PROCEDIMIENTO PARA EL PULIDO QUIMICO-MECANICO DE UNA CAPA DE UN MATERIAL A BASE DE COBRE.
Un procedimiento para abrillantar químico-mecánicamente una capa en un material a base de cobre utilizando una composición de abrillantamiento,
que se caracteriza porque dicha composición de abrillantamiento comprende una suspensión acuosa de partículas individuales de sílice coloidal no unidas entre sí mediante enlaces siloxano. Su diámetro medio está comprendido entre 10 y 100 nm, el pH de la suspensión acuosa está comprendido entre 1 y 5.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: CLARIANT (FRANCE) S.A..
Nacionalidad solicitante: Francia.
Dirección: 70, AVENUE DU GENERAL DE GAULLE,92058 PARIS LA DEFENSE CEDEX.
Inventor/es: JACQUINOT, ERIC, LETOURNEAU, PASCAL, RIVOIRE, MAURICE.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 22 de Julio de 1999.
Fecha Concesión Europea: 17 de Septiembre de 2008.
Clasificación PCT:
- C09K3/14 QUIMICA; METALURGIA. › C09 COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES; ADHESIVOS; COMPOSICIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE LOS MATERIALES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR. › C09K SUSTANCIAS PARA APLICACIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE SUSTANCIAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR. › C09K 3/00 Sustancias no cubiertas en otro lugar. › Sustancias antideslizantes; Abrasivos.
- G09G1/04 FISICA. › G09 ENSEÑANZA; CRIPTOGRAFIA; PRESENTACION; PUBLICIDAD; PRECINTOS. › G09G DISPOSICIONES O CIRCUITOS PARA EL CONTROL DE DISPOSITIVOS DE REPRESENTACION QUE UTILIZAN MEDIOS ESTATICOS PARA PRESENTAR UNA INFORMACION VARIABLE (dispositivos de transferencia de datos entre computadores y pantallas digitales G06F 3/14; dispositivos de representación estáticos realizados por la asociación disociable de varias fuentes individuales o de varias celdas individuales que controlan la luz G09F 9/00; dispositivos de representación estáticos realizados por la asociación constructiva indisociable de varias fuentes de luz H01J, H01K, H01L, H05B 33/12; digitalización, transmisión o reproducción de documentos o similares p. ej. transmisión por fax o detalles del mismo H04N 1/00). › G09G 1/00 Disposiciones o circuitos de control que presenten interés únicamente para la representación utilizando tubos de rayos catódicos. › Circuitos de deflexión.
- H01L21/321 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › Postratamiento.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania.
Patentes similares o relacionadas:
COMPOSICIÓN DE RECUBRIMIENTO DE CAUCHO ELASTOMÉRICO NANOESTRUCTURADO, NO TEJIDO DE ELEVADA RESISTENCIA AL DESGASTE QUE COMPRENDE FIBRAS CORTAS DE POLIPARAFENILENO TEREFTALAMIDA, PARTÍCULAS DE ÓXIDO DE ZIRCONIO Y NANOTUBOS DE CARBONO, del 23 de Julio de 2020, de FASTPACK S.A: La invención proporciona una composición de recubrimiento de caucho elastomérico nanoestructurado, no tejido de elevada resistencia al desgaste, adecuada para su uso en […]
Partículas abrasivas que tienen una morfología única, del 15 de Julio de 2020, de DIAMOND INNOVATIONS, INC.: Una partícula de diamante monocristalino que comprende: hoyos y picos que proporcionan a la partícula una superficie irregular; en la que la rugosidad de superficie […]
Partículas abrasivas conformadas con factor de redondez bajo, del 15 de Julio de 2020, de 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY: Partículas abrasivas conformadas que comprenden alfa-alúmina, que comprenden una primera cara y una segunda cara conectadas entre sí por una pared lateral , […]
Partículas abrasivas con forma de plato con una superficie rebajada, del 1 de Julio de 2020, de 3M Innovative Properties Co: Partículas abrasivas que comprenden partículas abrasivas con forma de plato; teniendo cada una de las partículas abrasivas con forma de plato […]
Partículas composite de diamante unidas por un cerámico friable y procedimientos para producir las mismas, del 24 de Junio de 2020, de DIAMOND INNOVATIONS, INC.: Un procedimiento de producción de partículas composite de diamante aglutinadas por cerámico, comprendiendo el procedimiento: formar una materia prima de […]
Artículo abrasivo que incluye partículas abrasivas conformadas, del 17 de Junio de 2020, de SAINT-GOBAIN CERAMICS & PLASTICS, INC.: Una partícula abrasiva conformada que comprende un cuerpo que tiene una primera superficie principal, una segunda superficie principal y una superficie lateral unida a la primera […]
Artículo abrasivo para la conformación de materiales industriales, del 22 de Abril de 2020, de SAINT-GOBAIN ABRASIVES, INC.: Un artículo abrasivo , que comprende: una base ; un ensamblado de montaje acoplado a la base , comprendiendo […]
Partícula abrasiva multicapa, del 18 de Marzo de 2020, de Klingspor AG: Una partícula abrasiva multicapa que tiene una estructura de capas de capas apiladas , estando formadas las capas respectivas paralelas a un plano […]