Procedimiento y dispositivo para aplicar revestimientos de plástico.

Dispositivo para aplicar revestimientos sobre superficies de substratos en forma de papel,

cartón o láminas deplástico, especialmente productos de impresión, preferiblemente para refinar productos de impresión, cuyodispositivo comprende

- una unidad de revestimiento para aplicar material de revestimiento en forma fluida sobre la superficie delsubstrato y para realizar un revestimiento lateralmente estructurado dejando libres algunas zonas de lasuperficie del substrato, así como

- un equipo de transporte para mover la superficie del substrato por delante de la unidad de revestimiento conrelación a dicha unidad de revestimiento y a lo largo de una dirección de desplazamiento, preferiblemente pormovimiento del substrato por delante de una unidad de revestimiento estacionaria, así como

- un equipo para alisar la película aún fluida aplicada sobre la superficie del substrato por medio de la unidad derevestimiento, comprendiendo el equipo un equipo para generar una corriente de gas que se dirige hacia lasuperficie del substrato revestida con la película y alisa la película eliminando al menos parcialmente estructurasno deseadas de la superficie de la película, tales como cavidades, resaltos y cráteres, antes del endurecimientodel material de revestimiento, y que transporta entonces el material de revestimiento por medio de la corrientede gas en menos de 1 mm, de manera especialmente preferida menos de 0,25 mm, a lo largo de la superficie.

Procedimiento y dispositivo para aplicar revestimientos de plástico.

La invención concierne en general a la aplicación de revestimientos tales como, por ejemplo, barnices. En particular, la invención concierne a equipos y medidas para influir deliberadamente sobre la estructura superficial de la película aún fluida, tal como, por ejemplo, para el alisado de películas de revestimiento aplicadas. Con alisado se quiere dar a entender aquí especialmente la eliminación de estructuras o perturbaciones no deseadas de la superficie del revestimiento, lo que se explica seguidamente con más precisión.

Debido al procedimiento de aplicación para barnices o al substrato a revestir con un barniz o material de revestimiento, las películas de revestimiento aplicadas pueden presentar estructuras o perturbaciones no deseadas. Tales estructuras o perturbaciones pueden ser, entre otras, estructuras de rodillos, estructuras longitudinales derivadas de la transferencia desde rodillos, franjas longitudinales de aplicación irregular o defectos de transferencia durante la aplicación del revestimiento.

Otra causa de estructuras superficiales perturbadoras puede ser el substrato. La naturaleza de la superficie del substrato puede provocar estructuras o perturbaciones en la superficie del revestimiento. Por ejemplo, debido a unas cavidades no humectadas en el substrato se pueden producir cráteres en la superficie de revestimiento. Esto puede ocurrir en particular, pero no exclusivamente, al aplicar sin contacto físico el material de revestimiento, aquí especialmente al aplicar sin contacto dicho material por medio de boquillas.

Se conoce en general por el estado de la técnica el alisado de revestimientos con rasquetas, cuchillas de aire o rasquetas de aire o rodillos lisos. No obstante, existe aquí el problema de que tales procedimientos no se puedan aplicar sobre capas de barniz lateralmente estructuradas en las que, por ejemplo, deban dejarse libres algunas partes del revestimiento superficial (revestimiento parcial) . El tratamiento con una rasqueta o un rodillo conduce, aparte de un alisado de la superficie, a que la capa de barniz aún líquida se distribuya también sobre la superficie y llegue igualmente a zonas que deben dejarse libres del revestimiento.

Se conoce también por el documento DE 44 43 261 A1 un procedimiento para alisar capas en el que se alisan por medio de ultrasonidos unas capas líquidas o pastosas aplicadas sobre una base. A este fin, está previsto un oscilador ultrasónico que transfiere estos a la capa. El substrato con la capa es puesto en contacto desde el lado superior con el oscilador ultrasónico para realizar una transferencia efectiva de las oscilaciones ultrasónicas, siendo curvado o doblado el substrato por efecto del oscilador ultrasónico.

En el documento JP 59225772 A se describe también un alisado de una película aplicada por medio de ultrasonidos. Se aplica aquí el revestimiento con un aplicador de rodillo. El substrato se desliza sobre un rodillo que está dispuesto enfrente del oscilador ultrasónico. El ultrasonido se acopla sin contacto físico al lado de la capa a través del aire. Se realiza aquí también, al igual que en el documento DE 44 43 261 A1, un curvado del substrato en el lugar de aplicación de los ultrasonidos.

