CIP-2021 › G › G03 › G03F › G03F 7/00 › G03F 7/42[2] › Eliminación de reservas o agentes a este efecto.
G FISICA.
G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.
G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).
G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F 7/42 · · Eliminación de reservas o agentes a este efecto.
(18/03/2019). Solicitante/s: The Chemours Company FC, LLC. Inventor/es: ROBIN, MARK L., KIKUCHI,HIDEAKI.
Una composición que comprende 95 por ciento en peso de trans-1,2-dicloroetileno, de 4,0 a 4,4 por ciento en peso de éteres de metilperfluorohepteno y de 0,6 a 1,0 por ciento en peso de 1,1,1,2,2,3,5,5,5-decafluoropentano.
PDF original: ES-2704481_T3.pdf
(07/12/2016). Solicitante/s: Saperatec GmbH. Inventor/es: SEIBT, HORST DR., KERNBAUM,SEBASTIAN.
Uso de un medio de separación para separar sistemas multicapa , con fines de reciclaje, en el que el medio de separación es una dispersión nanométrica que está formada por un componente orgánico, un componente acuoso y al menos un tensioactivo.
PDF original: ES-2617984_T3.pdf
(01/05/2004) La invención se refiere a un procedimiento para eliminar conjuntamente el material aislante innecesario y la película protectora de las paredes laterales después del ataque químico en un proceso con protección de paredes laterales, haciendo posible simplificar el proceso para la preparación de semiconductores, etc. El procedimiento, de acuerdo con la presente invención, comprende eliminar el material aislante innecesario que queda después del ataque en un procedimiento de protección de paredes laterales con una marca aislante presente en el sustrato semiconductor como una máscara, y una película protectora de las paredes laterales depositada en las paredes laterales de la marca, dicho procedimiento comprende los pasos de aplicar una hoja adhesiva sensible a la presión…
(01/09/2003). Solicitante/s: NITTO DENKO CORPORATION. Inventor/es: TOYODA, EIJI, NITTO DENKO CORPORATION, NAMIKAWA, MAKOTO, NITTO DENKO CORPORATION, OKEYUI, TAKUJI, NITTO DENKO CORPORATION.
La presente invención se refiere a un procedimiento para el decapado de un material persistente con una l mina adhesiva sensible a la presión que supone la mejora de la retirada del material persistente o el realce de la pelabilidad del material persistente para eliminar con seguridad el material persistente del objeto sin tener en cuenta las propiedades o el estado tratado del material persistente. El proceso consiste en: después de la aplicación de la l mina adhesiva sensible a la presión, efectuar un tratamiento de fuerza que provoca la contracción o la expansión de la l mina adhesiva sensible a la presión de manera a desarrollar una fuerza en la interfase entre el material persistente y el objeto, efectuar un tratamiento en superficie sobre el objeto de manera que la superficie del objeto tenga superficie libre de energía no superior a 60 dina/cm.
(16/09/2002). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: GOTTWALD, THOMAS.
LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO DE FILTRADO DE DISOLUCIONES ORGANICAS PROCEDENTES DE LA FABRICACION DE PLACAS DE CIRCUITO IMPRESO, QUE TIENE AL MENOS UN PASO DE FILTRADO FINO . EN EL PROCEDIMIENTO DE LA INVENCION, LAS SUSTANCIAS DISUELTAS EN LAS DISOLUCIONES DEL PROCESO SE SEPARAN DE LOS DISOLVENTES ORGANICOS DEL PROCESO, COMO POR EJEMPLO EL ETILENGLICOL, MEDIANTE UN ULTRAFILTRADO POR EJEMPLO, PARA HACER POSIBLE SU REUTILIZACION. LAS VENTAJAS DEL PROCEDIMIENTO DE LA INVENCION SON LA POSIBILIDAD DE AHORRAR UNA ELEVADA CANTIDAD DE MATERIALES Y ENERGIA Y QUE ADEMAS LOS DESECHOS PUEDEN DISMINUIRSE EN GRAN PARTE O INCLUSO EVITARSE POR COMPLETO.
(01/12/2000). Solicitante/s: AT&T CORP.. Inventor/es: OBENG, YAW SAMUEL.
