BAÑO ALCALINO O NEUTRO PARA LA DEPOSICION GALVANICA DE PALADIO O ALEACIONES DE PALADIO.
BAÑO ALCALINO O NEUTRO PARA LA DEPOSICION GALVANICA DE PALADIO O ALEACIONES DE PALADIO,
QUE CONTIENE 2 A 25 G/L DE PALADIO COMO COMPLEJO DE DIAMINO-DICLORO-PALADIO , 0,01 MOL A 1 MOL DE NITRITO (-NO{SUB,2}) POR MOL DE PALADIO, AL MENOS UNA SAL CONDUCTORA, PREFERIBLEMENTE TAMBIEN UNA SUSTANCIA AMORTIGUADORA, UN ABRILLANTADOR Y UN HUMECTANTE, Y AGUA.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: AMI DODUCO GMBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: IM ALTGEFALL 12, 75181 PFORZHEIM.
Inventor/es: MARKA, ERWIN.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 24 de Febrero de 1999.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C25D3/50 QUIMICA; METALURGIA. › C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS. › C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › de metales del grupo del platino.
- C25D3/56 C25D 3/00 […] › de aleaciones.
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