Un objeto recubierto, en donde por lo menos una porción de la superficie del objeto comprende un polímero que comprende una unidad polimérica que comprende un grupo amida y en donde por lo menos una porción de una superficie del polímero que comprende una unidad polimérica que comprende un grupo amida tiene un recubrimiento expuesto por deposición química de vapor asistida por plasma sobre ésta,

el recubrimiento expuesto por deposición química de vapor asistida por plasma tiene un espesor mayor que 0,1 micrómetros, en donde el polímero que comprende una unidad polimérica que comprende un grupo amida es seleccionado entre el grupo que consiste en poliamidas, poliuretanos, poliureas, poliisocianuratos, polialofanatos, polibiurets, poliaminoácidos, Nacetil-polietilenimina, N-benzoilpolietilenimina, polivinilpirrolidonas, poliacrilamidas y poliimidas, sus mezclas, y copolímeros compuestos por estos, y en donde el recubrimiento expuesto es un recubrimiento de poliorganosiloxano que comprende Si, O, C y H y el recubrimiento expuesto tiene una adherencia al polímero que comprende una unidad polimérica que comprende un grupo amida mayor o igual a 4,0 de acuerdo con el ensayo ASTM D3359-02 y la adherencia es mayor o igual a 4,0 después de dos días de inmersión en agua a 65 °C y 200 horas de exposición a UV de acuerdo con el ensayo ASTM D4329.

0bjetos recubiertos ANTECEDENTES DE LA INVENCION

La presente invención se refiere a objetos sobre los que se ha aplicado un recubrimiento y, mas específicamente, la 5 presente invención se refiere a objetos polimericos sobre los que se ha aplicado un recubrimiento generado por plasma.

El uso de tecnicas de deposición qufmica de vapor asistida por plasma (PECVD) para recubrir un objeto, por ejemplo, con una capa de 6xido de silicio y/o una capa de poliorganosiloxano es bien conocido, como se describe, por ejemplo, en el documento W0 2004/044039 A2. La solicitud de patente japonesa numero 2003-326157 que tiene 10 un numero de publicación 2005-088422 divulg6 un recubrimiento por plasma de una capa de barrera de 0, 02 a 0, 03 micr6metros de espesor sobre pelfcula de resina de poliamida pero no expres6 nada sobre el grado de adherencia del recubrimiento. El laminado de policarbonato se usa ampliamente para aplicaciones de glaseado. La resistencia a la abrasión del laminado de policarbonato aumenta significativamente por medio de la aplicación de recubrimientos por PECVD resistentes a la abrasión sobre estos. Sin embargo, los recubrimientos de PECVD resistentes a la abrasión demuestran poca adherencia al laminado de policarbonato despues de la exposición a condiciones climaticas adversas. Asf, existe aun una necesidad de recubrimientos por PECVD resistentes a la abrasión (asf como tambien recubrimientos que tengan otros beneficios tales como recubrimientos humectables con agua) que se adhieran a un sustrato polimerico aun despues de la exposición a condiciones climaticas adversas.

SiNTESIS DE LA INVENCION

La presente invención provee una solución a los problemas arriba mencionados. Los recubrimientos de los objetos recubiertos de la presente invención son sorprendentemente adherentes aun despues de la exposición a condiciones climaticas adversas.

En una forma de realización, la presente invención se refiere a un objeto recubierto, en donde por lo menos una porción de la superficie del objeto comprende un polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un 25 grupo amida, y en donde por lo menos una porción de una superficie del polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida tiene un recubrimiento expuesto por deposición qufmica de vapor asistida por plasma sobre esta, teniendo el recubrimiento expuesto por deposición qufmica de vapor asistida por plasma un espesor mayor que 0, 1 micr6metros, en donde el polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida es seleccionado entre el grupo que consiste en poliamidas, poliuretanos, poliureas, poliisocianuratos, 30 polialofanatos, polibiurets, poliaminoacidos, N-acetil-polietilenimina, N-benzoil-polietilenimina, polivinilpirrolidonas, poliacrilamidas y poliimidas, sus mezclas y copolfmeros que los comprenden, y en donde el recubrimiento expuesto es un recubrimiento de poliorganosiloxano que comprende Si, 0, C y H, y el recubrimiento expuesto tiene una adherencia al polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida mayor o igual a 4, 0 de acuerdo con el ensayo ASTM D3359-02 y la adherencia es mayor o igual a 4, 0 despues de dos dfas de inmersión en agua a 65 º C y 200 horas de exposición a UV de acuerdo con el ensayo ASTM D4329.

