Control de diseño por medio de un polígono de diseño.

Método asistido por ordenador para obtener o calcular parámetros Dj,

j ≥ 1,...,M de un diseño de cristal progresivo para gafa mediante un polígono de diseño dado (10), donde:

- cada punto P dentro del polígono de diseño (10) designa o determina un diseño, y el diseño en el punto P se caracteriza por unos valores de diseño Dj (P);

- se dan o se pueden dar unos valores Dj (PEck), j≥1,...M de los parámetros de diseño, que caracterizan el diseño en cada punto de esquina PEck del polígono de diseño (10);

- se dan o se pueden dar unos valores opcionales Dj (PZusatz) de los parámetros de diseño, que caracterizan el diseño en por lo menos un punto adicional PZusatz

dentro del polígono de diseño (10);

y el método comprende las siguientes etapas:

- Se da un punto PDesign dentro del polígono de diseño (10), y dicho punto PDesign determina el diseño a obtener;

- Se obtiene un valor Dj (PDesign) de cada parámetro Dj , j≥1,..M del diseño a obtener en el punto PDesign, mediante la interpolación de por lo menos una parte de los valores dados Dj (PEck), j ≥1,...M en los puntos de esquina PEck y eventualmente por lo menos una parte de los valores dados Dj (PZusatz) del parámetro de diseño Dj en el, por lo menos uno, punto adicional (PZusatz),

y donde M designa el número de parámetros de diseño.

La invencion se refiere a un control de disefo por medio de un poligono de disefo. En muchas publicaciones de patentes se describen cristales individuales para gafas, en particular, cristales progresivos individuales para gafas, por ejemplo en DE 197 01 312, DE 103 13 275, WO 01/81979, US 6 871 955 o EP 0 880 046. Presentan propiedades de imagen notablemente mejoradas respecto de los cristales convencionales para gafas, ya que en el calculo y la optimizacion se tiene en cuenta la situacion de uso individual del usuario. La optimizacion de cristales progresivos para gafas se realiza por lo general minimizando una funcion de rendimiento, en la que los valores deseados o teoricos corresponden por lo menos a una magnitud optica (por ejemplo astigmatismo y/o poder refringente) o los valores deseados o teoricos corresponden por lo menos a una distorsion de la imagen (por ejemplo, defecto astigmatico o desviacion astigmatica y/o defecto de refraccion) del cristal progresivo para gafa. El defecto de refraccion representa la diferencia entre la distancia focal / poder refringente del cristal para gafa y la distancia focal / poder refringente que se obtiene mediante la determinacion de la refraccion. La desviacion o el defecto astigmatico representa la diferencia entre el astigmatismo del cristal para gafa y el astigmatismo que se obtiene mediante la determinacion de la refraccion. De preferencia, se trata de valores en posicion de uso del cristal para gafa, es decir teniendo en cuenta el sistema cristal para gafa - ojo. Los valores deseados o teoricos de por lo menos una propiedad optica (en particular el astigmatismo) o de por lo menos una distorsion de la imagen (en particular la desviacion astigmatica) que entran en la funcion de rendimiento, caracterizan el disefo de un cristal para gafa. Ademas, el disefo del cristal para gafa puede comprender un modelo de distancia del objeto adecuado. El modelo de distancia del objeto puede comprender por ejemplo una funcion de distancia del objeto, que se define como la distancia reciproca del objeto a lo largo de la linea principal. En DIN 58 208 Parte 2 (Vease figura 6) se indica un modelo de distancia del objeto normalizado. El modelo de distancia del objeto puede diferir sin embargo de este modelo de distancia del objeto normalizado. Un disefo de cristal para gafa puede caracterizarse por varios parametros de disefo, como por ejemplo la magnitud y en particular la posicion de las zonas visuales (zona de lejos, de cerca e intermedia o de progresion) . La posicion de las zonas visuales se puede fijar por ejemplo por medio de los puntos principales de recorrido de la vista (puntos de referencia de lejos y de cerca) , que entran entonces como parametros del disefo. Otros parametros del disefo son por ejemplo las distorsiones maximas permitidas de la imagen y/o gradientes de las distorsiones de la imagen y/o parametros que caracterizan el modelo de distancia del objeto.

Los cristales progresivos para gafas pueden presentar ademas disefos diferentes, por ejemplo en funcion de los puntos centrales de actividad u otros puntos centrales de uso. Asi por ejemplo, ademas de un cristal progresivo universal, los fabricantes suelen ofrecer tambien cristales progresivos para gafas para el puesto de trabajo ante la pantalla, monturas de gafas mas pequefas, etc.