Sin embargo, dependiendo del substrato, esto puede no ser deseado o puede resultar impracticable, por ejemplo cuando el substrato sea demasiado rígido o puedan temerse daños. Dado que en ambos casos anteriormente descritos se varía, además, la dirección de movimiento del substrato en el respectivo equipo para influir deliberadamente sobre la superficie del material de revestimiento fluido, una construcción de esta clase se puede integrar solamente con dificultad en instalaciones ya existentes, como, por ejemplo, máquinas de impresión o instalaciones de refinamiento de la impresión.

Se conocen por el documento WO 2006/069904 A2 un procedimiento y un dispositivo para tratar una banda de material fibroso durante su fabricación o refinamiento. En este caso, se entrega un medio de aplicación de líquido a pastoso con un mecanismo aplicador, sin contacto y sin exceso de medio de aplicación, a la banda de material fibroso y a continuación de esto se iguala o alisa la capa aplicada fresca.

Se conoce por el documento US 2003/0010283 A1 un procedimiento para la fabricación de un dispositivo emisor de luz. El dispositivo comprende un elemento emisor de luz con un radiador constituido por un compuesto orgánico. Por medio de un dispositivo de impresión se aplica el compuesto orgánico sobre la superficie y se alisa el compuesto orgánico por medio de un chorro de gas.

La invención se basa en el problema de eliminar o alisar perturbaciones de la superficie que se presenten durante la aplicación de un revestimiento para generar una superficie exenta de perturbaciones con independencia del procedimiento de aplicación empleado y de los substratos empleados.

Asimismo, por medio de la invención se deberán poder reducir los trayectos de recorrido de las instalaciones de revestimiento.

Por consiguiente, la invención prevé un dispositivo y un procedimiento para aplicar revestimientos sobre superficies de substratos, en donde se emplean una unidad de revestimiento para aplicar material de revestimiento en forma fluida sobre la superficie del substrato y un equipo de transporte para mover la superficie del substrato por delante de la unidad de revestimiento con relación a la dicha unidad de revestimiento y a lo largo de una dirección de desplazamiento. Preferiblemente, se mueve para ello el substrato por delante de una unidad de revestimiento estacionaria. Sin embargo, es imaginable también mantener fijo el substrato y mover la unidad de revestimiento.

Asimismo, se ha previsto un equipo para influir deliberadamente sobre la superficie del revestimiento, tal como, por ejemplo, para el alisado de la película aún fluida aplicada sobre la superficie del substrato por medio de la unidad de revestimiento. Este equipo comprende un equipo para generar una corriente de gas que se dirige hacia la superficie del substrato revestida con la película y que alisa la película eliminando al menos parcialmente estructuras perturbadoras de la superficie de la película, tal como cavidades, resaltos y cráteres, antes del endurecimiento del material de revestimiento. Por consiguiente, el alisado se efectúa sin contacto físico por medio de la corriente de gas.

Es aquí sorprendente el hecho de que es posible lograr con la corriente de gas una eliminación muy efectiva de estructuras perturbadoras en la superficie de la película, sin que el material de revestimiento sea transportado a lo largo de la superficie, por ejemplo en trayectos bastante grandes. El transporte del material de revestimiento por la corriente de gas a lo largo de la superficie se mantiene aquí preferiblemente en un valor inferior a 1 mm, en particular preferiblemente inferior a 0, 25 mm. Los contornos de los bordes de zonas revestidas se mantienen de manera especialmente preferida completamente fuera de la influencia del alisado. Esto significa que no se introduce material de revestimiento en zonas no revestidas por efecto del alisado.

La invención es adecuada especialmente en combinación con una aplicación de revestimiento sin contacto físico por medio de una disposición de boquillas. Asimismo, es ventajoso a este respecto un equipo de control asistido por ordenador para activar las boquillas de revestimiento de modo que, mediante un control correspondiente de las boquillas, se puedan generar también revestimientos lateralmente muestreados, aquí especialmente dejando libres algunas zonas de la superficie del substrato. Se utiliza de manera especialmente preferida una unidad de revestimiento del tipo drop-on-demand, o sea, una unidad de revestimiento por gotas según demanda, con boquillas para la entrega de las respectivas gotas individuales del material de revestimiento como reacción a señales de control. Las boquillas de la unidad de revestimiento están dispuestas preferiblemente en al menos una fila transversalmente a la dirección de desplazamiento.

