PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE MEMBRANAS METALICAS ULTRAFINAS DE ESPESOR CONTROLADO POR ATAQUE IONICO REACTIVO Y CON PARADA AUTOMATICA Y MICROESTRUCTURAS CAPACITIVAS RESULTANTES.
Procedimiento de fabricación de membranas metálicas ultrafinas de espesor controlado por ataque iónico reactivo y con parada automática y microestructuras capacitivas resultantes,
en que se realiza en un soporte del electrodo fijo (1) consistente en vidrio de alto contenido de óxido de sodio (Na{sub,2}O) el grabado de una cavidad (G) de espesor micrométrico de geometría definida por medio de un proceso de fotolitografía y ataque iónico reactivo y se dispone sobre dicha cavidad (G) una primera capa de material metálico (M1); se deposita sobre la cara superior (cs) de un soporte del electrodo deformable (2) consistente en un soporte de silicio, una segunda capa de material metálico (M2) y en ella se establece una máscara (3), se deposita sobre la cara inferior (ci) una tercera capa de material metálico (M3) y se pegan ambos soportes y se elimina el silicio entre máscaras (3).#De aplicación en electrónica de microcondensadores.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: ANGEL IGLESIAS, S.A..
Nacionalidad solicitante: España.
Provincia: GUIPÚZCOA.
Inventor/es: ETXEBARRIA INTXAUSTI,JON ANDER, GRACIA GAUDO,F. GRACIA.
Fecha de Solicitud: 23 de Marzo de 2005.
Fecha de Publicación: .
Fecha de Concesión: 21 de Enero de 2009.
Clasificación Internacional de Patentes:
- B81B3/00M2D
- B81B7/04 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B81 TECNOLOGIA DE LAS MICROESTRUCTURAS. › B81B DISPOSITIVOS O SISTEMAS DE MICROESTRUCTURA, p. ej. DISPOSITIVOS MICROMECANICOS (elementos piezoeléctricos, electroestrictivos o magnetoestrictivos en sí H01L 41/00). › B81B 7/00 Sistemas de microestructura. › Redes o matrices de dispositivos de microestructura semejantes.
- B81C1/00C4D
Clasificación PCT:
- B81B3/00 B81B […] › Dispositivos que tienen elementos flexibles o deformables, p.ej. que tienen membranas o láminas elásticas (B81B 5/00 tiene prioridad).
- B81C1/00 B81 […] › B81C PROCEDIMIENTOS O APARATOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA LA FABRICACION O EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS O SISTEMAS DE MICROESTRUCTURA (fabricación de microcápsulas o de microbolas B01J 13/02; procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de elementos piezoeléctricos o electroestrictivos o magnetoestrictivos en sí H01L 41/22). › Fabricación o tratamiento de dispositivos o de sistemas en o sobre un substrato (B81C 3/00 tiene prioridad).
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