Uno de los objetivos de la presente invencion es permitir una demostracion o visualizacion o calculo sencillo de un disefo para cristal progresivo con vistas al control del disefo.

Este problema se resuelve con los metodos, dispositivos, programas informaticos, medios de almacenamiento e interfaces graficos para el usuario, definidos en las reivindicaciones independientes principales. Constituyen el objeto de las subreivindicaciones unas formas de realizacion preferidas.

Segun la invencion, se propone en particular un metodo con las etapas indicadas en la reivindicacion 1.

En particular, se propone un metodo asistido por ordenador para obtener o calcular parametros , d = 1, ., M de un disefo de cristal progresivo para gafa mediante un poligono de disefo dado (10) , donde:

- cada punto P dentro del poligono de disefo (10) designa o determina un disefo, y el disefo en el punto P se caracteriza por unos valores de disefo (P) de los parametros de disefo ;

-se dan o se pueden dar unos valores dd (PEck) , d=1, .M de los parametros de disefo dd , que caracterizan el disefo en cada punto de esquina PEck del poligono de disefo;

- se dan o se pueden dar unos valores opcionales (Pzusatz) de los parametros de disefo , que

caracterizan el disefo en por lo menos un punto adicional Pzusatz dentro del poligono de disefo; y el metodo comprende las siguientes etapas:

-Se da un punto Pdesign dentro del poligono de disefo, y dicho punto Pdesign determina el disefo a obtener;

- Se obtiene un valor (Pdesign) de cada parametro , d=1, ..M del disefo a obtener en el punto Pdesign, mediante la interpolacion de por lo menos una parte de los valores dados (PEck) , d =1, .M en los puntos de esquina PEck y eventualmente por lo menos una parte de los valores dados (Pzusatz) del parametro de disefo en el, por lo menos uno, punto adicional (Pzusatz) , y donde M designa el numero de parametros de disefo.

El poligono de disefo puede ser de N lados en el espacio bi-o tridimensional (por ejemplo un triangulo, cuadrado, pentagono, una piramide, etc) . Los puntos angulares (de esquina) PEck del poligono de disefo pueden estar en un plano. El concepto "puntos dentro del poligono de disefo" en la presente solicitud, comprende todos los puntos situados en el espacio delimitado por las aristas o superficies laterales del poligono de disefo, inclusive todos los puntos situados en las aristas o superficies laterales del poligono de disefo (es decir todos los puntos de borde) .

Los disefos de esquina en los puntos de esquina PEck del poligono de disefo, que se distinguen entre si, se caracterizan en particular por valores diferentes de por lo menos uno de los parametros de disefo dd o presentan valores diferentes de por lo menos un parametro de disefo. El poligono de disefo se puede construir de modo que a lo largo de cada uno de los lados del poligono de disefo que une dos puntos de esquina del poligono de disefo, se produzca una transicion por lo menos parcial y continua de los valores de por lo menos un parametro de disefo. El poligono de disefo puede ser un poligono equilatero, en particular un triangulo equilatero de disefo.

Las esquinas del poligono de disefo pueden corresponden a puntos principales de aplicacion y/o de disefo diferentes, como por ejemplo disefo con mayor enfasis en la zona de lejos, disefo con mayor enfasis en la zona de cerca, disefo con mayor enfasis en la zona intermedia, o alternativamente disefos de diferente blandura / dureza.

De preferencia, la interpolacion se realiza en funcion de la posicion espacial del punto dado Pdesign. Cuanto mas cerca este el punto dado en el poligono de disefo en una esquina o en un punto de esquina, tanto mayor sera la ponderacion del disefo de esquina correspondiente al punto de esquina y tanto mejor se adaptara el disefo que se tiene que calcular o determinar a este disefo de esquina. Debido a la posicion espacial de un punto dado dentro del poligono de disefo, es posible, mediante una interpolacion adecuada y/o una ponderacion de los valores dados del, por lo menos uno, parametro de los disefos de esquina, determinar, en funcion de la posicion espacial del punto dentro del poligono de disefo, el valor del parametro de disefo correspondiente. Por ejemplo, la ponderacion de cada uno de los disefos de esquina se puede realizar en funcion de la distancia entre el punto dado Pdesign y el punto de esquina correspondiente.

Tambien es posible dar, ademas de los disefos en los puntos de esquina (disefos de esquina) , opcionalmente uno o varios disefos adicionales, caracterizados por valores, dados o que se pueden dar, de los parametros de disefo, en por lo menos un punto adicional (Pzusatz) dentro del poligono de disefo. De este modo se puede controlar de forma mas precisa por ejemplo la interpolacion.

