MODULO DE GRABADO SUAVE MEDIANTE UTIL DE AGRUPACION Y GENERADOR DE PLASMA ECR PARA EL MISMO.

SE PREVE UN GENERADOR DE PLASMA DE RESONANCIA DE CICLOTRON DE ELECTRON (24) EN UN APARATO DE PROCESAMIENTO DE PLASMA EN PASTILLA SEMICONDUCTORA Y MODULO DE HERRAMIENTA DE GRUPO (10),

PARTICULARMENTE PARA SU USO EN GRABACION AL AGUAFUERTE BLANDA. EL GENERADOR (24) GENERA UN PLASMA UNIFORME GIRANDO UNA CAMPO MAGNETICO QUE SOPORTA UNA RESONANCIA QUE PRODUCE PLASMA ALREDEDOR DEL EJE (56) DE UNA CAVIDAD DE RESONANCIA (26) DENTRO DE LA CAMARA DE VACIO (16) DE UN PROCESADOR DE PLASMA. EL CAMPO GIRADO ES PREFERENTEMENTE UN CAMPO DE PUNTO ESTACIONARIO UNICO O MULTIPUNTO ESTACIONARIO PRODUCIDO POR UN CONJUNTO MAGNETICO (60), PREFERENTEMENTE FORMADO DE UNA RED CILINDRICA DE IMANES EN BARRA /0), MONTADOS PARA GIRAR ALREDEDOR DE LA PARTE EXTERIOR DE LA PARED (35) DE LA CAVIDAD (26). EL GAS FLUYE UNIFORMEMENTE DENTRO Y A TRAVES DE LA CAVIDAD A PARTIR DE UNA DUCHA DE DISTRIBUCION DE GAS (48). LA ENERGIA DE MICROONDAS SE DIVIDE EN PARTES IGUALES Y SE ACOPLA DENTRO DE LA CAVIDAD EN MODO TM01 POR UNA PLURALIDAD DE BUCLES AXIAL Y RADIALMENTE ALINEADOS (55).

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: MATERIALS RESEARCH CORPORATION.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: ROUTE 303 NORTH,ORANGEBURG, NEW YORK 10962.

Inventor/es: GHANBARI, EBRAHIM.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 21 de Enero de 1992.

Fecha Concesión Europea: 6 de Septiembre de 1995.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H01J37/32 ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › Tubos de descarga en atmósfera gaseosa (calefacción por descarga H05B).
  • H05H1/46 H […] › H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.H05H TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00; generadores magnetohidrodinámicos H02K 44/08; producción de rayos X utilizando la generación de un plasma H05G 2/00 ); PRODUCCION DE PARTICULAS ACELERADAS ELECTRICAMENTE CARGADAS O DE NEUTRONES (obtención de neutrones a partir de fuentes radiactivas G21, p. ej. G21B, G21C, G21G ); PRODUCCION O ACELERACION DE HACES MOLECULARES O ATOMICOS NEUTROS (relojes atómicos G04F 5/14; dispositivos que utilizan la emisión estimulada H01S; regulación de la frecuencia por comparación con una frecuencia de referencia determinada por los niveles de energía de moléculas, de átomos o de partículas subatómicas H03L 7/26). › H05H 1/00 Producción del plasma; Manipulación del plasma (aplicación de la técnica del plasma a reactores de fusión termonuclear G21B 1/00). › utilizando campos electromagnéticos aplicados, p. ej. energía a alta frecuencia o en forma de microondas (H05H 1/26 tiene prioridad).

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Finlandia, Rumania, Oficina Europea de Patentes, Australia, Barbados, Bulgaria, Brasil, Canadá, Hungría, Japón, República de Corea, Sri Lanka, Madagascar, Mongolia, Malawi, Noruega, Polonia, Federación de Rusia, Sudán, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Senegal, Chad, Togo, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, República Popular Democrática de Corea, Checoslovaquia.

Patentes similares o relacionadas:

Dispositivo de ablación por chispas y procedimiento de generación de nanopartículas, del 17 de Junio de 2020, de VSParticle Holding B.V: Un dispositivo de ablación por chispas de generación de nanopartículas provisto de una entrada/salida para el gas y que comprende un generador de chispas […]

Dispositivo de recubrimiento por plasma post-descarga para sustratos con forma de alambre, del 29 de Abril de 2020, de Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST): Dispositivo de recubrimiento de plasma post-descarga para un sustrato con forma de alambre , que comprende: - un electrodo tubular interno sobre una pared tubular […]

Sistema de capa de vacío y tratamiento con plasma, y procedimiento para recubrir un sustrato, del 26 de Febrero de 2020, de VAPOR TECHNOLOGIES, INC: Un sistema de tratamiento con plasma y recubrimiento de vacío que comprende: un conjunto de plasma dispuesto de modo tal que mira a un sustrato […]

Proceso de plasma y reactor para el tratamiento termoquímico de la superficie de piezas metálicas, del 19 de Febrero de 2020, de Universidade Federal De Santa Catarina (UFSC): Proceso para el tratamiento superficial termoquímico de piezas metálicas, en un reactor (R) de plasma que tiene una cámara de reacción (RC) […]

Fuente de plasma para un aparato de CVD de plasma y un procedimiento de fabricación de un artículo por el uso de la fuente de plasma, del 19 de Febrero de 2020, de AGC Inc: Una fuente de plasma para un aparato de CVD de plasma, que comprende: un grupo de electrodos que incluye cuatro electrodos, que son un primer electrodo […]

Dispositivo de revestimiento para el revestimiento de un sustrato, así como un procedimiento para el revestimiento de un sustrato, del 15 de Enero de 2020, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Dispositivo de evaporación de un material diana que comprende una cámara de proceso para el establecimiento y el mantenimiento […]

Fuente de evaporación por arco, del 18 de Diciembre de 2019, de KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.): Una fuente de evaporación por arco, incluyendo: un blanco a fundir y evaporar de una superficie de extremo delantero (3a) del blanco […]

Método para el revestimiento de un sustrato con una capa de polímero, del 11 de Diciembre de 2019, de EUROPLASMA NV: Un método para revestir un sustrato con una capa de polímero, donde dicho método comprende la localización de un primer juego de electrodos (14, […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .