(16/05/2004). Solicitante/s: KOMMERCIAL BANK ALBA ALLIANCE. Inventor/es: BALAGUROV, ALEXEI YAKOVLEVICH, IVANOV, VLADIMIR VALENTINOVICH, INKIN, VITALY NIKOLAEVICH, PUTILIN, ANDREI NIKOLAEVITCH, SELISCHEV, SERGEI VASILIEVICH, UKHANOV, SERGEI IVANOVICH.

LA INVENCION SE REFIERE, EN ESENCIA, A SEIS VARIANTES DE PROTECCION DE ARTICULOS FABRICADOS CON METALES PRECIOSOS FRENTE A IMITACIONES, POR MEDIO DE UNA MARCA INFORMATIVA APLICADA AL ARTICULO. EN LAS VARIANTES 1 Y 2, SE UTILIZA EL METODO DE FOTOLITOGRAFIA PARA APLICAR UNA MARCA A LA SUPERFICIE DE UN ARTICULO CON LA IMAGEN DE LA MARCA FORMADA A PARTIR DE UNA PELICULA DE UNA SUSTANCIA ADAMANTINA AMORFA. LA VARIANTE 3 SUPONE APLICAR LA MARCA A LA SUPERFICIE DEL ARTICULO COMO UNA COMBINACION DE MACRORRELIEVE Y MICRORRELIEVE HOLOGRAFICO. LA VARIANTE 4 SUPONE APLICAR LA MARCA A LA SUPERFICIE COMO UN HOLOGRAMA CODIFICADO, MIENTRAS QUE, EN LAS VARIANTES 5 Y 6, EL MICRORRELIEVE DE LA MARCA QUEDA CUBIERTO CON UNA SUSTANCIA ADAMANTINA AMORFA.

(01/04/2004). Solicitante/s: TOYO GOSEI KOGYO CO., LTD. Inventor/es: WATANABE, MASAHARU-PHOTO. MATERIALS RESEARCH LAB, TOCHIZAWA, NORIAKI-PHOTOSENSITIVE MATERIAL RES.LAB, IMAMURA, YUKARI-PHOTOSENSITIVE MATERIALS RES. LAB., KIKUCHI, HIDEO-PHOTOSENSITIVE MATERIALS RES. LAB.

COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES PREPARADAS SIN USO DE UN COMPUESTO DE CROMO. LAS COMPOSICIONES PRESENTAN UNA ALTA RESOLUCION Y SENSIBILIDAD SATISFACTORIA Y NO CAUSAN CONTAMINACION MEDIOAMBIENTAL. LAS COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES CONTIENEN UN COMPUESTO DE AZIDA HIDROSOLUBLE, QUE SIRVE COMO UN AGENTE DE FOTOENLACE CRUZADO Y POLI(N-VINILFORMANIDA) QUE ES FOTOENLAZABLE DE MANERA CRUZADA EN LA PRESENCIA DEL COMPUESTO DE AZIDA HIDROSOLUBLE.

(16/07/2003). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: SIMMROCK, HANS-ULRICH, FRANKE, HILMAR, WEIDENHAMMER, PETRA.

Procedimiento para la configuración decorativa de una capa de recubrimiento sobre substratos seleccionados del grupo constituido por elementos para fachadas, muebles, carcasas de aparatos, electrodomésticos, artículos deportivos, carrocerías de automóviles y sus componentes, vehículos y piezas de vehículos, caracterizado porque se aplica un agente de recubrimiento curable sobre la superficie del substrato a decorar y porque se estampan una o varias matrices de estampación en la zona o zonas a decorar de la capa de recubrimiento no curada, presentando estas matrices una cara con un relieve caracterizado por una amplitud máxima de 100 a 20.000 nm, donde como mínimo las áreas cubiertas por la matriz o matrices de estampación son después al menos parcialmente curadas, retirándose a continuación la matriz o matrices de estampación, y en caso de que existan zonas de la capa de recubrimiento sin curar, éstas se curan completamente.

