Composición fotoprotectora que contiene un derivado de 1,3,5-triazina fotosensible, un derivado de dibenzoilmetano, y una S-triazina siliciada y sustituida por dos grupos aminobenzoatos o aminobenzamidas.

Composición que comprende, al menos en un soporte fisiológicamente aceptable,

un sistema filtrante, caracterizada porque comprende:

(a) al menos un filtro UV del tipo derivado del dibenzoilmetano, y

(b) al menos un filtro UV de tipo 1,3,5-triazina fotosensible en presencia de un derivado del dibenzoilmetano, y

(c) al menos un compuesto s-triazina siliciada sustituida por dos grupos aminobenzoatos o aminobenzamidas de fórmula (I) siguiente, o una de sus formas tautoméricas:

en la que

- R, idénticos o diferentes, representan un radical alquilo de C1-C30, lineal o ramificado, y eventualmente halogenado o insaturado, un radical arilo de C6-C12, un radical alcoxi de C1-C10 o el grupo trimetilsililoxi;

- a = 0 a 3;

- el grupo D designa un compuesto s-triazina de fórmula (II) siguiente:

en la que

- X representa -O- o -NR3-, con R3 que representa el hidrógeno o un radical alquilo de C1-C5,

- R1 representa un radical alquilo de C1-C20, lineal o ramificado y eventualmente insaturado, y que puede tener un átomo de silicio, un grupo cicloalquilo de C5-C20, eventualmente sustituido con 1 a 3 radicales alquilos de C1-C4, lineales o ramificados, el grupo -(CH2CHR4-O)mR5 o el grupo -CH2-CH(OH)-CH2-O-R6,

- R4 representa hidrógeno o metilo; pudiendo estar el grupo (C=O)XR1 en la posición orto, meta o para del grupo amino,

- R5 representa el hidrógeno o un grupo alquilo de C1-C8,

- R6 representa el hidrógeno o un grupo alquilo de C4-C8,

- m es un número entero comprendido entre 2 y 20,

- n = 0 a 2,

- R2, idénticos o diferentes, representan un radical hidroxi, un radical alquilo de C1.C8, lineal o ramificado, un radical alcoxi de C1-C8, pudiendo formar juntos dos R2 adyacentes de un mismo núcleo aromático un grupo alquiliden-dioxi en el que el grupo alquilideno contiene 1 ó 2 átomos de carbono.

- A es un radical divalente seleccionado de entre metileno, -[CH(Si(CH3)3]-, etileno o un grupo que responde a una de las fórmulas (III), (IV) ó (V) siguientes:

en las que:

- Z es un diradical alquileno de C1-C10, lineal o ramificado, saturado o insaturado, eventualmente sustituido con un radical hidroxilo o unos oxígenos y que puede eventualmente contener un grupo amino,

- W representa un átomo de hidrógeno, un radical hidroxilo o un radical alquilo de C1-C8, lineal o ramificado, saturado o insaturado,

Composición fotoprotectora que contiene un derivado de 1, 3, 5-triazina fotosensible, un derivado de dibenzoilmetano, y una S-triazina siliciada y sustituida por dos grupos aminobenzoatos o aminobenzamidas La invención se refiere a una composición que comprende al menos, en un soporte fisiológicamente aceptable, un sistema filtrante, caracterizada porque comprende:

(a) al menos un filtro UV de tipo derivado del dibenzoilmetano, y

(b) al menos un filtro UV de tipo 1, 3, 5-triazina fotosensible en presencia de un derivado de dibenzoilmetano, y

(c) al menos un compuesto S-triazina siliciada sustituida por dos grupos aminobenzoatos o aminobenzamidas de fórmula (I) , o una de sus formas tautoméricas que se definirán más en detalle en adelante.