El punto adicional (Pzusatz) puede ser un punto central, que coincida de preferencia con el centro de gravedad del poligono de disefo y determine un disefo central o basico dado. El disefo central o basico puede ser por ejemplo un disefo para una cristal de gafa progresivo universal y equilibrado. La ponderacion o la interpolacion puede realizarse entonces teniendo en cuenta la distancia entre el punto adicional (Pzusatz) (por ejemplo el punto central) y el punto Pdesign . Los disefos de esquina pueden ser disefos derivados del disefo central o basico, por ejemplo por medio de la variacion de uno o de varios parametros. Los disefos de esquina se pueden caracterizar... [Seguir leyendo]

1. Metodo asistido por ordenador para obtener o calcular parametros dd, d = 1, ., M de un disefo de cristal progresivo para gafa mediante un poligono de disefo dado (10) , donde:

- cada punto P dentro del poligono de disefo (10) designa o determina un disefo, y el disefo en el punto P se caracteriza por unos valores de disefo dd (P) ;

-se dan o se pueden dar unos valores dd (PEck) , d=1, .M de los parametros de disefo, que caracterizan el disefo en cada punto de esquina PEck del poligono de disefo (10) ;

-se dan o se pueden dar unos valores opcionales dd (Pzusatz) de los parametros de disefo, que caracterizan el disefo en por lo menos un punto adicional Pzusatz dentro del poligono de disefo (10) ;

y el metodo comprende las siguientes etapas:

-Se da un punto Pdesign dentro del poligono de disefo (10) , y dicho punto Pdesign determina el disefo a obtener;

-Se obtiene un valor dd (Pdesign) de cada parametro dd , d=1, ..M del disefo a obtener en el punto Pdesign, mediante la interpolacion de por lo menos una parte de los valores dados dd (PEck) , d =1, .M en los puntos de esquina PEck y eventualmente por lo menos una parte de los valores dados dd (Pzusatz) del parametro de disefo dd en el, por lo menos uno, punto adicional (Pzusatz) , y donde M designa el numero de parametros de disefo.

2. Metodo segun la reivindicacion 1, donde la interpolacion es una interpolacion por lo menos parcialmente lineal.

3. Metodo segun una de las reivindicaciones anteriores, donde el poligono de disefo (10) es un triangulo, de preferencia un triangulo equilatero.

4. Metodo segun una de las reivindicaciones anteriores, donde los valores dd (Pzusatz) de los parametros de disefo dd , d = 1, .M se dan o se pueden dar en por lo menos un punto adicional Pzusatz en cada uno de los laterales del poligono de disefo (10) .

5. Metodo segun una de las reivindicaciones anteriores, donde

- se dan o se pueden dar los valores dd (PzentraJ) de los parametros de disefo dd , d = 1, .M , que caracterizan el disefo en un punto central PzentraJ dentro del poligono de disefo (10) ; y donde

- el valor dd (Pdesign) de cada parametro del disefo en el punto Pdesign, se calcula mediante la interpolacion de por lo menos una parte de los valores dados dd (PEck) del parametro de disefo dd en los puntos de esquina PEck y del valor dd (PzentraJ) del parametro de disefo dd en el punto central (PzentraJ) .

6. Metodo segun la reivindicacion 5, donde la interpolacion comprende la etapas siguientes:

-Obtencion del punto de interseccion Pdurchsto{ en el sentido del vector (PzentraJ) (Pdesign) de la recta que discurre por el punto central (PzentraJ) y eJ punto (Pdesign) , con uno de los laterales del poligono de disefo (10) , con la particularidad de que el vector (PzentraJ) (Pdesign) comienza en el punto central (PzentraJ) y termina en el punto (Pdesign) ;

- Obtencion de los dos puntos mas proximos PNL1 y PNL2 sobre el lateral del poligono de disefo (10) sobre el cual descansa tambien el punto de interseccion Pdurchsto{, en los que se han dado valores correspondientes d d (PNL1) ylo d d (PNL2) del parametro de disefo dd, con la particularidad de que el punto de interseccion Pdurchsto{ se encuentra entre los dos puntos PNL1 y PNL2 sobre el lateral del poligono de disefo (10) ;

-Obtencion del valor dd ( Pdurchsto{) del parametro de disefo dd en el punto de interseccion Pdurchsto{ mediante la interpolacion de los valores de los parametros de disefo d d (PNL1) y d d (PNL2) en los dos puntos (PNL1) y d (PNL2) ;

-Obtencion del valor dd ( Pdesign) del parametro de disefo dd en el punto Pdesign mediante una segunda interpolacion del valor obtenido dd ( Pdurchsto{) del parametro de disefo dd en el punto de interseccion

Pdurchsto{ y el valor dd (PzentraJ)

del parametro de disefo dd en el punto central (PzentraJ) .

