Método para inhibir la formación y deposición de incrustaciones de sílice en sistemas acuosos.

Un método para inhibir la formación y deposición de compuestos de sílice y silicato en los sistemas de agua de fábricas de papel que comprende añadir al agua en el sistema de agua de fábricas de papel de 10000 a 100000 ppm de uno o más polímeros solubles en agua de fórmula:

**Fórmula**

en donde r es 2 por ciento en moles, s es 98 por ciento en moles; R1 es metilo (alquilo C1), R4 es H; R2 es un grupo de fórmula -(CH2-CHR3-O)n-; R3 es H; M es H o un catión soluble en agua; y n es de 2 a 25.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2009/045757.

Solicitante: NALCO COMPANY.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 1601 WEST DIEHL ROAD NAPERVILLE, IL 60563-1198 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.

Inventor/es: GILL, JASBIR S., MORRIS,John,D, KIDMABI,SRIKANTH S, FUN-YUEE LU,FRANK.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C02F5/10 QUIMICA; METALURGIA.C02 TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS.C02F TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS (procedimientos para transformar las sustancias químicas nocivas en inocuas o menos perjudiciales, efectuando un cambio químico en las sustancias A62D 3/00; separación, tanques de sedimentación o dispositivos de filtro  B01D; disposiciones relativas a las instalaciones para el tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla en los buques, p. ej. para producir agua dulce, B63J; adición al agua de sustancias para impedir la corrosión C23F; tratamiento de líquidos contaminados por radiactividad G21F 9/04). › C02F 5/00 Desendurecimiento del agua; Prevención de las incrustaciones; Adición al agua de agentes anti incrustación o desincrustantes, p. ej. adición de agentes secuestrantes (desendurecimiento por intercambio de iones C02F 1/42). › utilizando sustancias orgánicas.

PDF original: ES-2746845_T3.pdf

 

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