Se sabe que las radiaciones luminosas de longitudes de onda comprendidas entre 280 nm y 400 nm permiten el bronceado de la epidermis humana, y que los rayos de longitudes de onda más particularmente comprendidos entre 280 y 320 nm, conocidos bajo la denominación de UV-B, provocan eritemas y quemaduras cutáneas que pueden perjudicar al desarrollo del bronceado natural. Por estas razones, así como por razones estéticas, existe una demanda constante de medios de control de este bronceado natural con vistas a controlar así el color de la piel; conviene por lo tanto filtrar esta radiación UV-B.

Se sabe asimismo que los rayos UV-A, de longitudes de onda comprendidas entre 320 y 400 nm, que provocan el bronceado de la piel, son susceptibles de inducir una alteración de ésta, en particular en el caso de una piel sensible o de una piel continuamente expuesta a las radiaciones solares. Los rayos UV-A provocan, en particular, una pérdida de elasticidad de la piel y la aparición de arrugas que conducen a un envejecimiento cutáneo prematuro. Favorecen el desencadenamiento de la reacción eritematosa o amplifican esta reacción en algunos sujetos, y pueden incluso ser el origen de reacciones fototóxicas o fotoalérgicas. Así, por razones estéticas y cosméticas, tales como la conservación de la elasticidad natural de la piel, por ejemplo, cada vez más gente desea controlar el efecto de los rayos UV-A sobre su piel. Por lo tanto, es deseable filtrar también la radiación UV-A.

A este respecto, una familia de filtros UV-A particularmente interesante está actualmente constituida por los derivados del dibenzoilmetano, y en particular el 4-terc-butil-4'-metoxidibenzoilmetano, que presentan en efecto un fuerte poder de absorción intrínseca. Estos derivados del dibenzoilmetano, que son ahora unos productos bien conocidos en sí a título de filtros activos en los UV-A, se describen en particular en las solicitudes de patentes francesas FR-A-2326405 y FR-A-2440933, así como en la solicitud de patente europea EP-A-0114607; el 4-tercbutil-4'-metoxidibenzoilmetano es, por otra parte, actualmente puesto a la venta con la denominación comercial de "PARSOL 1789" por la compañía HOFFMANN LAROCHE.

Los derivados de 1, 3, 5-triazina son particularmente buscados en la cosmética solar debido a que son fuertemente activos en el UVB e incluso en el UV-A para algunos de estos compuestos, según la naturaleza de los sustituyentes utilizados. Se describen, en particular, en las solicitudes de patente US 4367390, EP863145, EP517104, EP570838, EP507691, EP796851, EP775698, EP878469, y EP933376, y se conoce en particular:

- la 2, 4, 6-tris[p- (2'-etilhexil-1'-oxicarbonil) anilino]-1, 3, 5-triazina o "Etilhexiltriazona" (nombre INCI) , vendida bajo la denominación comercial de "UVINUL T 150" por la compañía BASF,

- la 2-[ (p- (tertiobutilamido) anilino]-4, 6-bis-[ (p- (2'-etilhexil-1'-oxicarbonil) anilino]-1, 3, 5-triazina o «dietilhexil Butamido Triazona» (nombre INCI) vendida bajo el nombre comercial de «UVASORB HEB» por SIGMA 3V. Estos poseen un fuerte poder absorbente de los UVB y sería por lo tanto muy interesante poder utilizarlos en asociación con el 4-tercbutil-4'-metoxibenzoilmetano citado anteriormente con el objetivo de obtener unos productos que ofrecen una protección amplia y eficaz en el conjunto de las radiaciones UV.

El documento EP 848 945 A1 describe el efecto fotoestabilizador de los derivados siliciados con función benzalmalonato sobre las mezclas de filtros de tipo dibenzoilmetano con unos derivados de 1, 3, 5-triazina.

El documento EP 841 341 A1 divulga unos compuestos de s-triazina siliciados como unos filtros antisolares en unas composiciones cosméticas fotoprotectoras.

