Técnicas para procesar un sustrato.

Una máscara (950, 1050) para procesar un sustrato (100), comprendiendo la máscara (950,

1050):

una o más primeras aberturas (956a) dispuestas en una primera fila (955a);

una o más segundas aberturas (956b) dispuestas en una segunda fila (955b); y

una o más terceras aberturas (956c) dispuestas en una tercera fila (955c), extendiéndose cada fila en una dirección (912) de la anchura de la máscara (950, 1050), en la que la segunda fila (955b) es adyacente a las filas primera y tercera (955a, 955c) y está dispuesta entre las filas primera y tercera (955a, 955c), las una o más primeras aberturas (956a) y las una o más segundas aberturas (956b) no están alineadas en una dirección (910) de la altura de la máscara (950, 1050), estando la máscara caracterizada porque las una o más primeras aberturas (956a) y las una o más terceras aberturas (956c) están alineadas en la dirección (910) de la altura de la máscara (950, 1050).

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2010/030395.

Solicitante: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES INC.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 35 Dory Road Gloucester, MA 01930 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.

Inventor/es: DANIELS,KEVIN M, LOW,RUSSELL J, RIORDON,BENJAMIN B, BATEMAN,NICHOLAS P. T.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H01L21/265 ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › produciendo una implantación de iones.

PDF original: ES-2573089_T3.pdf

 

Técnicas para procesar un sustrato.
Técnicas para procesar un sustrato.

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