Precisamente en un procedimiento sin contacto físico, tal como, por ejemplo, en el caso de un revestimiento por medio de una unidad de revestimiento por gotas según demanda o una unidad de impresión por chorros de tinta, ocurre en muchos substratos, especialmente substratos porosos, tales como papel o cartón, que el revestimiento forma una película en la que están presentes, distribuidos por... [Seguir leyendo]

1. Dispositivo para aplicar revestimientos sobre superficies de substratos en forma de papel, cartón o láminas de plástico, especialmente productos de impresión, preferiblemente para refinar productos de impresión, cuyo dispositivo comprende -una unidad de revestimiento para aplicar material de revestimiento en forma fluida sobre la superficie del substrato y para realizar un revestimiento lateralmente estructurado dejando libres algunas zonas de la superficie del substrato, así como

- un equipo de transporte para mover la superficie del substrato por delante de la unidad de revestimiento con relación a dicha unidad de revestimiento y a lo largo de una dirección de desplazamiento, preferiblemente por 10 movimiento del substrato por delante de una unidad de revestimiento estacionaria, así como

- un equipo para alisar la película aún fluida aplicada sobre la superficie del substrato por medio de la unidad de revestimiento, comprendiendo el equipo un equipo para generar una corriente de gas que se dirige hacia la superficie del substrato revestida con la película y alisa la película eliminando al menos parcialmente estructuras no deseadas de la superficie de la película, tales como cavidades, resaltos y cráteres, antes del endurecimiento

del material de revestimiento, y que transporta entonces el material de revestimiento por medio de la corriente de gas en menos de 1 mm, de manera especialmente preferida menos de 0, 25 mm, a lo largo de la superficie.

2. Dispositivo según la reivindicación anterior, caracterizado porque la unidad de revestimiento está concebida como una unidad de revestimiento por gotas según demanda que tiene boquillas para entregar respectivas gotas individuales del material de revestimiento como reacción a señales de control, -en donde la disposición de boquillas aplica el material de revestimiento sin contacto físico sobre la superficie del substrato, y -en donde las boquillas de la unidad de revestimiento están dispuestas en al menos una fila que discurre transversalmente a la dirección de desplazamiento y cubre la anchura manipulable del substrato en al menos hasta tres cuartas partes en sentido perpendicular a la dirección de desplazamiento, y -en donde las boquillas están dispuestas de preferencia rígidamente en sentido transversal a la dirección de desplazamiento, comprendiendo también la unidad de revestimiento un equipo de control asistido por ordenador para activar las boquillas.

3. Dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la unidad de revestimiento comprende uno de los equipos siguientes:

-un equipo de aplicación a rodillo, -un equipo de impresión en huecograbado, -un equipo de impresión flexográfica, -un equipo de impresión serigráfica, -un equipo de impresión digital, - un equipo de impresión por tampón.

4. Dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el equipo de alisado comprende un equipo para generar una corriente de gas con al menos una fila de boquillas de gas que discurre transversalmente a la dirección de desplazamiento.

5. Dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el equipo para generar una 40 corriente de gas comprende al menos uno de los equipos siguientes:

- un equipo para generar una corriente de gas pulsada, -un equipo calefactor para calentar la al menos una corriente de gas, -un equipo para tramar la corriente de gas sobre al menos una zona parcial de la superficie del substrato, -un equipo para solicitar la corriente de gas con ondas ultrasónicas, 45 -al menos una boquilla para generar una corriente de gas turbulenta, -una disposición de boquillas que genera corrientes de gas que inciden bajo direcciones espaciales diferentes sobre la superficie del substrato y/o presentan gradientes en la velocidad de flujo en varias direcciones a lo largo de la superficie, -un equipo para generar una corriente de gas que incide bajo un ángulo oblicuo sobre la superficie del substrato, 50 especialmente bajo un ángulo en el rango de más de 0º a 90º, ventajosamente en el rango de 20º a 80º, preferiblemente aquí en el rango de 30º a 70º, de manera especialmente preferida en el rango de 40º a 60º, medido con respecto a la vertical sobre la superficie.

6. Dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por un equipo de endurecimiento para endurecer el material de revestimiento, el cual está dispuesto detrás del equipo de alisado, considerado en la 55 dirección de desplazamiento, comprendiendo el equipo de endurecimiento una fuente de luz UV y/o un horno y/o un radiador calefactor y/o una fuente de microondas.

7. Dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, concebido como máquina de impresión offset, impresión en huecograbado, impresión flexográfica, impresión serigráfica, impresión digital o impresión por tampón.

8. Procedimiento para aplicar revestimientos sobre superficies de substratos, en el que

- se aplica con una unidad de revestimiento un material de revestimiento en forma fluida y se forma un revestimiento lateralmente estructurado dejando libres algunas zonas de la superficie del substrato, mientras que

- se mueve con un equipo de transporte la superficie del substrato por delante de la unidad de revestimiento con relación a dicha unidad de revestimiento y a lo largo de una dirección de desplazamiento, preferiblemente por 10 movimiento del substrato por delante de una unidad de revestimiento estacionaria, y -en donde se alisa la película aún fluida aplicada sobre la superficie del substrato por medio de la unidad de revestimiento antes de la consolidación de dicha película, -en donde se genera para el alisado una corriente de gas y se dirige ésta hacia la superficie del substrato revestida con la película, y se transporta el material de revestimiento por medio de la corriente de gas en menos 15 de 1 mm, en particular preferiblemente menos de 0, 25 mm a lo largo de la superficie, -en donde se aplica el material de revestimiento sin contacto físico sobre la superficie del substrato por medio de una disposición de boquillas, -en donde se activan las boquillas por medio de un equipo de control asistido por ordenador y se aplica la película por el procedimiento de gotas según demanda, a cuyo fin las boquillas entregan respectivas gotas 20 individuales del material de revestimiento como reacción a señales de control.

9. Procedimiento según la reivindicación anterior, caracterizado porque se aplica el material de revestimiento con boquillas que están dispuestas en al menos una fila que discurre transversalmente a la dirección de desplazamiento y que cubre la anchura manipulable del substrato hasta al menos tres cuartas partes de la misma en sentido perpendicular a la dirección de desplazamiento, y en donde las boquillas están dispuestas de preferencia rígidamente en sentido transversal a la dirección de desplazamiento.

10. Procedimiento según cualquiera de las dos reivindicaciones anteriores, caracterizado porque se aplica el material de revestimiento por aplicación a rodillo, impresión serigráfica, impresión digital o impresión por tampón.

11. Procedimiento según cualquiera de las tres reivindicaciones anteriores, caracterizado porque se dirige la

corriente de gas hacia el substrato por medio de una fila de boquillas que está dispuesta transversalmente a la 30 dirección de desplazamiento.

12. Procedimiento según cualquiera de las cuatro reivindicaciones anteriores, caracterizado porque se alisa la película

- con una corriente de gas turbulenta o pulsada o con una corriente de gas solicitada con ondas ultrasónicas o -con al menos una corriente de gas calentada, calentándose la al menos una corriente de gas a una temperatura 35 en el rango de 50 a 500ºC, ventajosamente en el rango de 100 a 400ºC, en particular preferiblemente en el rango de 150 a 300ºC, o

- con una corriente de gas que incide bajo un ángulo oblicuo sobre la superficie del substrato, especialmente bajo un ángulo en el rango de más de 0º a 90º, ventajosamente en el rango de 20º a 80º, preferiblemente aquí en el rango de 30º a 70º, en particular preferiblemente en el rango de 40º a 60º, medido con respecto a la vertical

sobre la superficie, o -con corrientes de gas que inciden bajo direcciones espaciales diferentes sobre la superficie del substrato y/o presentan gradientes en la velocidad de flujo en varias direcciones a lo largo de la superficie, o -con al menos una corriente de gas que se trama sobre al menos una zona parcial de la superficie del substrato.

13. Procedimiento según cualquiera de las cinco reivindicaciones anteriores, caracterizado porque se aplica una 45 película con un espesor de capa de menos de 100 micrómetros, ventajosamente menos de 50 micrómetros, en particular preferiblemente menos de 30 micrómetros o menos de 20 micrómetros, en particular menos de 10 micrómetros, cerrándose por el alisado unas cavidades, especialmente unas cavidades a manera de cráteres y más especialmente unas cavidades que llegan hasta el substrato.

14. Procedimiento según cualquiera de las seis reivindicaciones anteriores, caracterizado porque se endurece la 50 película después del alisado por medio de un equipo de endurecimiento, aplicándose un material de revestimiento endurecible con UV o una tinta de impresión y endureciéndose ésta después del alisado mediante radiación de luz UV y/o mediante calentamiento en un horno y/o con un radiador calefactor y/o por medio de una fuente de microondas.