UN PROCEDIMIENTO PARA REVELAR PLANCHAS PARA LA IMPRESION FOTOSENSIBLES EXPUESTAS FOTOGRAFICAMENTE.
Un procedimiento para revelar planchas para la impresión fotosensibles expuestas fotográficamente,
dotadas de un substrato de aluminio oxidado anódicamente y de una capa fotosensible, que contiene una o-naftoquinondiazida y una resina soluble en álcali, procedimiento en el que las zonas expuestas de la capa se eliminan acuosa, caracterizado porque el revelado se lleva a cabo en presencia de un compuesto ionizable de un elemento de los grupos principales II o III, o del grupo secundario III del Sistema Periódico.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: POSTFACH 80 03 20, 6230 FRANKFURT-MAIN 80.
Fecha de Solicitud: 10 de Agosto de 1979.
Fecha de Publicación: .
Fecha de Concesión: 16 de Abril de 1980.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03C5/24
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