(01/01/2000). Solicitante/s: PPG INDUSTRIES OHIO, INC.. Inventor/es: MCCOLLUM, GREGORY, J., RARDON, DANIEL, E., KOLLAH, RAPHAEL, O., MCMURDIE, NEIL, D., KAHLE, CHARLES, F., II.

SE SINTETIZAN COMPUESTOS FOTORREACTIVOS POSITIVOS, A PARTIR DE GRUPOS 2,5- O 2,6-DINITROBENCILO. ASIMISMO, SE DESCRIBEN METODOS DE SINTESIS DE MONOMEROS REACTIVOS, QUE CONTIENEN GRUPOS 2,5- O 2,6-DINITROBENCILO.

(01/03/1998). Solicitante/s: APPLETON PAPERS INC.. Inventor/es: MILLER, ROBERT, E., SCHLEICHER, LOWELL, BROWN, ROBERT W., FELDMAN, LUCY.

UN MATERIAL DE REGISTRO COMPRENDE UN SUSTRATO SOPORTE DE MICROCAPSULAS CON PAREDES NO FUNDIBLES. LAS MICROCAPSULAS CONTIENEN UN CROMOGENO O REVELADOR Y UNA COMPOSICION FOTOSENSITIVA QUE EXPERIMENTA EN VISCOSIDAD AL EXPONERSE A RADIACION ACTINICA. LAS PAREDES DE LAS MICROCAPSULAS TIENEN UNA EXTENSION DE NO MAS DEL 1%, Y EL MATERIAL DE REGISTRO ES RESISTENTE AL CALOR, MEDIDO PARA NO PRODUCIR CUALQUIER COLOR SUSTANCIAL CUANDO SE COLOCA EN UN HORNO A 150 C POR UN MINUTO. SORPRENDENTEMENTE, EL MATERIAL ES CAPAZ DE FORMAR UN COLOR AL APLICARLE UN PUNTO DE FUENTE DE ENERGIA QUE COMPRENDE UN T DE AL MENOS 115 C POR UN MILISEGUNDO. EL MATERIAL PUEDE DESENSIBILIZARSE, EJM. HACIENDOLE NO SUSCEPTIBLE A FUTUROS REGISTROS, AL EXPONERLO A RADIACION ACTINICA.

(01/01/1998). Solicitante/s: APPLETON PAPERS INC.. Inventor/es: MILLER, ROBERT, E., SCHLEICHER, LOWELL, BROWN, ROBERT W., FELDMAN, LUCY.

UNA LAMINA RECEPTORA DE IMAGEN LATENTE COMPRENDE UNAS MICROPARTICULAS SOPORTE DE SUSTRATOS CON PAREDES DE UN POLIMERO NO FUNDIBLE QUE ES UNA RESINA AMINOPLASTA TERMOREGULABLE. LAS PAREDES TIENEN UNA EXTENSION MENOR DEL 1%, Y LA LAMINA Y MICROCAPSULAS SON RESISTENTES AL CALOR. SORPRENDENTEMENTE, LAS CAPSULAS SE ROMPE NO OBSTANTE AL APLICAR AL MATERIAL DE REGISTRO DE UN IMPULSO O ENTRADA SUMINISTRADORA DE ENERGIA COMPRENDE UN T DE AL MENOS 115 C POR UN MILISEGUNDO.LA LAMINA RECEPTORA DE IMAGEN LATENTE PUEDE SER UNA LAMINA TRANSMISORA DE TINTA O UN PLATO DE IMPRESION, UNA LAMINA DE GRABADO, RECEPTORA DE MENSAJES CRIPTICOS O DE IMAGENES.

(01/12/1997). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN VITRAGE VEGLA VEREINIGTE GLASWERKE GMBH VOLKSWAGEN AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: WINDELN, WILBERT, BEECK, MANFRED-ANDREAS, BARTONITSCHECK, NORBERT.

