Dispositivo para la síntesis de nanopartículas mediante deposición química en fase de vapor en lecho fluidizado.
Dispositivo para la deposición en fase de vapor de especies químicas sobre granos de soporte de
forma esférica o similares dispuestos en un lecho fluidizado,
que comprende:
• una primera cámara (1) que tiene un lecho fluidizado en la que se aloja un elemento de fluidización (8) en forma de embudo, con el fin de recibir los granos de soporte (2) de forma esférica o similares,
• una segunda cámara (3), en conexión fluida con la primera cámara (1), que sirve tanto para proporcionar
precursores en fase de vapor de especies químicas para depositar sobre la granos de soporte (2) como para transportar un gas de fluidización hacia la primera cámara (1),
• una flauta (9), dispuesta en la entrada del elemento de fluidización (8), para controlar la distribución de los precursores en fase de vapor y del gas de fluidización dentro del elemento de fluidización (8),
caracterizado porque la flauta de distribución (9) comprende una o más ranuras o canales externos (92), la ranura
(92) o cada ranura (92) tiene una primera parte orientada a lo largo del eje longitudinal de la flauta (9) y una segunda parte que se enrolla helicoidalmente alrededor de dicho eje con el fin de generar un vórtice de gas de fluidización dentro de la primera cámara (1).
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/FR2009/001084.
Solicitante: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES.
Nacionalidad solicitante: Francia.
Dirección: BÂTIMENT ;LE PONANT D; 25, RUE LEBLANC 75015 PARIS FRANCIA.
Inventor/es: THOLLON,STEPHANIE, FILHOL,Lionel, DONNET,SÉBASTIEN.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- B01J37/02 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B01 PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL. › B01J PROCEDIMIENTOS QUÍMICOS O FÍSICOS, p. ej. CATÁLISIS O QUÍMICA DE LOS COLOIDES; APARATOS ADECUADOS. › B01J 37/00 Procedimientos para preparar catalizadores, en general; Procedimientos para activación de catalizadores, en general. › Impregnación, revestimiento o precipitación (protección por revestimiento B01J 33/00).
- C23C16/442 QUIMICA; METALURGIA. › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00). › utilizando procesos en lechos fluidizados.
- C23C16/455 C23C 16/00 […] › caracterizado por el proceso utilizado para introducir gases en la cámara de reacción o para modificar las corrientes de gas en la cámara de reacción.
PDF original: ES-2393841_T3.pdf
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