Sistema y procedimiento de producción de polvos nanométricos o submicrométricos en flujo continuo por la acción de una pirolisis láser.

Un sistema de producción de polvos nanométricos o submicrométricos en flujo continuo por la acción de una pirólisis láser,

que comprende un láser (10) que emite un haz (11) según un eje OX seguido por un dispositivo óptico (12) que permite transmitir un haz de forma alargada que tiene su energía distribuida según un primer eje perpendicular al eje OX de propagación del haz en una sección alargada de dimensiones ajustables, en donde al menos el ancho o la altura de la sección alargada se pueden cambiar independientemente, al menos una zona de interacción (20, 20') entre el haz alargado y al menos dos flujos de reactivos que son perpendiculares a un plano en donde están situados el eje OX y el primer eje, emitiendo al menos dos inyectores (22, 23, 24; 22', 23', 24') respectivamente los al menos dos flujos de reactivo, estando los al menos dos inyectores situados a lo largo de un eje paralelo al primer eje, de modo que el flujo de reactivos que sale de estos al menos dos inyectores quede recubierto por la sección alargada del haz.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2006/069248.

Solicitante: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES.

Nacionalidad solicitante: Francia.

Dirección: BATIMENT "LE PONANT D" 25, RUE LEBLANC 75015 PARIS FRANCIA.

Inventor/es: GUIZARD,BENOIT, TENEGAL,FRANCOIS.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • B01J19/12 SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES.B01 PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL.B01J PROCEDIMIENTOS QUIMICOS O FISICOS, p. ej. CATALISIS, QUIMICA DE LOS COLOIDES; APARATOS ADECUADOS (procedimientos o aparatos para usos específicos, ver las clases correspondientes a los procedimientos o al equipo, p. ej. F26B 3/08). › B01J 19/00 Procedimientos químicos, físicos o físico-químicos en general (tratamiento físico de las fibras, hilos, hilados, tejidos, plumas o artículos fibrosos hechos de estas materias, ver los lugares apropiados para dicho tratamiento, p. ej. D06M 10/00 ); Aparatos apropiados (accesorios, cargas o rejillas especialmente adaptadas para el tratamiento biológico del agua, agua residual o de alcantarilla C02F 3/10; placas o rejillas de chapoteo especialmente adaptadas para los enfriadores por chorreo F28F 25/08). › utilizando radiaciones electromagnéticas.

PDF original: ES-2701017_T3.pdf

 

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