UN ESPEJO HOLOGRAFICO SE CONFECCIONA SEGUN UN METODO DE ESPOSICION CONTINUA. PARA ELLO, LA CAPA FOTOSENSIBLE SE EXPONE BANDA A BANDA EN EL SENTIDO TRANSVERSAL A UN HAZ DE RAYOS LASER BAJO UN ANGULO DE INCIDENCIA (ALFA) PREDEFINIDO. LA PELICULA , QUE LLEVA LA CAPA FOTOSENSIBLE , SE DESPLAZA CONTINUAMENTE EN SENTIDO LONGITUDINAL (F) A UNA VELOCIDAD QUE ASEGURA LA EXPOSICION SUFICIENTE DE LA CAPA. EL METODO PERMITE LA CONFECCION DE HOLOGRAMAS SIN IMPORTAR QUE EXTENSION A LO LARGO EN UNA DIRECCION.

(01/07/1997). Solicitante/s: DU PONT LIMITED. Inventor/es: MATTHEWS, ANDREW ERNEST, GATES, ALLEN PETER, GARDNER, ALASTAIR LAMONT, OBUCHOWICZ, JACEK PAUL.

SE DESCRIBE UN METODO DE FORMACION DE IMAGENES QUE COMPRENDE: A) PROPORCIONAR UNA PLACA SENSIBLE A LA RADIACION QUE COMPRENDE UN SUSTRATO Y UN REVESTIMIENTO QUE CONTIENE UNA FASE DISPERSA ABLANDABLE POR CALOR, UNA FASE CONTINUA DILATABLE O SOLUBLE EN AGUA Y UNA SUSTANCIA PARA ABSORCION DE RADIACIONES, B) LA IMAGEN-SENSIBLE EXPONE LA PLACA A AL MENOS LA FUSION PARCIAL DE LAS PARTICULAS DE LA FASE DISPERSA EN LAS AREAS DE IMAGEN, C) DESARROLLAR LA PLACA EXPUESTA POR LA IMAGEN-SENSIBLE PARA ELIMINAR EL REVESTIMIENTO DE LAS AREAS NO EXPUESTAS, Y D) CALENTAR LA PLACA DESARROLLADA O SOMETIDA A IRRADIACION PARA EFECTUAR LA INSOLUBILIZACION DE LA IMAGEN. SE OBTIENEN ASI IMAGENES DE GRAN CALIDAD Y ALTA DURACION.

(16/10/1996). Solicitante/s: UNIVERSIDAD DE ALICANTE. Inventor/es: FIMIA GIL, ANTONIO, CARRETERO LOPEZ, LUIS, BELENDEZ VAZQUEZ, AUGUSTO, PHILLIPS, NICHOLAS.

NUEVA COMPOSICION REVELADORA PARA HOLOGRAFIA Y FOTOLITOGRAFIA. LA COMPOSICION ES UNA MEZCLA EN DISOLUCION QUE COMPRENDE ACIDO ASCORBICO, 2-AMINO-4-CLOROFENOL , FENIDONA O ACIDO PIROGALICO, UNA SUSTANCIA FIJADORA DEL PH Y, OPCIONALMENTE, UREA. LAS CONCENTRACIONES PREFERIDAS DE DICHOS COMPONENTES SON LAS SIGUIENTES: 4-30 G/L DE ACIDO ASCORBICO, 95-5 G/L DE 2-AMINO-4-CLOROFENOL , 0-5 G/L DE FENIDONA, 0-30 G/L DE ACIDO PIROGALICO Y 0-150 G/L DE UREA. TIENE APLICACION INDUSTRIAL EN LAS TECNICAS DE HOLOGRAFIA Y FOTOLITOGRAFIA.

(16/04/1996). Solicitante/s: ASAHI GLASS COMPANY LTD.. Inventor/es: WATANABE, NAOHIRO, ASANO, TERUO, JINUSHI, KAZUKI, SAMEJIMA, SHUNICHI.

