PROCEDIMIENTO DE ANALISIS ISOTOPICO POR ESPECTROMETRIA DE EMISION OPTICA SOBRE PLASMA PRODUCIDO POR LASER.
SEGUN LA INVENCION, SE IRRADIA LA MUESTRA A ANALIZAR (10) POR UN HAZ LASER (20) PARA PRODUCIR UN PLASMA (13),
SE ANALIZA EL ESPECTRO DE LA LUZ EMITIDA POR ESTE PLASMA Y SE DEDUCE LA COMPOSICION ISOTOPICA DE LA MUESTRA. APLICACION EN EL ANALISIS ISOTOPICO EN LA INDUSTRIA NUCLEAR.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
COMPAGNIE GENERALE DES MATIERES NUCLEAIRES.
Nacionalidad solicitante: Francia.
Dirección: 31-33, RUE DE LA FEDERATION,75015 PARIS.
Inventor/es: PETIT, ALAIN, MAUCHIEN, PATRICK, PIETSCH, WALTER, BRIAND, ALAIN.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 14 de Junio de 1994.
Fecha Concesión Europea: 16 de Diciembre de 1998.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G01N21/63 FISICA. › G01 METROLOGIA; ENSAYOS. › G01N INVESTIGACION O ANALISIS DE MATERIALES POR DETERMINACION DE SUS PROPIEDADES QUIMICAS O FISICAS (procedimientos de medida, de investigación o de análisis diferentes de los ensayos inmunológicos, en los que intervienen enzimas o microorganismos C12M, C12Q). › G01N 21/00 Investigación o análisis de los materiales por la utilización de medios ópticos, es decir, utilizando rayos infrarrojos, visibles o ultravioletas (G01N 3/00 - G01N 19/00 tienen prioridad). › excitado ópticamente.
- G01N21/71 G01N 21/00 […] › excitado térmicamente.
Países PCT: Bélgica, Alemania, España, Reino Unido, Italia, Suecia, Oficina Europea de Patentes, Canadá, Japón, República de Corea, Estados Unidos de América.
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