7 inventos, patentes y modelos de HENRICH, JURGEN

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/04/2009). Ver ilustración. Solicitante/s: APPLIED FILMS GMBH & CO. KG. Clasificación: C23C14/56.

Disposición de esclusa para una instalación de tratamiento al vacío con cámaras de esclusa (EK1, EK2) y con un primer dispositivo de bombeo (P1) para evacuar bombeando una primera cámara de esclusa, así como con un segundo dispositivo de bombeo (P2, P3) para evacuar bombeando una segunda cámara de esclusa, caracterizada porque la disposición de esclusa está prevista para una instalación de recubrimiento de paso continuo, con al menos dos cámaras de esclusa (EK1, EK2) dispuestas una detrás de otra para realizar un procedimiento de esclusa de dos o varias etapas, estando conectado el primer dispositivo de bombeo (P1) tanto con la primera (EK1) como con la segunda (EK2) cámara de esclusa, a través de conductos que pueden cerrarse, de modo que el primer dispositivo de bombeo pueda evacuar o bien la primera o la segunda o las dos cámaras de esclusa juntas.

Sección de la CIP Física

(01/07/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: APPLIED FILMS GMBH & CO. KG. Clasificación: G01M3/32.

Dispositivo para la determinación de la permeabilidad de un recipiente a los gases, con el volumen V1, con una envoltura para este recipiente , donde la envoltura presenta el volumen V2 y donde para la proporción entre los volúmenes del recipiente y de la envoltura se aplica la relación V2 - V V1 < V1, un dispositivo medidor de presión que mide la presión del gas en el espacio entre la envoltura y el recipiente , un dispositivo para generar una sobrepresión en el recipiente con respecto a la presión en el espacio entre la envoltura y el recipiente , donde la presión en el espacio al principio de la determinación de la permeabilidad a los gases es presión atmosférica, y un dispositivo que, a partir del tiempo en que se desarrolla la presión medida, calcula la permeabilidad total del recipiente a los gases.

Secciones de la CIP Electricidad Química y metalurgia

(16/06/2004). Solicitante/s: APPLIED FILMS GMBH & CO. KG. Clasificación: H01J37/32, C23C14/32.

Disposición de electrodos para el recubrimiento con un plasma de un substrato con una capa de material, que comprende al menos un primer y un segundo componente del material, al mismo tiempo, que para generar una descarga de plasma, en especial una descarga de arco, se prevén una disposición de ánodo, que suministra el primer componente del material en un superficie de material de ánodo para su vaporización y una disposición de cátodo, que suministra el segundo componente de material en una superficie del material de cátodo, caracterizada porque la superficie del material de cátodo está formada por una parte con actividad de vaporización, que sustenta la descarga de plasma, y por una parte sin actividad de vaporización, que no sustenta la descarga de plasma.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/09/2001). Ver ilustración. Solicitante/s: LEYBOLD SYSTEMS GMBH. Clasificación: C23C14/56.

EN UNA INSTALACION DE TRATAMIENTO AL VACIO PARA APLICAR CAPAS FINAS SOBRE SUSTRATOS , POR EJEMPLO EN REFLECTORES DE FAROS, QUE COMPRENDE VARIAS ESTACIONES DE TRATAMIENTO Y/O DE ESCLUSADO DE ENTRADA/SALIDA UNIDAS A UNA PARED FIJA DE LA CAMARA DE VACIO, ASI COMO UN CILINDRO INTERIOR QUE SOPORTA LAS CAMARAS DE SUSTRATO DE FORMA GIRATORIA Y RODEADO POR LA PARED DE LA CAMARA DE VACIO, SE HAN DISPUESTO EN LA PARED FIJA DE LA CAMARA DE VACIO UNOS ORIFICIOS QUE PUEDEN HACERSE COINCIDIR CON LAS CAMARAS DE SUSTRATO Y A TRAVES DE LOS CUALES SE PUEDEN APLICAR LAS SUSTANCIAS DE TRATAMIENTO DE LOS SUSTRATOS , ASI COMO ABRIRSE Y CERRARSE. UNA DE LAS CAMARAS DE SUSTRATO, AL MENOS LA CAMARA DE ESCLUSA , PRESENTA UNA TAPA O COMPUERTA QUE PERMITE EL ACCESO DIRECTO A LA CORRESPONDIENTE CAMARA DE SUSTRATO, PUDIENDOSE DESPLAZAR (A,B) LA CAMARA HACIA EL CILINDRO INTERIOR Y PRESIONARSE CONTRA LA PARED EXTERIOR DEL CILINDRO O LA SUPERFICIE FRONTAL EN FORMA DE MARCO DE LA CAMARA DE SUSTRATO.