Método para la determinación de un sistema básico de rejillas de difracción para la corrección del espacio de color de cristales para gafas.

Método para la fabricación de una serie de cristales de base, que recubren una gama de efectos dada, donde

todos los cristales de base de la serie son cristales para gafa semifabricados;



cada cristal de base de la serie ha sido concebido para un efecto básico que difiere de los efectos básicos de los demás cristales de base de la serie; y

cada cristal de base de la serie presenta por lo menos una rejilla de base de difracción (14), donde el método comprende las siguientes etapas:

asignación de una zona de corrección (30) cada vez a cada uno de los cristales de base de la serie; establecimiento de los efectos de base de cada cristal de base de la serie donde los efectos de base se establecen de modo que las zonas de corrección (30) de los cristales de base individuales recubren la gama de efectos dada;

cálculo de la rejilla de base (14) de cada cristal de base de la serie de modo que el espacio de color de un cristal para gafa terminado fabricado a partir del cristal de base correspondiente con el efecto de base establecido se minimiza en una zona dada del cristal de base donde el espacio de color es causado por el efecto prismático dependiente de la longitud de onda de las superficies limítrofes de refracción del cristal para gafa, donde la rejilla de base (14) del cristal de base en la zona de corrección correspondiente (30) corrige el espacio de color de un cristal para gafa con efecto dentro de este espacio de corrección de tal modo que el espacio de color del cristal para gafa dentro de la zona dada del cristal para gafa es menor o igual a un valor de umbral dado donde la zona dada del cristal para gafa dentro de su espacio de color máximo es inferior o igual al valor de umbral dado y presenta un diámetro de por lo menos 40 mm; y

donde el valor de umbral dado tiene 0,5 cm/m, de preferencia 0,4 cm/m y particularmente de preferencia 0,12 cm/m;

donde el establecimiento de los efectos de base se realiza de modo que para la máxima distancia |AM0C| del equivalente esférico de los cristales de base de la serie se cumple la condición \AM0C\ < 2Vd - - Zylmaxt y r T donde Vd es el número de Abbe de los cristales de base;

FSt es un valor de umbral dado;

2 j t es el diámetro de una zona dada del cristal de base correspondiente, en la cual el espacio de color máximo permitido es inferior o igual al valor de umbral FSr, y Zylmax es el máximo astigmatismo que aparece en la gama de efectos a recubrir.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2011/005779.

Solicitante: RODENSTOCK GMBH.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: Elsenheimerstrasse 33 80687 München ALEMANIA.

Inventor/es: ALTHEIMER, HELMUT, ESSER, GREGOR, WEHNER, EDDA, MULLER, WERNER, DR., BECKEN,Wolfgang, UTTENWEILER,Dietmar, TRUMM,STEPHAN.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G02C7/02 SECCION G — FISICA.G02 OPTICA.G02C ESPECTACULOS; GAFAS; GAFAS DE SOL O GAFAS PROTECTORAS EN LA MEDIDA EN QUE SUS CARACTERISTICAS SON LAS MISMAS QUE LAS DE LAS GAFAS; LENTES DE CONTACTO.G02C 7/00 Piezas ópticas (caracterizadas por el material de que están hechas G02B 1/00). › Cristales; Sistemas de cristales.
  • G02C7/06 G02C 7/00 […] › bifocales; multifocales.

PDF original: ES-2619402_T3.pdf

 

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