Sin embargo, la solicitante ha constatado que algunos de estos derivados de 1, 3, 5-triazina, cuando están en presencia de 4-terc-butil-4'-metoxibenzoilmetano son fotosensibles, es decir bajo irradiación UV, presentan el inconveniente de degradarse químicamente de manera significativa. En estas condiciones, la asociación de los dos filtros no permite ya una protección solar amplia y prolongada de la piel y de los cabellos.

La solicitante ha descubierto, de manera sorprendente, que la introducción de una s-triazina siliciada sustituida por dos grupos aminobenzoatos o aminobenzamidas de fórmula particular (I) en una composición que contiene un derivado de dibenzoilmetano, en particular 4-terc-butil-4'-metoxidibenzoilmetano, en asociación con al menos un derivado de 1, 3, 5-triazina fotosensible, y en particular con 2, 4, 6-tris[p- (2'-etilhexil-1'-oxicarbonil) analino]-1, 3, 5

triazina, permitía mejorar de manera muy notable la fotoestabilidad de este derivado de 1, 3, 5-triazina en el seno de tales composiciones, y por lo tanto la eficacia global de estas composiciones.

Este descubrimiento es la base de la invención.

La presente invención tiene por lo tanto por objeto una composición que comprende al menos, en un soporte fisiológicamente aceptable, un sistema filtrante, caracterizada porque comprende:

(a) al menos un filtro UV de tipo derivado del dibenzoilmetano, y

(b) al menos un filtro UV de tipo 1, 3, 5-triazina fotosensible en presencia de un derivado de dibenzoilmetano, y

(c) al menos un compuesto S-triazina siliciado sustituido por dos grupos aminobenzoatos o aminobenzamidas de fórmula (I) , o una de sus formas tautoméricas que se definirán más en detalle en adelante.

Así, según la presente invención, se pueden realizar unas composiciones cosméticas o dermatológicas que contienen 4-terc-butil-4'-metoxidibenzoilmetano en asociación con al menos un derivado de 1, 3, 5-triazina fotosensible, composiciones en las que la concentración de derivado de 1, 3, 5-triazina sigue siendo relativamente constante incluso si estas composiciones son sometidas a la acción de la luz.

La presente invención tiene asimismo por objeto un procedimiento para mejorar la estabilidad a la radiación UV (fotosensibilidad) de un derivado de 1, 3, 5-triazina fotosensible en presencia de un derivado de dibenzoilmetano; caracterizado porque consiste en añadir a dicha asociación al menos un compuesto s-triazina siliciado sustituido por dos grupos aminobenzoatos o aminobenzamidas de fórmula (I) o una de sus formas tautoméricas que se definirán más en detalle en adelante.

La presente invención tiene asimismo por objeto el uso de al menos una s-triazina siliciada, sustituida por dos grupos aminobenzoatos o aminobenzamidas de fórmula (I) , o de una de sus formas tautoméricas que se definirán en adelante con más detalle, en una composición que comprende al menos un derivado de dibenzoilmetano y al menos un derivado de 1, 3, 5-triazina fotosensible en presencia de esta, con el objetivo de mejorar la fotoestabilidad de dicho derivado de 1, 3, 5-triazina.

Otras características, aspectos y ventajas de la invención aparecerán en la lectura de la descripción detallada a continuación.

A continuación en la presente descripción, se entiende por "sistema que filtra las radiaciones UV", un agente que filtra las radiaciones UV constituido de un compuesto orgánico o mineral único que filtra las radiaciones UV, o bien una mezcla de varios compuestos orgánicos o minerales que filtran las radiaciones UV, por ejemplo una mezcla que comprende un filtro UVA y un filtro UVB.

Por "cosméticamente aceptable" se entiende compatible con la piel y/o sus apéndices, que presenta un color, olor y tacto agradables y que no genera molestias inaceptables (picores, tiranteces, rojeces) , susceptibles de disuadir a la consumidora de utilizar esta composición.

