PROCEDIMIENTO PARA OBTENER UN DETECTOR MULTIFUNCIONAL, DE MEMBRANAS IONISELECTIVAS.

SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA OBTENER UN DETECTOR MULTIFUNCIONAL,

DE MEMBRANAS IONISELECTIVAS, CUYO PROCEDIMIENTO COMPRENDE LAS SIGUIENTES FASES: A)PREPARACION DE UN PREPOLIMERO SILOXANICO, SEGUIDO DE UNA O MAS DEPOSICIONES DE PREPOLIMERO SILOXANICO SOBRE UN DISPOSITIVO DEL TIPO MOS O ISFET; B)PREPARACION DE UNA SOLUCION QUE CONTIENE UN IONOFORO, UN MONOMERO DE UNA OLEFINA POLIMERIZABLE, 2,4-TOLUENO DISOCIANATO Y UN DIALCOHOL, O UNA DIAMINA, O UN GLICOL, O UN TRIALCOHOL, O UNA TRIAMINA, CUYA PREPARACION SE SIGUE, DESPUES DE QUE DICHA SOLUCION SE HA MANTENIDO AGITADA DURANTE, AL MENOS, 48 HORAS A LA TEMPERATURA AMBIENTE, POR LA DEPOSICION DE LA MISMA SOBRE PREPOLIMERO SILOXANICO, CUYA DEPOSICION SE REALIZA POR MEDIO DE UNA CENTRIFUGADORA; C)TRATAMIENTO FOTOQUIMICO EN PRESENCIA DE UN FOTOLIMITADOR, POR MEDIO DE LUZ UV (RAYOS ULTRAVIOLETA), UTILIZANDOSE UNA MASCARA ADECUADA, QUE PERMITE LA EXPOSICION A LA LUZ DE TALES RAYOS, QUE TIENE LUGAR EN UNA PUERTA SOLAMENTE; D)LAVADO QUIMICO DEL DETECTOR, MEDIANTE UN DISOLVENTE ORGANICO; E)TRATAMIENTO TERMICO ("CURADO TERMICO"), PARA COMPLETAR LAS REACCIONES DE POLIMERIZACION; F)PREPARACION Y DEPOSICION DE OTRA SOLUCION SOBRE EL POLIMERO SILOXANICO, O DE UNA PLURALIDAD DE OTRAS SOLUCIONES, MEDIANTE LA EJECUCION EN FORMA SIMILAR QUE LA FASE ANTERIOR (B), CON SOLUCIONES QUE CONTIENEN UN IONOFORO DIFERENTE DE LOS ANTERIORES, CUYA DEPOSICION VA SEGUIDA DE LAS FASES (C), (D) Y (E), UTILIZANDOSE UNA MASCARA, QUE ES DIFERENTE DE LAS MASCARAS ANTERIORES, QUE HACE POSIBLE LA EXPOSICION A LA LUZ DE LOS RAYOS UV, PARA LLEVARSE A CABO EN UNA PUERTA DIFERENTE DE LAS ANTERIORES.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: ENIRICERCHE S.P.A..

Nacionalidad solicitante: Italia.

Dirección: CORSO VENEZIA 16, I-20121 MILAN.

Inventor/es: BATTILOTTI, MASSIMO, GIONGO, MATTEO, MAZZAMURRO, GIUSEPPINA.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 31 de Marzo de 1993.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G01N27/414 FISICA.G01 METROLOGIA; ENSAYOS.G01N INVESTIGACION O ANALISIS DE MATERIALES POR DETERMINACION DE SUS PROPIEDADES QUIMICAS O FISICAS (procedimientos de medida, de investigación o de análisis diferentes de los ensayos inmunológicos, en los que intervienen enzimas o microorganismos C12M, C12Q). › G01N 27/00 Investigación o análisis de materiales mediante el empleo de medios eléctricos, electroquímicos o magnéticos (G01N 3/00 - G01N 25/00 tienen prioridad; medida o ensayo de variables eléctricas o magnéticas o de las propiedades eléctricas o magnéticas de los materiales G01R). › Transistores de efecto de campo sensibles a los iones o a los agentes químicos, es decir ISFETS o CHEMFETS.
  • G03F7/00 G […] › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

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