10 inventos, patentes y modelos de MIYAMOTO, HISASHI

Material microbiano para reducir la contaminación de la calidad del suelo/agua, limitar la generación de gases de calentamiento y mejorar la función de la planta, y método de fabricación de producto de fermentación.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(27/03/2019). Solicitante/s: Japan Eco-Science Co. Ltd. Clasificación: C12N1/20, C12N15/00, C12P1/04.

Un método para usos agrícolas de un material microbiano, donde el material microbiano se obtiene por un método que comprende una etapa de agitación de agitar un material de partida derivado de planta y un material de partida marino derivado de animal para obtener un material de partida de fermentación; y una etapa de fermentación de someter el material de partida de fermentación obtenido por la etapa de agitación a fermentación usandomicroorganismos compuestos de 70 - 90 % en peso designados por el número de depósito PTA- 1773 y 30 - 10 % en peso designados por el número de depósito NITE BP-1051.

PDF original: ES-2735052_T3.pdf

Compuesto de quinolona.

Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia

(27/12/2017). Solicitante/s: OTSUKA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/435, A61K31/47, C07D471/04, C07D215/56.

Un compuesto representado por la fórmula (I) **(Ver fórmula)** donde X es un átomo de hidrógeno o un átomo de flúor; R es un átomo de hidrógeno o alquilo; R1 es ciclopropilo sustituido opcionalmente por 1 a 3 átomos de halógeno o fenilo sustituido opcionalmente por 1 a 3 átomos de halógeno; R2 es un átomo de hidrógeno; alquilo sustituido opcionalmente por 1 o 2 sustituyentes seleccionados del grupo que consiste en un átomo de halógeno e hidroxilo; alcoxi; haloalcoxi; un átomo de halógeno; ciano; ciclopropilo; nitro; amino; formilo; alquenilo o alquinilo; o R1 y R2 se unen para formar un anillo de 5 o 6 miembros sustituido opcionalmente por alquilo; R3 es un grupo heterocíclico condensado de la fórmula **(Ver fórmula)** .

PDF original: ES-2660973_T3.pdf

PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCIÓN DE CILOSTAZOL.

(09/05/2011) Un proceso para la producción de cilostazol representado por la siguiente fórmula general [I]: el cual comprende hacer reaccionar un derivado del carboestirilo representado por la siguiente fórmula general [II]: con un derivado del tetrazol representado por la siguiente fórmula general [III]:en donde X representa un átomo halógeno, en presencia de un compuesto básico inorgánico, en donde es usada agua en una cantidad de 3 a 7 veces en peso a la del derivado del carboestirilo [II], y el compuesto básico inorgánico es usado en una cantidad de 1 a 6 moles por mol del derivado del carboestirilo [II], y en donde dicho compuesto básico inorgánico es seleccionado de entre el grupo consistente en bases inorgánicas de hidróxido sódico,…

INTERMEDIARIOS PARA LA PREPARACION DE COMPUESTOS BENZOHETEROCICLICOS.

(01/10/2002) LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN COMPUESTO SELECCIONADO DEL GRUPO FORMADO POR LOS COMPUESTOS CON LAS FORMULAS SIGUIENTES: DONDE R SUP,1} ES UN GRUPO CICLOPROPILO QUE PUEDE ESTAR SUSTITUIDO POR 1 A 3 SUSTITUYENTES SELECCIONADOS DEL GRUPO FORMADO POR UN GRUPO ALQUILO INFERIOR Y UN ATOMO DE HALOGENO, UN GRUPO FENILO QUE PUEDE ESTAR SUSTITUIDO POR 1 A 3 SUSTITUYENTES SELECCIONADOS DEL GRUPO FORMADO POR UN GRUPO ALCOXI INFERIOR, UN ATOMO DE HALOGENO Y UN GRUPO HIDROXI SOBRE ANILLO FENILO, UN GRUPO ALQUILO INFERIOR QUE PUEDE ESTAR SUSTITUIDO POR UN ATOMO DE HALOGENO, UN GRUPO ALCANOILOXI INFERIOR O UN GRUPO HIDROXI, UN GRUPO ALQUENILO INFERIOR O UN GRUPO TIENILO; R SUP,2 } ES UN ATOMO DE HALOGENO O UN GRUPO HETEROCICLICO SATURADO O INSATURADO DE 5 A 9 MIEMBROS QUE PUEDE ESTAR SUSTITUIDO; R SUP,3} ES UN ATOMO DE HIDROGENO, UN GRUPO ALQUILO…

COMPUESTOS BENZOHETEROCICLICOS.

Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia

(16/02/2001). Solicitante/s: OTSUKA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/47, C07D409/04, C07D405/12, A61K31/535, C07D401/04, C07D498/06, C07D413/04, C07D215/56.

NUEVOS COMPUESTOS DE ACIDO 4 ILICO DE FORMULA: EN DONDE R1 ES CICLOPROPILO, EL CUAL PUEDE TENER DE 1 A 3 SUSTITUYENTES DE ALQUILO O HALOGENO; FENILO, EL CUAL PUEDE ESTAR SUSTITUIDO POR DE 1 A 3 SUSTITUYENTES ENTRE ALCOHOXILO, HALOGENO Y OH; ALQUILO, EL CUAL PUEDE SER SUSTITUIDO POR HALOGENO, ALCANOILOXILO Y OH; O TIENILO. R2 ES ANILLO HETEROCICLICO SATURADO O NO SATURADO DE 5 A 9 MIEMBROS, EL CUAL PUEDE ESTAR SUSTITUIDO. R3 ES H, ALQUILO O HALOGENO. R4 ES ALQUILO O HALOGENO, R ES H O ALQUILO, R1 Y R2 PUEDEN ESTAR UNIDOS FORMANDO EN DONDE R31 ES H O ALQUILO, Y X ES HALOGENO, CON TAL QUE R3 Y R4 NO SEAN SIMULTANEAMENTE HALOGENOS, Y QUE CUANDO R3 ES H, R4 ES ALQUILO, O SALES DE EL, TENIENDO DICHO COMPUESTO EXCELENTE ACTIVIDAD ANTI COMO AGENTE ANTI CONTENIENDO DICHO COMPUESTO COMO UN INGREDIENTE ACTIVO.

DERIVADOS DE CARBOSTIRILO Y COMPUESTOS FARMACEUTICOS QUE LO CONTIENEN.

(16/06/1997) NUEVOS DERIVADOS DEL CARBOSTIRILO DE LA FORMULA: DONDE X ES O O S; Y ES H O ALCALI; R ELEVADO A ES UN GRUPO DE: (DONDE N ES 1 O 2, A ES UN ALCALINO, R ELEVADO 1 ES BENZOILO PROVISTO DE 1-3 SUSTITUTOS OPCIONALES, R ELEVADO 2A ES: (R ELEVADO 3A ES (I) ALKOXI, (II) UN GRUPO HETEROCICLICO DE 5 O 6 MIEMBROS SUSTITUIDO O NO, (III) ALKENILTIO, (IV) PIRROLIDINILO-ALCALI-S- , (V) PIRROLIDINILO-ALCALI-SO- , (VI) PIRROLIDINILO-ALCALI-SO SUB 2-, (VII) -O-B-NR ELEVADO 4 R ELEVADO 5 (B ES UN ALCALINO PROVISTO OPCIONALMENTE DE OH, R ELEVADO 4 ES H, R ELEVADO 5 ES TRICICLO DECANILO, TRICICLO DECANILO-ALKIL, ETC., O R ELEVADO 4 Y R ELEVADO 5 PUEDEN FORMAR CONJUNTAMENTE UN GRUPO DE: (R ELEVADO 6 ES UNA AMINA SUSTITUIDA O NO) O (VIII) UN ALKOXI SUSTITUIDO; M ES 1 O 3), QUE TIENE EXCELENTES ACTIVIDADES…

COMPUESTOS BENZOHETEROCICLICOS.

Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia

(01/11/1996). Solicitante/s: OTSUKA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/47, A61K31/535, C07D401/04, C07D498/04, C07D413/04, C07D215/56.

NUEVOS COMPUESTOS DE ACIDO 4-OXOQUINOLEIN-3-CARBOXILICO DE FORMULA (I) EN LA QUE R1 ES CICLOPROPILO QUE PUEDE TENER DE 1 A 3 SUSTITUYENTES DE ALQUILO Y HALOGENO; FENILO QUE PUEDE ESTAR SUSTIUIDO POR 1 A 3 SUSTITUYENTES ALCOXI, HALOGENO Y OH; ALQUILO QUE PUEDE ESTAR SUSTITUIDO POR HALOGENO, ALCANOILOXI O OH; ALQUENILO O TIENILO, R2 ES UN ANILLO HETERICICLICO SATURADO O INSATURADO DE 5 A 9 MIEMBROS QUE PUEDE STAR SUSTITUIDO; R3 ES H, ALQUILO O HALOGENO, R4 ES ALQUILO O HALOGENO, R ES H O ALQUILO, R1 Y R3 JUNTOS PUEDEN FORMAR UN GRUPO (II), EN AL QUE R 31 ES H O ALQUILO Y X ES HALOGENO; CON LA CONDICION DE QUE R3 Y R4 NO SEAN SIMULTANEAMENTE HALOGENO Y QUE CUANDO R3 SEA H, R4 SEA ALQUILO. TAMBIEN SE REFIERE LA INVENCION A SALES DE DICHOS COPUESTOS LOS CUALES TIENEN EXCELENTE ACTIVIDAD ANTIMICROBIANA POR LO QUE SON UTILES COMO AGENTES ANTIMICROBIANOS Y A UNA COMPOSICION FARMACEUTICA QUE CONTIENE DICHOS COMPUESTOS COMO INGREDIENTE ACTIVO.

COMPUESTOS BENZOHETEROCICLICOS.

Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia

(16/10/1994). Solicitante/s: OTSUKA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/47, C07D401/04, C07D215/38.

NUEVOS COMPUESTOS 3 - FORMIL - 4 - OXOQUINOLINA DE FORMULA (I) DONDE R' ES UN ATOMO DE HIDROGENO O UN ALCANOILICO REBAJADO, R2 ES UN ATOMO DE HIDROGENO O UN ALQUILICO REBAJADO, R3 ES UN ALQUILICO REBAJADO Y X ES UN HALOGENO Y SALES ACEPTADAS FARMACEUTICAMENTE DEL MISMO, DICHOS COMPONENTES TIENEN UNA EXCELENTE ACTIVIDAD ANTIMICROBIAL Y UNA COMPOSICION FARMACEUTICA QUE CONTIENE DICHO COMPONENTE COMO INGREDIENTE ACTIVO.

DERIVADOS DE CARBOESTIRILO.

(01/10/1994) NUEVOS DERIVADOS DE CARBOESTIRILO DE LA FORMULA: EN DONDE: H,NO2,ALCOXILO,ALCOXICARBONILO ,ALQUILO,HALOGENO,AMINO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO,OH,CN,COOH ,ALCANOILOXI,HIDRACINOCARBONILO;Q ES DE 1 A 3, Y R ES UN GRUPO DE LA FORMULA: [EN DONDE R2 ES H,ALCOXICARBONILO,FENOXICARBONILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO,FENILALQUENILO-CO- , FENILALCANOIL OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, ALCANOIL, ALQUENILO-CO-, FENILO-SO2- OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, -CONR8R9, GRUPO -CO- HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, NAFTILO-CO-, TIENILOALCANOIL, TRICICLO[3.3.1.1] ALCANOIL, (R13 ES OH, ALCOXILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, -NR32R33,-O-A-(E)L-NR4R5 ,-(B)L-NR6R7,ETC.), N ES 1 O 2, M ES 0 O DE 1 A 3, R3 ES ALQUILO, R10 ES -(CO)L-NR11R12], Y EL ENLACE DEL…

UN PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE NUEVOS DERIVADOS DEL ACIDO 4-OXOQUINOLIN-3-CARBOXILICO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/12/1988). Ver ilustración. Solicitante/s: OTSUKA PHARMACEUTICAL COMPANY, LIMITED. Clasificación: C07D413/06.

LOS COMPUESTOS DE FORMULA (I) EN QUE R1, RY, R3 Y X REPRESENTAN VARIOS RADICALES SE OBTIENEN POR LOS SIGUIENTES PROCEDIMIENTOS; CICLACION DE LOS COMPUESTOS (II), (III) Y (IV) EN QUE R1, RY, RY, R3, R3, R5, RY4, RY6, RY7, X Y XY REPRESENTAN VARIOS RADICALES; REACCION DEL COMPUESTO (V) EN QUE R1, R3, X, Z Y W REPRESENTAN VARIOS RADICALES Y N=1, 2 O 3, CON COMPUESTOS DE FORMULAS R16X5, R17COR8 Y EN QUE R8, R16, R17, RY3, X5 Y X8 REPRESENTAN VARIOS RADICALES; REACCION DEL COMPUESTO (VI) EN QUE R1, R3, R13, X4 Y X REPRESENTAN VARIOS RADICALES CON RYH; Y OPCIONALMENTE, HIDROLISIS, SALIFICACION O TRANSFORMACION DE CIERTOS RADICALES.LOS COMPUESTOS (I) SON UTILES COMO AGENTES ANTIMICROBIANOS.

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