POLIMEROS DE SILOXANO ZWITTETIONICOS Y POLIMEROS RETICULADOS IONICAMENTE FORMADOS A PARTIR DE LOS MISMOS.
Un método para preparar una composición reticulada iónicamente de una consistencia similar a un gel espesado,
que comprende hacer reaccionar (A) un polisiloxano que contiene diamino de la fórmula general: R, que pueden ser iguales o diferentes, se seleccionan de alquilo, arilo, olefina (vinilo), sustituidos o no sustituidos, o -OR9, en donde R9 es hidrógeno o alquilo; R1 pueden ser iguales o diferentes y pueden seleccionarse de R, R2 o un radical que contiene diamino de la fórmula -F1-NR5-F-NH2; con la condición de que al menos un grupo R1 sea un radical que contiene diamino; en donde F1 es alquileno lineal o ramificado de 1-12 átomos de carbono; F es alquileno lineal o ramificado de 1-10 átomos de carbono y R5 es hidrógeno o alquilo inferior; R2 pueden ser iguales o diferentes y se seleccionan de alquilo, arilo y olefina (vinilo), sustituidos o no sustituidos, o -OR9, en donde R9 es hidrógeno o alquilo; R3 y R4, que pueden ser iguales o diferentes, se seleccionan de alquilo, arilo, polioxialquileno protegido o no protegido, alcarileno, aralquileno o alquenilo, sustituidos o no sustituidos; a es un número entero de 0 a 10.000; y b es un número entero de 10 a 1000; con la condición de que cuando un grupo R1 colgante sea un radical que contiene diamino, a puede ser 0 o a y b están presentes en la relación de a:b de al menos 1:1 a 200:1; con (B), un reaccionante que contiene ácido seleccionado de ácido itacónico y/o los derivados de éster trialquilsilílico del mismo; anhídrido de ácido cíclico sustituido o no sustituido; ácido olefínico conjugado sustituido o no sustituido y mezclas de los mismos, a una temperatura elevada en presencia de (C) un aceite silicónico de bajo peso molecular u otro disolvente durante un tiempo suficiente para formar un polímero de siloxano zwitteriónico reticulado iónicamente de una consistencia similar a gel espesada que contiene radicales tanto ácido carboxílico como amino secundario y/o terciario.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: MONA INDUSTRIES, INC.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 76 EAST 24TH STREET,PATERSON NEW JERSEY 07544.
Inventor/es: FOST, DENNIS, L., GORMLEY, JOHN, L., BERGER, ABE.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 26 de Octubre de 2000.
Fecha Concesión Europea: 21 de Mayo de 2003.
Clasificación Internacional de Patentes:
- A61K7/06
- A61K7/48
- C08G77/26 QUIMICA; METALURGIA. › C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES. › C08G COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES DISTINTAS A AQUELLAS EN LAS QUE INTERVIENEN SOLAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO (procesos de fermentación o procesos que utilizan enzimas para sintetizar un compuesto dado o una composición dada o para la separación de isómeros ópticos a partir de una mezcla racémica C12P). › C08G 77/00 Compuestos macromoleculares obtenidos por reacciones que forman un enlace que contiene silicio con o sin azufre, nitrógeno, oxígeno o carbono en la cadena principal de la macromolécula. › grupos que contienen nitrógeno.
- C08G77/388 C08G 77/00 […] › que contienen nitrógeno.
- C08L83/08 C08 […] › C08L COMPOSICIONES DE COMPUESTOS MACROMOLECULARES (composiciones basadas en monómeros polimerizables C08F, C08G; pinturas, tintas, barnices, colorantes, pulimentos, adhesivos D01F; filamentos o fibras artificiales D06). › C08L 83/00 Composiciones de compuestos macromoleculares obtenido por reacciones que forman un enlace que contiene silicio con o sin azufre, nitrógeno, oxígeno o carbono, solamente en la cadena principal; Composiciones de los derivados de tales polímeros. › que contienen silicio unido a grupos orgánicos que contienen átomos distintos al carbono, hidrógeno y oxígeno.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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