LA ADICION DE LIGANDOS PARA QUELAR IONES DEL GRUPO I Y II A SOLVENTES ORGANICOS UTILIZADOS PARA LA ELIMINACION DE LA FOTORESISTENCIA Y LA LIMPIEZA POR ACIDO DE LOS CONDUCTORES, REFORZANDO LA DURACION SUBYACENTE DE ESTOS SOLVENTES. ADEMAS, SE REDUCE LA CONTAMINACION DE IONES MOVILES DE CIRCUITOS INTEGRADOS PROCESADOS CON LIGANDOS DE SOLVENTES MODIFICADOS ORGANICAMENTE.
(01/11/1999) SE DESCRIBE UN PROCESO Y UN DISPOSITIVO PARA LA DISOLUCION QUIMICA UNIFORME DE CAPAS DE PINTURA PROTECTORA, EN FORMA DE PARTICULAS FACILMENTE FILTRABLES, DE SUPERFICIES DE MATERIAL GALVANICO CON FORMA DE PLACA. LA APLICACION PRIMORDIAL DEL PROCESO ES EN INSTALACIONES DE PROCESO CONTINUO HORIZONTALES EN LA TECNICA DE CIRCUITOS IMPRESOS. DE ACUERDO CON EL ESTADO DE LA TECNICA SE UTILIZAN PROCESOS DE INYECCION Y NEBULIZACION PARA LA ELIMINACION DE PINTURA PROTECTORA. UNA DESVENTAJA ES, ENTRE OTRAS, LA POCA DURACION DEL BAÑO DEBIDA A LAS PINTURAS PROTECTORAS NO FILTRADAS TOTALMENTE DE LA DISOLUCION. DE ACUERDO CON LA INVENCION SE DISUELVE LA PINTURA PROTECTORA…
(16/06/1999). Solicitante/s: EKC TECHNOLOGY, INC. Inventor/es: LEE, WAI MUN.
SE DESCRIBE UNA COMPOSICION DESPEGANTE PARA QUITAR RESISTENTES DE SUSTRATOS QUE CONTENGAN HIDROXILAMINA Y AL MENOS UN ALKANOLAMINA. OPCIONALMENTE, UNO O MAS DISOLVENTES POLARES PUEDEN TAMBIEN INCLUIRSE EN LA COMPOSICION DESPEGANTE. LA COMPOSICION DESPEGANTE ES ESPECIALMENTE UTIL PARA QUITAR FOTORESISTENTES DE UN SUSTRATO DURANTE LA FABRICACION DE CIRCUITOS INTEGRALES SEMICONDUCTORES Y PARA DESPEGAR REVESTIMIENTOS POLIMEROS CURADOS, TALES COMO REVESTIMIENTOS DE POLIIMIDA.
(16/09/1998). Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Inventor/es: BARON, DAVID, T., TAYLOR, ALEXANDER, R., JOHAL, KULDIP, S.
LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO PARA LA ELIMINACION DE PARTICULAS DE POLIMERO HINCHABLE A PARTIR DE UNA SOLUCION PARA LA ELIMINACION DE CAPAS RESISTENTES PROCEDENTES DE PLACAS DE CIRCUITO IMPRESO. LA DISPERSION ELABORADA CUANDO LAS CAPAS RESISTENTES SE ELIMINAN CONTIENE PARTICULAS RESISTENTES FINAS Y ES GUIADA A TRAVES DE UN TAMIZ A FIN DE SEPARAR LAS INDICADAS PARTICULAS. PARA ESTE OBJETIVO, LA DISPERSION FLUYE PRIMERO A TRAVES DE UN DISPOSITIVO DE HOMOGENEIZACION Y DE ESPARCIDO, EN DONDE LA DISPERSION ES MEZCLADA BASICAMENTE Y A CONTINUACION APLICADA SOBRE EL TAMIZ EN UNA MANERA MUY UNIFORME. EL DISPOSITIVO DE ESPARCIDO Y HOMOGENEIZACION TIENE UN TUBO INTERIOR, CON UNA PLURALIDAD DE ORIFICIOS Y UN TUBO EXTERIOR CON UNA RANURA . EL DISPOSITIVO TIENE ADEMAS MEDIOS PARA CIRCULACION DE LA SOLUCION DE ELIMINACION DE LAS CAPAS DE REVESTIMIENTO Y DE LA DISPERSION.
(16/05/1998). Solicitante/s: MALLINCKRODT BAKER, INC.. Inventor/es: SCHWARTZKOPF, GEORGE, SURENDRAN, GEETHA.
