SISTEMA DE CONTROL DEL CHORRO DE UN CITOMETRO DE FLUJO.

UN MONITOR DE CHORRO DIRECTO (66) ILUMINA EL CHORRO DE UN CITOMETRO DE FLUJO EN UNA BANDA DE LONGITUD DE ONDA DE MONITORIZACION QUE ESTA SUBSTANCIALMENTE SEPARADA DE LA BANDA DE LONGITUD DE ONDA DE LA SUBSTANCIA. CUANDO SE UTILIZA UN LASER PARA PROVOCAR LA FLUORESCENCIA DE LA SUBSTANCIA, ESTE PUEDE SER APROPIADO PARA UTILIZAR UNA FUENTE INFRARROJA

(67) PARA ILUMINAR EL CHORRO Y DE ESTA FORMA MONITORIZAR OPTICAMENTE LAS CONDICIONES DENTRO DEL CHORRO A TRAVES DE UNA CAMARA CCD (68) O SIMILAR. ESTA MONITORIZACION OPTICA PUEDE SUMINISTRARSE PARA ALGUNOS TIPOS DE SISTEMAS DE CONTROLADOR O DE REALIMENTACION (34) QUE CAMBIE AUTOMATICAMENTE BIEN LA UBICACION HORIZONTAL DEL CHORRO, BIEN EL PUNTO EN EL CUAL SE PRODUCE LA SEPARACION DE GOTAS, O BIEN ALGUNA OTRA CONDICION DENTRO DEL CHORRO PARA MANTENER UNAS CONDICIONES OPTIMAS. EL DISPOSITIVO DE MONITORIZACION DE CHORRO DIRECTO (66) PUEDE SER ACCIONADO SIMULTANEAMENTE CON EL SISTEMA DE DETECCION Y ANALISIS DE LAS PROPIEDADES DE LA SUBSTANCIA DE MANERA QUE PUEDE CONSEGUIRSE UNA MONITORIZACION CONTINUA SIN INTERFERIR CON LA RECOGIDA DE DATOS DE LA SUBSTANCIA Y PUEDE CONFIGURARSE DE MANERA QUE PERMITA QUE EL FRENTE DEL ANALISIS O EL AREA DE CAIDA LIBRE (7) NO SEAN OBSTRUIDOS DURANTE EL PROCESAMIENTO.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: UNIVERSITY OF WASHINGTON.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 1107 N.E. 45TH STREET, SUITE 200,SEATTLE, WA 98105.

Inventor/es: VAN DEN ENGH, GER.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 13 de Octubre de 1995.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION G — FISICA > METROLOGIA; ENSAYOS > INVESTIGACION O ANALISIS DE MATERIALES POR DETERMINACION... > Investigación de características de partículas;... > G01N15/14 (Investigación por medios electroópticos)

Países PCT: Bélgica, Suiza, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Liechtensein, Suecia, Oficina Europea de Patentes, Kenya, Malawi, Sudán, Uganda, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Organización Africana de la Propiedad Intelectual.

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