Inventor/es: KORBACH, WILLIAM C., MCMULLEN, WARREN H.
SE REIVINDICA UN NUEVO TIPO DE CAPAS DE CROMO ELECTRODEPOSITADAS, EL PROCESO PARA SU ELECTRODEPOSICION Y BAÑOS ELECTROLITICOS ADECUADOS PARA UTILIZARLOS. LAS CAPAS DE CROMO SON BRILANTES, ADHERENTES, SUAVES, DURAS, RESISTENTES AL DESGASTE, CON BAJO COEFICIENTE DE FRICCION, PROPORCIONANDO ASI UNA MAYOR DURACION Y EFICACIA PARA DISPOSITIVOS QUE EMPLEAN LAS CAPAS COMO SUPERFICIES DE DESGASTE, Y SON CAPACES DE FORMARSE TANTO A ALTAS COMO A BAJAS DENSIDADES DE CORRIENTE.
PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION INDIRECTA O DIRECTA DE UNA CAPA TECNICA DE CROMO DURO, MUY ESTABLE FRENTE A LA CORROSION.
(16/01/1992) PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION INDIRECTA O DIRECTA DE UNA CAPA TECNICA DE CROMO DURO, MUY ESTABLE FRENTE A LA CORROSION. PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION INDIRECTA O DIRECTA DE UNA CAPA TECNICA DE CROMO DURO MUY ESTABLE FRENTE A LA CORROSION SOBRE LA SUPERFICIE DE UNA PIEZA DE TRABAJO HECHA DE METAL, A PARTIR DE UN ELECTROLITO DE TRABAJO ACUOSO, QUE CONTIENE ACIDO CROMICO E IONES SULFATO. DURANTE LA DEPOSICION SE TRABAJA CON CORRIENTE CONTINUA PULSANTE QUE TIENE UNA FRECUENCIA DE PULSACION EN EL INTERVALO ENTRE UNA FRECUENCIA DE PULSACION CRITICA INFERIOR, DEPENDIENTE DE LA DENSIDAD DE CORRIENTE CATODICA ESCOGIDA Y UN PUNTO CRITICO SUPERIOR DE FRECUENCIA DE PULSACION, DEPENDIENTE DEL RENDIMIENTO DE CORRIENTE OPTIMIZADO A LA MISMA DENSIDAD…
BAÑO DE CHAPADO ELECTROLITICO PARA DEPOSICION FUNCIONAL, CON ALTOS RENDIMIENTOS, DE CROMO BRILLANTE Y LISO, Y PROCEDIMIENTO DE CHAPADO ELECTROLITICO QUE EMPLEA DICHO BAÑO.
(16/02/1990). Solicitante/s: M & T CHEMICALS, INC.. Inventor/es: MARTYAK, NICHOLAS M..
SE DESCRIBE UN BAÑO MEJORADO DE CHAPADO ELECTROLITICO DE CROMO PARA DEPOSICION DE CAPAS DE CROMO FUNCIONAL QUE SON BRILLANTES Y LISAS A DENSIDADES DE CORRIENTE DE 0,155-1,55 A/CM2 Y A ALTOS RENDIMIENTOS.
UN PROCEDIMIENTO DE CROMADO FUNCIONAL.
(16/05/1987). Solicitante/s: M & T CHEMICALS, INC..
PROCEDIMIENTO DE CROMADO FUNCIONAL. CONSISTE EN DEPOSITAR ELECTROLITICAMENTE CROMO SOBRE EL METAL, A UNA TEMPERATURA DE 45 A 70JC, A PARTIR DE UN BAÑO DE CHAPADO DE CROMO QUE CONSISTE ESENCIALMENTE EN ACIDO CROMICO Y SULFATO, Y UN ACIDO ALQUIL-SULFONICO NO SUSTITUIDO, O UNA DE SUS SALES, ESTANDO EL BAÑO SUSTANCIALMENTE LIBRE DE UN ACIDO CARBOXILICO, UN ACIDO DICARBOXILICO, UN ACIDO FOSFORICO, UN ACIDO PERFLUOROALQUILO INFERIOR-SULFONICO Y UN HALURO, LLEVANDOSE A CABO EL CHAPADO A UNA TEMPERATURA ENTRE 50 Y 60JC, Y DONDE LA CONCENTRACION DEL ACIDO CROMICO AL ACIDO SULFATO ES DE 25 A 200.TIENE APLICACIONES EN CHAPADOS DECORATIVOS.