7. Metodo segun la reivindicacion 6, donde la interpolacion se realiza en un sistema de coordenadas polares {e, p}, donde el origen del sistema de coordenadas coincide con el punto central (PzentraJ) , y donde la primera interpolacion es una interpolacion, de preferencia lineal, segun la coordenada polar e y la segunda interpolacion es una interpolacion, de preferencia lineal, segun la coordenada polar p.

8. Metodo segun la reivindicacion 7, donde se tiene para la primera interpolacion:

dd ( Pdurchsto{) = d d (PNL1) + d d (PNL2) - d d (PNL1) (e - eNL1) (eNL2 -eNL1) y para la segunda interpolacion: 35 dd ( Pdesign) = d d (Pdurchsto{) + d d (PzentraJ) -d d (Pdurchsto{) (ps-pi) p o dd ( Pdesign) = d d (Pdurchsto{) + d d (PzentraJ) -d d (Pdurchsto{) (1 - º)

donde: (e, p) , designan las coordenadas polares del punto Pdesign; (eNL1, pNL2) y (eNL2, pNL2) son las coordenadas polares de los dos puntos mas proximos PNL1 y PNL2 , con la condicion eNL1 e eNL2;

pS es la distancia entre el punto (Pdurchsto{) y el punto central (PzentraJ) ; d d (PNL1) + d d (PNL2) son los valores del parametro de disefo dd en los puntos PNL1 ylo PNL2 , siendo los puntos PNL1 y PNL2 los puntos mas cercanos al punto ( Pdesign) , para los cuales se dan los parametros d d ; y d d (PzentraJ) es el valor del parametro de disefo dd en el punto central (PzentraJ) .

9. Metodo segun una de las reivindicaciones anteriores, donde los parametros de disefo d d comprenden uno o varios de los parametros siguientes:

- Ponderacion de la parte de lejos;

- Ponderacion de la parte de cerca;

- Ponderacion de la parte de progresion;

- Ponderacion Dinamica;

- Puntos de aplicacion esenciales del cristal para gafas

- Parametros que determinan la posicion de la parte para lejos, para cerca y/o de progresion;

- Posicion espacial del punto de referencia de lejos y/o de cerca o punto de disefo;

- Parametros que determinan el recorrido de la funcion de distancia del objeto;

- Parametros que determinan el recorrido de una o varias lineas del isoastigmatismo teorico;

-Maximas distorsiones permitidas de la imagen, en particular maximo defecto permitido de refraccion, y/o maximo defecto permitido de astigmatismo.

10. Dispositivo para obtener o calcular parametros de disefo d d, d = 1, .M de un disefo para un cristal progresivo de gafa, que comprende:

-dispositivo de almacenamiento de poligono de disefo para almacenar datos de un poligono de disefo dado (10) , donde cada punto P dentro del poligono de disefo (10) designa o determina un disefo, y el disefo se caracteriza en el punto P por valores de disefo d d (P) ; donde los dispositivos de almacenamiento de disefo de esquina comprenden: -dispositivos de almacenamiento de disefo de esquina para almacenar los valores de disefo d d (PEck) , d = 1, .M de los parametros de disefo que caracterizan el disefo en cada punto de esquina (PEck) del poligono de disefo (10) , y - otros dispositivos de almacenamiento opcionales para almacenar los valores d d (Pzusatz) de los parametros de disefo, que caracterizan el disefo en por lo menos un punto adicional (Pzusatz) dentro del poligono de disefo (10) ,

-Medios de calculo de parametros de disefo, concebidos para realizar el metodo de obtencion y calculo de los parametros d d, d = 1, .M del disefo que se va a calcular, segun una de la reivindicaciones 1 a 9, mediante el poligono de disefo (10) dado que se ha almacenado.

11. Programa informatico, concebido, una vez cargado y realizado en ordenador, para llevar cabo un metodo de obtencion y calculo de los parametros d d, d= 1, .M de un disefo para un cristal progresivo de gafa, segun una de la reivindicaciones 1 a 9, .

