ELECTRODO PARA CUBA ELECTROLITICA, SU UTILIZACION Y PROCEDIMIENTO QUE LO EMPLEA.

Electrodo para cuba electrolítica, estando colocado dicho electrodo en una envolvente que define una cámara (78),

una pared de la cual está formada por una membrana (83) que permite el paso de iones a su través, presentando dicha envolvente una primera abertura (100) para alimentar la cámara con un electrólito y una segunda abertura (101) para evacuar el electrólito dela cámara, estando provista dicha envolvente de medios que definen canales verticales (112) destinados a dirigir el ujo ascendente del electrólito con una velocidad de al menos 0,01 m/s, caracterizado dicho electrodo porque comprende una serie de aletas (111) verticales que se extienden entre una extremidad inferior y una extremidad superior, porque la envolvente comprende una abertura para alimentar con electrólito la cámara definida por la envolvente en la extremidad inferior de las aletas (111), y una abertura, en la proximidad de la extremidad superior de las aletas, para evacuar el electrólito de la cámara del electrólito, y porque las aletas actúan como electrodo y forman entre ellas canales distintos (112), estando formada una pared de dichos canales por una rejilla o una banda porosa (84) que lleva dicha membrana (83) cambiadora de iones, y porque las aletas (111) tienen una altura (h) comprendida entre 5 y 10 mm, mientras que la distancia que separa dos aletas adyacentes está comprendida entre 5 y 10 mm.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: SIKEL N.V.
MAY, HANS JOSEF
SCHNETTLER, ROLAND
.

Nacionalidad solicitante: Bélgica.

Dirección: KANAALOEVER 3,B-3600 GENK.

Inventor/es: MAY, HANS, JOSEF, SCHNETTLER, ROLAND, PRUM, NORBERT.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 27 de Mayo de 1992.

Fecha Concesión Europea: 9 de Junio de 1999.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C25D17/12 QUIMICA; METALURGIA.C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 17/00 Elementos estructurales, o sus ensambles, de células para revestimiento electrolítico. › Forma o configuración (C25D 17/14 tiene prioridad).
  • C25D5/08 C25D […] › C25D 5/00 Revestimientos electrolíticos caracterizados por el proceso; Pretratamiento o tratamiento posterior de las piezas. › Deposiciones con electrolito en movimiento, p. ej. deposiciones por proyección.
  • C25D7/06 C25D […] › C25D 7/00 Deposiciones de metales por vía electrolítica caracterizadas por el objeto revestido. › Alambres; Cintas; Chapas.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Italia, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Finlandia, Rumania, Oficina Europea de Patentes, Australia, Barbados, Bulgaria, Brasil, Canadá, Hungría, Japón, República de Corea, Sri Lanka, Madagascar, Mongolia, Malawi, Noruega, Polonia, Federación de Rusia, Sudán, Estados Unidos de América, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Senegal, Chad, Togo, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, República Popular Democrática de Corea, Checoslovaquia.

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