MATERIAL DE REGISTRO SENSIBLE A LA RADIACION PARA LA PRODUCCION DE PLACAS DE IMPRESION PLANOGRAFICA.

SE PRESENTA UN MATERIAL DE GRABACION SENSIBLE A LA RADIACION, PARA EL TRABAJO EN POSITIVO PARA LA PRODUCCION DE PLACAS DE IMPRESION PLANOGRAFICAS, QUE COMPRENDE UN SOPORTE DE ALUMINIO Y UNA CAPA SENSIBLE A LA RADIACION RECUBIERTA SOBRE EL MISMO, EN DONDE - EL SOPORTE DE ALUMINIO HA SIDO GRANULADO EN ACIDO NITRICO, LUEGO DECAPADO EN ACIDO SULFURICO, ANALIZADO EN ACIDO SULFURICO, Y SUBSECUENTEMENTE HIDROFILIZADO CON UN COMPUESTO QUE COMPRENDE AL MENOS UNA UNIDAD CON UN ACIDO FOSFONICO O UN GRUPO DE FOSFONATO Y - LA CAPA SENSIBLE A LA RADIACION COMPRENDE A) UN ESTER SENSIBLE A LA RADIACION DE ACIDO 1,2-NAFTOQUINONA-2DIAZURO-4- O -5- SULFONICO Y UN POLICONDENSADO QUE TIENE GRUPOS DE HIDROXIDO FENOLICO, EL POLICONDENSADO SE OBTIENE HACIENDO REACCIONAR UN COMPUESTO FENOLICO CON UN ALDEHIDO O UNA QUETONA, B) UN NOVOLAC O UN PRODUCTO DE POLICONDENSACION OBTENIDO HACIENDO REACCIONAR POLIFENOL CON UN ALDEHIDO O UNA QUETONA, COMO UNA RESINA SOLUBLE EN ALCALI, C) UN POLIMERO DE TIPO VINILO QUE COMPRENDE AL MENOS UNA UNIDAD QUE TIENE AL MENOS UN GRUPO DE HIDROXIFENILO LATERAL, D) UN CLATRATO, D) UN COMPUESTO DE BAJO PESO MOLECULAR QUE COMPRENDE AL MENOS UN ATOMO DE HIDROGENO ACIDICO Y F) PARTICULAS DE GEL DE SILICE QUE TIENEN UN DIAMETRO MAXIMO DE 15 {MI}M.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: AGFA-GEVAERT AG.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: KAISER-WILHELM-ALLEE ,51373 LEVERKUSEN.

Inventor/es: ELSASSER, ANDREAS, DR., DIPL.-CHEM., HAAS, RAIMUND, DR., DIPL.-ING., HULTZSCH, GUNTER, DR., DIPL.-CHEM., LEHMANN, PETER, DR., DIPL.-CHEM., NEUBAUER, RUDOLF, DR., DIPL.-CHEM., ZERTANI, RUDOLF, DR., DIPL-CHEM.

Fecha de Publicación: 1 de Febrero de 2000.

Fecha Concesión Europea: 29 de Septiembre de 1999.

Clasificación Internacional de Patentes:

B41N3/03 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41N CLICHES O PLACAS DE IMPRESION (materiales fotosensibles G03 ); MATERIALES PARA SUPERFICIES UTILIZADAS EN LA IMPRESION PARA IMPRIMIR, ENTINTAR, MOJAR O SIMILAR; PREPARACION DE TALES SUPERFICIES PARA SU EMPLEO O SU CONSERVACION. › B41N 3/00 Preparación para el empleo o la conservación de superficies de impresión. › Pretratamiento químico o eléctrico.
G03F7/022 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Quinonadiazidas (G03F 7/075 tiene prioridad).

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