12. Metodo asistido por ordenador para obtener o calcular un disefo de cristal progresivo para gafa mediante un poligono de disefo dado (10) , donde:

-cada punto P dentro del poligono de disefo (10) designa o determina un disefo, y el disefo en el punto P se caracteriza por unos valores de disefo dd (P) ;

-se dan o se pueden dar unos valores d d (PEck) , d=1, .M de los parametros de disefo, que caracterizan el disefo en cada punto de esquina PEck del poligono de disefo (10) ;

-se dan o se pueden dar unos valores opcionales dd (Pzusatz) de los parametros de disefo, que caracterizan el disefo en por lo menos un punto adicional Pzusatz dentro del poligono de disefo (10) ;

y el metodo comprende las siguientes etapas:

-Obtener o calcular los parametros de disefo para un cristal progresivo para gafa segun el metodo de una de las reivindicaciones 1 a 9;

- Calcular un disefo mediante los parametros de disefo obtenidos.

13. Metodo segun la reivindicacion 12, que comprende ademas la modificacion del disefo obtenido, donde la modificacion se realiza de forma interactiva en un dialogo con un usuario y/o automaticamente mediante datos individuales y/o las preferencias de un usuario de gafas.

14. Metodo segun la reivindicacion 13, que comprende ademas la visualizacion de la posicion espacial del disefo modificado dentro del poligono de disefo (10) .

15. Programa informatico, concebido, una vez cargado y realizado en ordenador, para llevar cabo un metodo de obtencion y calculo de un disefo para un cristal progresivo de gafa, mediante un poligono de disefo (10) dado, segun una de la reivindicaciones 12 a 14, .

16. Dispositivo para obtener o calcular un disefo para un cristal progresivo de gafa, que comprende:

-dispositivo de almacenamiento de poligono de disefo para almacenar datos de un poligono de disefo dado (10) , donde cada punto P dentro del poligono de disefo (10) designa o determina un disefo, y el disefo se caracteriza en el punto P por valores de disefo dd (P) ; donde los dispositivos de almacenamiento de disefo de esquina comprenden:

- dispositivos de almacenamiento de disefo de esquina para almacenar los valores de disefo d d (PEck) , d = 1, .M de los parametros de disefo que caracterizan el disefo en cada punto de esquina (PEck) del poligono de disefo (10) , y - otros dispositivos de almacenamiento opcionales para almacenar los valores d d (Pzusatz) de los parametros de disefo, que caracterizan el disefo en por lo menos un punto adicional (Pzusatz) dentro del poligono de disefo (10) ,

-Medios de calculo de parametros de disefo, concebidos para calcular un disefo para un cristal de gafa progresivo, segun una de las reivindicaciones 12 a 14.

17. Metodo asistido por ordenador para la fabricacion de un cristal progresivo para gafa, que comprende:

-Obtencion y/o calculo de un disefo para un cristal progresivo de gafa segun el metodo para obtener o calcular un disefo para un cristal progresivo de gafa mediante un poligono de disefo dado (10) segun una de las reivindicaciones 12 a 14,

- Calculo y/o optimizacion del cristal para gafa segun el disefo calculado de cristal para gafa.

18. Metodo segun la reivindicacion 17, donde el calculo y/o optimizacion del cristal para gafa comprende una minimizacion de la funcion de rendimiento:

F ( ) = Ʃ m [gi, Ast (Asti - Asti, soJJ) 2 +.]

i=1

donde Asti, soJJ el valor teorico (Sollwert) de la desviacion o defecto astigmatico local en la issima posicion de valoracion; Asti el valor real de la desviacion o defecto astigmatico local en la issima posicion de valoracion;

gi, Ast la ponderacion local de la desviacion o defecto astigmatico local en la issima posicion de valoracion.

19. Dispositivo para la fabricacion de un cristal progresivo para gafa, que comprende:

-Unos medios de calculo de disefo, concebidos para calcular un disefo para un cristal progresivo para gafa segun el metodo para generar y/o calcular un disefo de cristal progresivo para gafa segun una de las reivindicaciones 12 a 14; y

-Unos medios de optimizacion y/o calculo, concebidos para calcular y/o optimizar el cristal para gafa 10 segun el disefo calculado.

20. Programa informatico, concebido, una vez cargado y realizado en ordenador, para llevar cabo un metodo de calculo y optimizacion de un cristal progresivo de gafa, donde el metodo comprende:

-Calculo de un disefo para el cristal progresivo de gafa segun el metodo para generar y/o calcular un 15 disefo de cristal progresivo para gafa segun una de las reivindicaciones 12 a 14;

- Calculo y/o optimizacion del cristal progresivo para gafa segun el disefo calculado.

Figura 1

Figura 2

Figura 3

Figura 5b

Figura 10

Figura 11

Figura 12

Figura 13

Figura 15