MATGERIAL DE GRABACION SENSIBLE AL CALOR.
Un material de grabación sensible al calor, que consta de: a) por lo menos un compuesto cromógeno y b) por lo menos un revelador de la **fórmula** en la que R1 es fenilo o naftilo que puede estar sin sustituir o sustituidos por alquilo C1-C8,
alcoxi C1-C8 o halógeno; o alquilo C1-C20 que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C1-C8 o halógeno; X es un grupo de la **fórmula** ((sustituir or por o)) A es fenileno, naftileno o alquileno C1-C12 sin sustituir o sustituidos o es un grupo heterocíclico sin sustituir o sustituido, B es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO2-, -SO2-O-, -NH- SO2-, -SO2-NH-, -S-SO2-, -O-CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -S-CO- NH-, -S-CS-NH-, -CO-NH-SO2-, -O-CO-NH-SO2-, -NH=CH-, -CO-NH- CO-, -S-, -CO-, -O-, -SO2-NH-CO-, -O-CO-O- y -O-PO-(OR2)2 y R2 es arilo, con preferencia fenilo o naftilo, que puede estar sin sustituir o sustituido por alquilo C1-C8, alquilo C1-C8 sustituido por halógeno, alquilo C1-C8 sustituido por alcoxi C1-C8, alcoxi C1-C8, alcoxi C1-C8 sustituido halógeno o halógeno; o bencilo que puede estar sustituido por alquilo C1-C8, alquilo C1-C8 sustituido por halógeno, alquilo C1-C8 sustituido por alcoxi C1-C8, alcoxi C1-C8, alcoxi C1-C8 sustituido por halógeno o halógeno; o alquilo C1-C20 que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C1-C8, halógeno, fenilo o naftilo; con la condición de que si B no es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO2-, entonces R2 es fenilo, naftilo o alquilo C1- C8 sin sustituir o sustituidos y que si B es -O-, entonces R2 no es alquilo y con la condición siguiente: si B significa -OSO2- o -SO2O-, entonces R2 no es alquilo C1-C20.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC..
Nacionalidad solicitante: Suiza.
Dirección: KLYBECKSTRASSE 141,4057 BASEL.
Inventor/es: HENEGHAN, MICHAEL, HENSHALL, JOHN BARRY, WHITWORTH, JOHN, KIRK, ROY ALAN, TAYLOR, JAMES PHILIP, O\'NEIL, ROBERT MONTGOMERY.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 3 de Diciembre de 1999.
Fecha Concesión Europea: 15 de Septiembre de 2004.
Clasificación Internacional de Patentes:
- B41M5/30 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41M PROCESOS DE IMPRESION, DE REPRODUCCION, DE MARCADO O COPIADO; IMPRESION EN COLOR (corrección de errores tipográficos B41J; procedimientos para aplicar imágenes transferencia o similares B44C 1/16; productos fluidos para corregir errores tipográficos C09D 10/00; impresión de textiles D06P). › B41M 5/00 Procesos de reproducción o de marcado; Materiales en hojas utilizadas con este fin (por empleo de materias fotosensibles G03; electrografía, magnetografía G03G). › utilizando formadores de color químicos (B41M 5/34 tiene prioridad).
- C07C311/51 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07C COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos macromoleculares C08; producción de compuestos orgánicos por electrolisiso electroforesis C25B 3/00, C25B 7/00). › C07C 311/00 Amidas de ácidos sulfónicos, es decir, compuestos en los que átomos de oxígeno, unidos por enlaces sencillos, de grupos sulfónicos han sido sustituidos por átomos de nitrógeno que no forman parte de grupos nitro o nitroso. › siendo Y un átomo de hidrógeno o de carbono.
- C07C311/60 C07C 311/00 […] › que tienen átomos de nitrógeno de los grupos sulfonilurea unidos a átomos de carbono de ciclos aromáticos de seis miembros.
- C07C311/62 C07C 311/00 […] › que tienen átomos de nitrógeno de los grupos sulfonilurea acilados.
- C07C317/50 C07C […] › C07C 317/00 Sulfonas; Sulfóxidos. › en que al menos uno de los átomos de nitrógeno forma parte de uno de los grupos en que X es un heteroátomo e Y un átomo cualquiera.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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