LA INVENCION SE REFIERE A UN DISOLVENTE QUE CONSISTE ESENCIALMENTE EN UN COMPUESTO DE FORMULA CHACLBFCCF2CHXCLYFZ, DONDE A + B + C = 3, X + Y + Z = 3, A + X >= 1, B + Y >=1 Y EN QUE A, B, C, X, Y, Z ESTAN COMPRENDIDOS ENTRE 0 Y 3.

(16/03/1996). Solicitante/s: HUGHES AIRCRAFT COMPANY. Inventor/es: YU, KEVIN, YIN, KHIN S., MULDER, JERRY L.

SE DESCRIBEN PELICULAS FOTOSENSIBLES QUE ESTAN PROTEGIDAS POR MATERIALES BARRERA ADECUADOS . LAS BARRERAS PROTECTORAS FORMAN UNA PELICULA EN, AL MENOS, UNA SUPERFICIE DE UNA CAPA DE MATERIAL FOTOSENSIBLE Y LAS BARRERAS PROTECTORAS SON MATERIALES SOLUBLES EN AGUA QUE TIENEN UN INDICE DE REFRACCION SIMILAR AL INDICE DE REFRACCION DE LA PELICULA DE GRABACION . LAS PELICULAS DE GRABACION FOTOSENSIBLES PROTEGIDAS SON UTILES PARA LA GRABACION DE HOLOGRAMAS DE ALTO RENDIMIENTO EN FOTOPOLIMEROS EN PRESENCIA DE ACEITES DE INMERSION DE ADAPTACION DE REFERENCIA.

(16/12/1995). Solicitante/s: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY. Inventor/es: PALAZZOTTO, MICHAEL C., BROWN.

UN COMPUESTO POLIMERIZABLE POR ENERGIA QUE ESTA FORMADO POR AL MENOS UN MONOMERO ETILENICAMENTE INSATURADO, UN PRECURSOR DEL POLIURETANO Y AL MENOS UN MONOMERO EPOXI, ASI COMO POR UN AGENTE DE CURACION COMPUESTO POR UN COMPUESTO ORGANOMETALICO Y UNA SAL DE ONIUM.

(16/11/1994). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: JOHNSTONE, ROBERT, ALEXANDER, WALKER, WADE, JOHN ROBERT.

UN COMPONENTE POLIMERICO ES DERIVADO DE UN MATERIAL POLIHIDRICO Y TIENE GRUPOS SULFONADOS PENDIENTES DE LA FORMULA GENERAL: DONDE X ES UN ALIFATICO, AROMATICO, CARBOCILICO O GRUPO HETEROCICLICO; Y ES HIDROGENO, HALOGENO O UN ALQUILICO, ARIL, ALCOXI, ARILOXI O GRUPO ARALQUILICO, CO2-Z+, CO2R O SO3-Z+; Z+ ES UN ION CONTRA CATIONICO Y R ES HIDROGENO, ALQUILICO, ALQUILENO, ARIL O GRUPO ARALQUILICO.

(16/10/1994). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: COOPER, GRAHAM PHILIP, JONES, REGINALD THOMAS.

SE PROPORCIONA UNA PLACA SENSIBLE A LA RADIACION CON UNA CAPA DE PROTECCION DISCONTINUA PARA MEJORAR EL RETROCESO DE LA CAIDA DE VACIO. LA CAPA DE PROTECCION SE PRODUCE DISOLVIENDO EL MATERIAL PARA FORMAR LA CAPA DE PROTECCION EN UN DISOLVENTE, PARA FORMAR UNA DISOLUCION QUE TIENE UNA CONDUCTIVIDAD DE 103-109 PSM-1. LA DISOLUCION SE DIRIGE LUEGO A LA PLACA AL TIEMPO QUE SE APLICA UN POTENCIAL DE 5 KV POR LO MENOS ENTRE LA DISOLUCION Y LA PLACA. EL POTENCIAL ES LA UNICA FUENTE DISRUPTIVA EN EL LIQUIDO Y ARRASTRA EL LIQUIDO A LOS LIGAMENTOS Y ROMPE LOS LIGAMENTOS PARA FORMAR GOTAS DE TAMAÑO PRACTICAMENTE IGUAL, QUE SE DEPOSITAN LUEGO EN LA PLACA.