En una forma de realización relacionada, la presente invención es un metodo para preparar un objeto recubierto, en donde por lo menos una porción de la superficie del objeto comprende un polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida, donde el metodo comprende el paso de recubrir por lo menos una porción de una superficie del polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida, por 40 un procedimiento de recubrimiento por deposición qufmica de vapor asistida por plasma para formar un recubrimiento expuesto por deposición qufmica de vapor asistida por plasma sobre esta, que tiene un espesor mayor que 0, 1 micr6metros, en donde el polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida es seleccionado entre el grupo que consiste en poliamidas, poliuretanos, poliureas, poliisocianuratos, polialofanatos, polibiurets, poliaminoacidos, N-acetilpolietilenimina, N-benzoil-polietilenimina, polivinilpirrolidonas, poliacrilamidas y 45 poliimidas, sus mezclas y copolfmeros que los comprenden, y en donde el recubrimiento expuesto es un recubrimiento de poliorganosiloxano que comprende Si, 0, C y H, y el recubrimiento expuesto tiene una adherencia al polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida mayor o igual a 4, 0 de acuerdo con el ensayo ASTM D3359-02 y la adherencia es mayor o igual a 4, 0 despues de dos dfas de inmersión en agua a 65 º C y 200 horas de exposición a UV de acuerdo con el ensayo ASTM D4329.

50 BREVE DESCRIPCION DE L0S DIBUJ0S

La Fig. 1 es una vista en corte transversal de una lamina de polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida que tiene un recubrimiento expuesto por deposición qufmica de vapor asistida por plasma sobre esta;

La Fig. 2 es una vista en corte transversal de una lamina de polfmero que comprende una unidad polimerica que 55 comprende un grupo amida que tiene una capa intermedia y un recubrimiento expuesto por deposición qufmica de vapor asistida por plasma sobre esta;

La Fig. 3 es una vista en corte transversal de una lamina de polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida laminado sobre uno de sus lados a una lamina de polfmero que no comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida, comprendiendo el otro lado de la lamina de polfmero una unidad polimerica que comprende un grupo amida que tiene un recubrimiento expuesto por deposición qufmica de vapor asistida por plasma sobre esta;

La Fig. 4 muestra una vista en corte transversal de una estructura como la mostrada en la Fig. 3 pero que tiene una segunda capa por deposición qufmica de vapor asistida por plasma posicionada entre la lamina de polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida y la capa expuesta por deposición qufmica de vapor asistida por plasma;

La Fig. 5 muestra una vista en corte transversal de una estructura de multiples capas que tiene una capa intermedia y recubrimientos expuestos por deposición qufmica de vapor asistida por plasma en ambos lados de una estructura de polfmero de tres capas, en donde la primera y la tercera capas estan hechas de un polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida;

La Fig. 6 muestra una vista en corte transversal de una estructura de nucleo de policarbonato de multiples capas que tiene una capa de polfmero de adherencia, una capa hecha de un polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida, una capa intermedia por deposición qufmica de vapor asistida por plasma y un recubrimiento expuesto por deposición qufmica de vapor asistida por plasma en ambos lados de la estructura; y La Fig. 7 muestra una vista en corte transversal de una estructura de nucleo de policarbonato de multiples capas que tiene una capa de polfmero de adherencia, una capa hecha de un polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida y un recubrimiento expuesto por deposición qufmica de vapor asistida por plasma en ambos lados de la estructura.

DESCRIPCION DETALLADA

La presente invención, en una forma de realización, es un objeto recubierto, en donde por lo menos una porción de la superficie del objeto comprende un polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida, y en donde por lo menos una porción de una superficie del polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida tiene un recubrimiento por deposición qufmica de vapor asistida por plasma sobre esta. Los recubrimientos de los objetos recubiertos de la presente invención son sorprendentemente adherentes, aun despues de la exposición a condiciones climaticas adversas.

