LINGANDOS QUIRALES, COMPLEJOS DE METALES DE TRANSICION Y USOS DE LOS MISMOS EN REACCIONES ASIMETRICAS.

Ligando seleccionado a partir del grupo formado por compuestos con una pureza óptica de como mínimo 85% ee, representado por la fórmula A y sus enantiómeros, donde el grupo puente se selecciona a partir del grupo formado por:

(CH2), donde “n” es un número entero del 1 al 8, (CH2)nW(CH2)m, donde “n” y “m” son, independiente, números enteros del 1 al 8; y W, donde “W” es un grupo divalente seleccionado del grupo formado por: 1, 2-divalente fenil, 2, 2’-divalente 1, 1’-bifenil, 2, 2’-divalente1, 1’-binaftil, ferroceno, y un derivado sustituido del mismo; donde el sustituyente en el derivado sustituido pueden ser seleccionado del grupo formado de: arilo, alquilo con entre 1 y 8 átomos de carbono, F, Cl, Br, I, COOR, SO3R, PR3R2, OR, SR, PR2, AsR2, SbR2, ariloxilo, nitro, NR2, vinilo, vinilo sustituido y una combinación de los mismos, y cada R puede ser independientemente seleccionado del grupo formado de: hidrógeno, alquilo, arilo, alcarilo y aralquilo; donde cada X puede ser independientemente seleccionado del grupo formado de: hidrógeno, haluro, alquilo, arilo, alcoxi, silano, carboxilato y amida.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: THE PENN STATE RESEARCH FOUNDATION.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 304 OLD MAIN,UNIVERSITY PARK, PA 16802.

Inventor/es: ZHANG, XUMU, XIAO, DENGMING.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 22 de Agosto de 2000.

Fecha Concesión Europea: 9 de Noviembre de 2005.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS, CARBOCICLICOS O HETEROCICLICOS... > Compuestos que contienen elementos de los grupos... > C07F9/6568 (que tienen átomos de fósforo como únicos heteroátomos del ciclo)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares... > Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de... > C07D213/04 (no teniendo enlace entre el átomo de nitrógeno del ciclo y un miembro no cíclico o teniendo sólo átomos de hidrógeno o carbono unidos directamente al átomo de nitrógeno del ciclo)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS, CARBOCICLICOS O HETEROCICLICOS... > Compuestos que contienen elementos de los grupos... > C07F9/50 (Organofosfinas)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos... > Compuestos que tienen al menos un grupo hidroxilo... > C07C39/205 (policíclicos que sólo contienen ciclos aromáticos de seis miembros en la parte cíclica, con una insaturación distinta a la de los ciclos)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos... > Amidas de ácidos carboxílicos > C07C233/66 (con el átomo de nitrógeno de al menos uno de los grupos carboxamido unido a un átomo de carbono de un radical hidrocarbonado sustituido por átomos de halógeno o por grupos nitro o nitroso)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS, CARBOCICLICOS O HETEROCICLICOS... > Compuestos que contienen elementos de los grupos... > C07F9/58 (Ciclos piridínicos)

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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