Por "filtro fotosensible en presencia de un derivado de dibenzoilmetano" se entiende cualquier filtro susceptible de degradarse químicamente bajo... [Seguir leyendo]

1. Composición que comprende, al menos en un soporte fisiológicamente aceptable, un sistema filtrante, caracterizada porque comprende:

(a) al menos un filtro UV del tipo derivado del dibenzoilmetano, y

(b) al menos un filtro UV de tipo 1, 3, 5-triazina fotosensible en presencia de un derivado del dibenzoilmetano, y

(c) al menos un compuesto s-triazina siliciada sustituida por dos grupos aminobenzoatos o aminobenzamidas de fórmula (I) siguiente, o una de sus formas tautoméricas:

en la que

- R, idénticos o diferentes, representan un radical alquilo de C1-C30, lineal o ramificado, y eventualmente halogenado

o insaturado, un radical arilo de C6-C12, un radical alcoxi de C1-C10 o el grupo trimetilsililoxi;

- a = 0 a 3;

- el grupo D designa un compuesto s-triazina de fórmula (II) siguiente:

en la que

- X representa -O- o -NR3-, con R3 que representa el hidrógeno o un radical alquilo de C1-C5,

- R1 representa un radical alquilo de C1-C20, lineal o ramificado y eventualmente insaturado, y que puede tener un átomo de silicio, un grupo cicloalquilo de C5-C20, eventualmente sustituido con 1 a 3 radicales alquilos de C1-C4, lineales o ramificados, el grupo - (CH2CHR4-O) mR5 o el grupo -CH2-CH (OH) -CH2-O-R6,

- R4 representa hidrógeno o metilo; pudiendo estar el grupo (C=O) XR1 en la posición orto, meta o para del grupo amino,

- R5 representa el hidrógeno o un grupo alquilo de C1-C8,

- R6 representa el hidrógeno o un grupo alquilo de C4-C8,

- m es un número entero comprendido entre 2 y 20.

25. n = 0 a 2,

- R2, idénticos o diferentes, representan un radical hidroxi, un radical alquilo de C1.C8, lineal o ramificado, un radical alcoxi de C1-C8, pudiendo formar juntos dos R2 adyacentes de un mismo núcleo aromático un grupo alquiliden-dioxi en el que el grupo alquilideno contiene 1 ó 2 átomos de carbono.

- A es un radical divalente seleccionado de entre metileno, -[CH (Si (CH3) 3]-, etileno o un grupo que responde a una 30 de las fórmulas (III) , (IV) ó (V) siguientes:

en las que:

- Z es un diradical alquileno de C1-C10, lineal o ramificado, saturado o insaturado, eventualmente sustituido con un radical hidroxilo o unos oxígenos y que puede eventualmente contener un grupo amino,

- W representa un átomo de hidrógeno, un radical hidroxilo o un radical alquilo de C1-C8, lineal o ramificado, saturado

o insaturado, 2. Composición según la reivindicación 1, en la que el compuesto de fórmula (I) está en forma tautomérica de fórmula (I') siguiente:

en la que el grupo D' designa un compuesto s-triazina de fórmula (II') siguiente:

3. Composición según la reivindicación 1 ó 2, en la que el compuesto de fórmula (I) comprende además unas unidades de fórmula (R) b- (Si) (O) (4-b) /2, en las que:

R tiene el mismo significado que en la fórmula (I) , 15 b = 1, 2 ó 3.

4. Composición según la reivindicación 3, en la que los compuestos de fórmula (I) se seleccionan entre aquellos para los cuales al menos una, y preferiblemente el conjunto, de las características siguientes se cumplen: R es metilo, a = 1 ó 2, 20 X es O, R1 es un radical de C4-C5, n = 0, el grupo (C=O) XR1 está en la posición para con respecto al grupo amino, z = -CH2-. W = H.

5. Composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, en la que los compuestos de fórmula (I) se seleccionan entre los que responden a una de las fórmulas (Ia) , (Ib) o (Ic) siguientes:

en las que:

- (D) responde a la fórmula (II) tal como se ha definido en las reivindicaciones anteriores,

- R7, idénticos o diferentes, se seleccionan entre los radicales alquilo lineales o ramificados de C1-C20, fenilo, 3, 3, 3trifluoropropilo y trimetilsililoxi o el radical hidroxi,

- R8, idénticos o diferentes, se seleccionan entre los radicales alquilo y alquenilo, lineales o ramificados de C1-C20, los radicales hidroxi o fenilo,

- (B) , idénticos o diferentes, se seleccionan entre los radicales R7 y el radical (D) ,

- r es un número entero comprendido entre 0 y 200 inclusive,

- s es un número entero comprendido entre 0 y 50 y si s = 0, al menos uno de los dos símbolos (B) designa (D) .

15. u es un número entero comprendido entre 1 y 10,

- t es un número entero comprendido entre 0 y 10, entendiéndose que t + u es igual o mayor que 3, así como sus formas tautoméricas.

6. Composición según la reivindicación 5, en la que los compuestos de fórmula (Ia) o (Ib) son unos oligómeros o polímeros estadísticos que presentan al menos una, y más preferiblemente el conjunto, de las características 20 siguientes:

- R7 es el radical metilo o el radical hidroxi,

- B es preferiblemente metilo.

7. Composición según la reivindicación 6, en la que el compuesto de fórmula (I) se selecciona de entre los compuestos de fórmula (a) a (m) siguientes, así como sus formas tautoméricas:

8. Composición según la reivindicación 7, en la que el compuesto de fórmula (I) es el compuesto 2, 4-bis (4'-diilaminobenzoato de n-butilo) -6-{[1, 3, 3, 3-tetrametil-1-[ (trimetilsilil) oxi]disiloxanil]propil-3-ilamino}-s-triazina de estructura (b) :

9. Composición según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en la que el o los compuestos s-triazina de fórmula (I) están presentes cantidades comprendidas entre 0, 01 y 20% en peso y más preferiblemente entre 0, 1 y 10% y aún más preferiblemente entre 0, 1 y 6% en peso con respecto al peso total de la composición.

10. Composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizada porque el derivado de dibenzoilmetano se selecciona entre:

- el 2-metildibenzoilmetano,

- el 4-metildibenzoilmetano,

- el 4-isopropildibenzoilmetano.

10. el 4-terc-butildibenzoilmetano,

- el 2, 4-dimetildibenzoilmetano,

- el 2, 5-dimetildibenzoilmetano,

- el 4, 4'-diisopropildibenzoilmetano,

- el 4, 4'-dimetioxidibenzoilmetano.

15. el 4-terc-butil-4'-metoxidibenzoilmetano,

- el 2-metil-5-isopropil-4'-metoxidibenzoilmetano,

- el 2-metil-5-terc-butil-4'-metoxidibenzoilmetano,

- el 2, 4-dimetil-4'-metoxidibenzoilmetano,

- el 2, 6-dimetil-4-terc-butil-4'-metoxidibenzoilmetano.

11. Composición según la reivindicación 10, caracterizada porque el derivado de dibenzoilmetano es el 4- (terc-butil) 4'-metoxidibenzoilmetano.

12. Composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 11, en la que el derivado de dibenzoilmetano está presente en cantidades que oscilan de 0, 01 a 20% en peso y más preferiblemente de 0, 1% a 10% en peso, y aún más particularmente de 0, 1 a 6% en peso con respecto al peso total de la composición.