La tecnica de deposición qufmica de vapor asistida por plasma específica usada en la presente invención no es crftica. Ejemplos de tecnicas de deposición qufmica de vapor asistida por plasma que se pueden usar incluyen tecnicas que emplean tanto presión atmosferica como tambien presión subatmosferica. El plasma puede ser, por ejemplo, y sin limitarse a estos, plasma corona, plasma de chispa, plasma por CC, plasma por CA (incluyendo plasma por RF) y plasma de microondas. Preferentemente, la tecnica de deposición qufmica de vapor asistida por plasma usada en la presente invención es... [Seguir leyendo]

1. Un objeto recubierto, en donde por lo menos una porción de la superficie del objeto comprende un polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida y en donde por lo menos una porción de una superficie del polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida tiene un recubrimiento expuesto por deposición qufmica de vapor asistida por plasma sobre esta, el recubrimiento expuesto por deposición qufmica de vapor asistida por plasma tiene un espesor mayor que 0, 1 micr6metros, en donde el polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida es seleccionado entre el grupo que consiste en poliamidas, poliuretanos, poliureas, poliisocianuratos, polialofanatos, polibiurets, poliaminoacidos, Nacetil-polietilenimina, N-benzoilpolietilenimina, polivinilpirrolidonas, poliacrilamidas y poliimidas, sus mezclas, y copolfmeros compuestos por estos, y en donde el recubrimiento expuesto es un recubrimiento de poliorganosiloxano que comprende Si, 0, C y H y el recubrimiento expuesto tiene una adherencia al polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida mayor o igual a 4, 0 de acuerdo con el ensayo ASTM D3359-02 y la adherencia es mayor o igual a 4, 0 despues de dos dfas de inmersión en agua a 65 º C y 200 horas de exposición a UV de acuerdo con el ensayo ASTM D4329.

2. El objeto recubierto de acuerdo con la reivindicación 1, que comprende ademas un recubrimiento de una capa intermedia por deposición qufmica de vapor asistida por plasma entre el objeto y el recubrimiento expuesto, los recubrimientos de capa intermedia y expuestos comprenden cada uno Si, 0, C y H.

3. El objeto recubierto de acuerdo con la reivindicación 2, en donde el recubrimiento tiene una adherencia al polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida mayor o igual a 4, 0 de acuerdo con el ensayo ASTM D3359-02 y la adherencia es mayor o igual a 4, 0 despues de dos dfas de inmersión en agua a 65 º C y 200 horas de exposición a UV de acuerdo con el ensayo ASTM D4329.

4. El objeto recubierto de acuerdo con la reivindicación 2, en donde los recubrimientos tienen una adherencia al polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida mayor o igual a 4, 0 de acuerdo con el ensayo ASTM D3359-02 y la adherencia es mayor o igual a 4, 0 despues de dos dfas de inmersión en agua a 65 º C y 200 horas de exposición a UV de acuerdo con el ensayo ASTM D4329.

5. El objeto recubierto de acuerdo con la reivindicación 1, en donde el objeto recubierto comprende una lamina de un polfmero que tiene por lo menos una capa de polfmero encima que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida.

6. El objeto recubierto de acuerdo con la reivindicación 5, en donde el recubrimiento expuesto tiene una adherencia al polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida mayor o igual a 4, 0 de acuerdo con el ensayo ASTM D3359-02 y la adherencia es mayor o igual a 4, 0 despues de dos dfas de inmersión en agua a 65 º C y 200 horas de exposición a UV de acuerdo con el ensayo ASTM D4329.

7. Un metodo para preparar un objeto recubierto, en donde por lo menos una porción de la superficie del objeto comprende un polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida, el metodo comprende el paso de recubrimiento de por lo menos una porción de una superficie del polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida por un procedimiento de recubrimiento por deposición qufmica de vapor asistida por plasma para formar un recubrimiento expuesto por deposición qufmica de vapor asistida por plasma encima que tiene un espesor mayor que 0, 1 micr6metro, en donde el polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida es seleccionado entre el grupo que consiste en poliamidas, poliuretanos, poliureas, poliisocianuratos, polialofanatos, polibiurets, poliaminoacidos, N-acetil-polietilenimina, Nbenzoil-polietilenimina, polivinilpirrolidonas, poliacrilamidas y poliimidas, sus mezclas y copolfmeros compuestos por estos, y en donde el recubrimiento expuesto es un recubrimiento de poliorganosiloxano que comprende Si, 0, C y H y el recubrimiento expuesto tiene una adherencia al polfmero que comprende una unidad polimerica que comprende un grupo amida mayor o igual a 4, 0 de acuerdo con el ensayo ASTM D3359-02 y la adherencia es mayor o igual a 4, 0 despues de dos dfas de inmersión en agua a 65 º C y 200 horas de exposición a UV de acuerdo con el ensayo ASTM D4329.

8. El metodo de acuerdo con la reivindicación 7, en donde el procedimiento de recubrimiento por deposición qufmica de vapor asistida por plasma es un procedimiento de recubrimiento por deposición qufmica de vapor asistida por plasma a presión atmosferica.