Método de cálculo para el cálculo detallado del frente de onda para lentes de gafas con una rejilla de difracción.

Método implementado por etdenador para el analisis de por lo menos una propiedad de reproducción de k -ésimo orden,

k - 2, 3,4 , , de un elemento óptico (100) en por lo menos una zona de valoración, donde el elemento óptico (100) comprende por lo menos una superficie limltrofe, formada por una superfiCIe de base refractiva (120) y por lo menos un elemento óptico modificador de lase (122), donde el método comprende:

determinación de las propiedades de un frente de onda en el ambito local de por lo menos una zona de valoración mediante un calculo de frente de onda local; y

determinación de la por lo menos una prOpiedad óptica en por lo menos una zona de valoraCión sobre la base de las propiedades del frente de onda en el entorno local de por lo menos una zona de valoración, donde el calculo local del frente de onda comprende un calculo local del frente de onda al pasar por ta por lo menos una supeñlcie limitrofe y el calculo local del fren te de onda al pasar por, por lo menos, una superficie limitrofe se realiza segun la ecuación de vergencia completada con un término aditivo adicional PKlkl al pasar, para el calculo tocal del frente de onda, por la superncie limitrofe refractiva (120),

donde la ecuación de vergencia es una ecuación de Codington para aberraciones de segundo orden y orden lS superior, donde

el término aditivo adicional PKro) depende de las denvadas locales de k-ésimo orden una función de fase !P(r, y) asignada al elemento óptico modificador de lase segun la coordenada tangencial a la superficie de base, donde la función de fase 'P(.f,') representa la diferencia de longitud de tramo óptico introducida por el por lo menos uno elemento óptico modificador de fase (122), como función de la coordenada (f,jI) paralela a la superficie de base (120)

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2011/005782.

Solicitante: RODENSTOCK GMBH.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: Elsenheimerstrasse 33 80687 München ALEMANIA.

Inventor/es: ALTHEIMER, HELMUT, ESSER, GREGOR, WEHNER, EDDA, BECKEN,Wolfgang, UTTENWEILER,Dietmar, SESSNER,Rainer, TRUMM,STEPHAN.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G01M11/02 SECCION G — FISICA.G01 METROLOGIA; ENSAYOS.G01M ENSAYO DEL EQUILIBRADO ESTATICO O DINAMICO DE MAQUINAS O ESTRUCTURAS; ENSAYO DE ESTRUCTURAS O APARATOS, NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR.G01M 11/00 Ensayo de aparatos ópticos; Ensayo de aparatos y estructuras por métodos ópticos, no previstos en otro lugar. › Ensayo de las propiedades ópticas.
  • G02C7/02 G […] › G02 OPTICA.G02C ESPECTACULOS; GAFAS; GAFAS DE SOL O GAFAS PROTECTORAS EN LA MEDIDA EN QUE SUS CARACTERISTICAS SON LAS MISMAS QUE LAS DE LAS GAFAS; LENTES DE CONTACTO.G02C 7/00 Piezas ópticas (caracterizadas por el material de que están hechas G02B 1/00). › Cristales; Sistemas de cristales.
  • G05B19/418 G […] › G05 CONTROL; REGULACION.G05B SISTEMAS DE CONTROL O DE REGULACION EN GENERAL; ELEMENTOS FUNCIONALES DE TALES SISTEMAS; DISPOSITIVOS DE MONITORIZACION O ENSAYOS DE TALES SISTEMAS O ELEMENTOS (dispositivos de maniobra por presión de fluido o sistemas que funcionan por medio de fluidos en general F15B; dispositivos obturadores en sí F16K; caracterizados por particularidades mecánicas solamente G05G; elementos sensibles, ver las subclases apropiadas, p. ej. G12B, las subclases de G01, H01; elementos de corrección, ver las subclases apropiadas, p. ej. H02K). › G05B 19/00 Sistemas de control por programa (aplicaciones específicas, ver los lugares apropiados, p. ej. A47L 15/46; relojes que implican medios anejos o incorporados que permiten hacer funcionar un dispositivo cualquiera en un momento elegido de antemano o después de un intervalo de tiempo predeterminado G04C 23/00; marcado o lectura de soportes de registro con una información digital G06K; registro de información G11; interruptores horarios o de programa horario que se paran automáticamente cuando el programa se ha realizado H01H 43/00). › Control total de una fábrica, es decir, control centralizado de varias máquinas, p. ej. control numérico directo o distribuido (DNC), sistemas de fabricación flexibles (FMS), sistemas de fabricación integrados (IMS), fabricación integrada por computador (CIM).

PDF original: ES-2630579_T3.pdf

 

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