13. Composición según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en la que el o los filtros UV de tipo 1, 3, 5triazina lipofílicos no siliciados se seleccionan entre los derivados de 1, 3, 5-triazina de fórmula (VIII) siguiente:

en la que los radicales A1, A2 y A3, idénticos o diferentes, se selecciona entre los grupos de fórmulas (IX) :

en la que:

- Xa, idénticos o diferentes, representan el oxígeno o el radical -NH-;

- Ra, idénticos o diferentes, se seleccionan entre: el hidrógeno; un metal alcalino; un radical amonio eventualmente sustituido con uno o varios radicales alquilo o hidroxialquilo; un radical alquilo lineal o ramificado de C1-C18; un radical cicloalquilo de C5-C12 eventualmente sustituido con uno o varios radicales alquilo de C1-C4; un radical polioxietilenado que comprende de 1 a 6 unidades de óxido de etileno y cuyo grupo OH terminal está metilado; un radical de fórmulas (X) , (XI) o (XII) siguientes:

en las que:

- R10 es un radical alquilo de C1-C9;

- q es un número entero comprendido entre 0 y 3;

- r es un número entero comprendido entre 1 y 10.

15. A' es un radical alquilo de C4-C8 o un radical cicloalquilo de C5-C8;

- B' se selecciona entre: un radical alquilo lineal o ramificado de C1-C8; un radical cicloalquilo de C5-C8; un radical arilo eventualmente sustituido con uno o varios radicales alquilo de C1-C4.

14. Composición según la reivindicación 13, en la que los derivados de 1, 3, 5-triazina que responden a la fórmula (VIII) , se seleccionan entre aquellos para los cuales A1, A2 y A3 son de fórmula (IX) y presentan las características 20 siguientes:

- uno de los radicales Xa-Ra representa el radical -NH-Ra, con Ra seleccionado entre: un radical cicloalquilo de C5-C12 eventualmente sustituido con uno o varios radicales alquilo de C1-C4; un radical de fórmula (X) , (XI) o (XII) anterior en los que B' es un radical alquilo de C1-C4, y R10 es el radical metilo;

- los 2 otros Xa-Ra representan el radical -O-Ra, con Ra, idénticos o diferentes seleccionados entre: el hidrógeno; un

metal alcalino; un radical amonio eventualmente sustituido con uno o varios radicales alquilo o hidroxialquilo; un radical alquilo lineal o ramificado de C1-C18; un radical cicloalquilo de C5-C12 eventualmente sustituido con uno o varios radicales alquilo de C1-C4; un radical de fórmula (X) , (XI) o (XII) anterior en los que B' es un radical alquilo de C1-C4, y R10 es el radical metilo.

15. Composición según la reivindicación 13, en la que los derivados de 1, 3, 5-triazina que responden a la fórmula (VIII) , se selecciona entre aquellos para los cuales A1, A2 y A3 son de fórmula (IX) y presentan las características siguientes:

- uno o dos de los radicales Xa-Ra representa el radical -NH-Ra, con Ra seleccionado entre: un radical alquilo lineal o ramificado de C1-C18; un radical cicloalquilo de C5-C12 eventualmente sustituido con uno o varios radicales alquilo de C1-C4; un radical de fórmula (X) , (XI) o (XII) anterior en los que B' es un radical alquilo de C1-C4, y R10 es el radical metilo;

- siendo el otro o los dos otros Xa-Ra el radical -O-Ra, con Ra, idénticos o diferentes seleccionados entre: el hidrógeno; un metal alcalino; un radical amonio eventualmente sustituido con uno o varios radicales alquilo o hidroxialquilo; un radical alquilo lineal o ramificado de C1-C18; un radical cicloalquilo de C5-C12 eventualmente sustituido con uno o varios radicales alquilo de C1-C4; un radical de fórmula (X) , (XI) o (XII) anterior en los que B' es un radical alquilo de C1-C4, y R10 es el radical metilo.

16. Composición según la reivindicación 15, en la que el derivado de 1, 3, 5-triazina de fórmula (VIII) es la 2-[ (p (tertiobutilamido) anilino]-4, 6-bis-