MEJORAS INTRODUCIDAS EN UN PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE UNA FORMA DE IMPRESION.

CONSISTE EN APLICAR A UNA BASE DE MATERIAL DE COPIA YA SEA METALICO,

COMO EL ZINC, COBRE, LATON, ACERO O ALUMINIO O DE PLASTICO, PAPEL O MATERIALES SIMILARES; UNA CAPA DE REPRODUCCION FOTOSENSIBLE QUE DESPUES DE REVELADAS CONTIENEN PRODUCTOS DE POLICONDENSACION DE SALES DE DIAZONIO, INSOLUBLES EN AGUA Y TAMBIEN PIGMENTOS, PLSTIFICANTES Y HUMECTANTES ENTRE OTROS. LA SOLUCION REVELADORA UTILIZADA SE COMPONE DE AGUA, DE UN 0,5 A 13,0 F POR CIENTO DE UN DISOLVENTE ORGANICO COMO EL ALCOHOL BENCILICO, DE UN AGENTE ALCALINO, DE UN ACOMPLEJANTE TIPO POLIFOSFATO, DE UN TENSIOACTIVO, DE UN EMULGENTE COMO LA POLI-N-VINIL-N-METILACETAMIDA , DE UN ACIDO N-ALCANOICO COMO EL ACIDO CAPRILICO, DE UN TAMPON TIPO CARBONATO, Y DE UN TENSIOACTIVO ANIONICAMENTE ESTRUCTURADO COMO EL OCTILSULFATO SODICO.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: D-6230 FRANKFURT MAIN 80,ALEMANIA FEDERAL.

Fecha de Solicitud: 28 de Octubre de 1985.

Fecha de Publicación: 16 de Octubre de 1992.

Fecha de Concesión: 3 de Junio de 1992.

Clasificación Internacional de Patentes:

G03F7/016 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Sales de diazonio, o bien compuestos de ellas (G03F 7/075 tiene prioridad).

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