SE PRESENTAN COMPOSICIONES DECAPANTES ALCALINAS DE CAPAS FOTOSENSIBLES QUE CONTIENEN UN AGENTE REDUCTOR PARA REDUCIR O INHIBIR LA CORROSION DEL METAL. LOS AGENTES REDUCTORES INCLUYEN COMPUESTOS QUE CONTIENEN ENLACES MULTIPLES REACTIVOS, HIDRACINA Y DERIVADOS DE LA MISMA, OXIMOS, HIDROQUINONA, PIROGALOL, ACIDO GALICO Y ESTERES DEL MISMO, TOCOFEROL, ACIDO 6-HIDROXI-2,5,7,8-TETRAMETILCROMAN-2CARBOXILICO , BHT, BHA, 2,6-DI-TERT-BUTIL-4-HIDROXIMETIL-FENOL , TIOLES, SALICILALDEHIDO, 4-HIDROXIBENZALDEHIDO Y DIALQUILCETALES DE ANHIDRIDO DE GLICOL.
(01/11/1995). Solicitante/s: MORTON INTERNATIONAL, INC.. Inventor/es: KRULIK, GERALD A.
EL USO DE SULFATO DE ALUMINIO PARA NEUTRALIZAR SOLUCIONES ALCALINAS DA UN PRECIPITADO GELATINOSO. CUANDO LA NEUTRALIZACION DE LA SOLUCION CAUSA QUE OTROS MATERIALES PRECIPITEN JUNTO CON EL GEL, LA FILTRACION DE LOS MATERIALES PRECIPITADOS SE DIFICULTA POR EL GEL. LA ADICION DE SALES DE CALCIO, ALUMINIO Y/O MAGNESIO SOLUBLES EN AGUA, COMO AGENTES DE NEUTRALIZACION PRIMARIOS PARA UNA SOLUCION PURIFICADORA ALCALINA DE UNA FOTORESINA, SEGUIDA DE LA ACIDIFICACION DE LA MEZCLA RESULTANTE A UN PH DE ENTRE 2 A 4 DA UN MEZCLA DE RESINA PRECIPITADA QUE PUEDE FILTRARSE RAPIDAMENTE.
(01/09/1994). Solicitante/s: J.T. BAKER INC. Inventor/es: RAMSDEN, HUGH E., WARD, DAWN L.
LOS COMPUESTOS DESPRENDIBLES FOTORESISTENTES COMPRENDEN UNA MEZCLA DE UN COMPUESTO DE 2 - PIROLIDINONA, UN COMPUESTO DE 1-DIOXIDO DE TETRAHIDRODIOFENO-1, UN GLICOL DE POLIETILENO, UN GLICOL DE DIETILENO, UN ETER MONOALKIL GLICOL DE DIETILENO Y UN AMINO O UN DERIVADO AMINO.
(16/04/1991). Solicitante/s: HOUTSTRA POLIMERO B.V. Inventor/es: VLASVELD, PETRUS JOB.
APARATO PARA EL TRATAMIENTO DE UNA PLACA DE IMPRESION CON UN LIQUIDO, QUE CONSTA DE DOS CONTENEDORES DE LIQUIDO ABIERTOS EN SU PARTE SUPERIOR, CON VARIOS CEPILLOS GIRATORIOS EN CADA CONTENEDOR. ESTOS CEPILLOS ESTAN PARCIALMENTE INMERSOS EN EL LIQUIDO. ADEMAS, HAY UN MECANISMO QUE HACE MOVERSE LA PLACA DE IMPRESION A LO LARGO DE LOS CEPILLOS, QUE CONSTA DE UNA PLACA SOPORTE PARA LA PLACA DE IMPRESION, LA CUAL ESTA ACOPLADA A UN BALANCIN-GUIA CENTRAL QUE SE EXTIENDE POR ENCIMA DE LOS CONTENEDORES EN UN COMPARTIMENTO CERRADO DE TRATAMIENTO. LA TABLA SOPORTE SE PUEDE MOVER HACIA ATRAS Y HACIA DELANTE EN LAS DIRECCIONES LONGITUDINAL Y LATERAL DEL BALANCIN-GUIA, CON RESPECTO A ESTE BALANCIN, QUE SE ENCUENTRA POR ENCIMA DE LOS CEPILLOS.