(16/08/1994). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Inventor/es: HUSLER, RINALDO, DIETLIKER, KURT, REMBOLD, MANFRED, DESOBRY, VINCENT, SITEK, FRANCISZEK, DR., RUTSCH, WERNER, DR.

COMPUESTOS DE FORMULA I, II, III Y IIIA DONDE AR1 SIGNIFICA UN RESTO AROMATICO NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO Y AL MENOS UNO DE LOS RESTOS R1 Y R2 SON UN GRUPO ALQUENILO, CICLOALQUENILO O ARILMETILO, SON FOTOINICIADORES PARA LA POLIMERIZACION DE COMPUESTOS NO SATURADOS. SON ADECUADOS EN ESPECIAL PARA EL FOTOENURECIMIENTO DE SISTEMAS PIGMENTADOS.

(01/04/1993). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY (A DELAWARE CORPORATION). Inventor/es: KOLODZIEJCZYK, VICTOR, WHITE, NICHOLAS JOHN.

UN COMPUESTO SENSIBLE A LA RADIACION ES UN TRIMERO DE FORMULA: (FIG. A) O TIENE LA FORMULA: (FIG. B), DONDE R1 Y R2 SON ALQUILO, ARILO, X, CHX2, CH2X, CX3 O NHR3, DONDE R3 ES HIDROGENO, ALQUILO INFERIOR, ARILO, O=C-A2; R4 ES NCO O R2, PREVIENDO QUE R3 NO ES O=CA2 Y PREVIENDO QUE POR LO MENOS UNO DE R1 Y R2 ES CX3; X ES HALOGENO Y A1 Y A2 SON CADA UNO RESIDUOS DE A1H Y A2H RESPECTIVAMENTE, DONDE A1H Y A2H SON CADA UNO UN COMPUESTO QUE CONTIENE POR LO MENOS UN GRUPO QUE TIENE UN ATOMO DE HIDROGENO ACTIVO. LOS COMPUESTOS SON UTILES COMO INICIADORES E INDICADORES DE CAMBIO DE COLOR EN COMPOSICIONES SENSIBLES A LA RADIACION PARA PRODUCCION DE PLACAS DE IMPRESION LITOGRAFICA.

(01/08/1992). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: NEUMANN, PETER, WALLBILLICH, GUENTER, DR.

ELEMENTOS DE REGISTRO FOTOSENSIBLES CON UNA CAPA DE REGISTRO FOTOSENSIBLE RMEDIAS EE UNAS BUENAS CUALIDADES FOTOGRAFICAS Y UNA ALTA RESISTENCIA AL ALMACENADO, CONTIENEN PARA EL CONTROL DE LAS PROPIEDADES FOTOQUIMICAS, EN LA CAPA DE REGISTRO SENSIBLE A LA LUZ Y/O EN, DADO EL CASO, LA CAPA INTERMEDIA EXISTENTE, UN COMPUESTO DE FORMULA (I) DONDE EQUIVALEN M A UN ATOMO DE HIDROGENO O PROTON, A UN CATION DE UN METAL ALCALINO, AL CATION AMONIO O A UN CATION AMINO, Y R1,R2 IGUALES O DIFERENTES, RESPECTIVAMENTE A UN ANILLO DE S TRIACINA SUSTITUIDO.

(16/07/1991). Solicitante/s: AMOCO CORPORATION. Inventor/es: WERTH, DENNIS LEONARD, REDDY, VIRUPAKSHA KAMMALATHINNA.

TRATAMIENTO DE RAYOS LASER DE PIEZAS DE PLASTICO MOLDEADO, EFICAZ PARA LA ELIMINACION DE PARTICULAS CONTAMINADAS CON AGENTES DESGARNADORES DEL MOLDE, PARA UNA MEJOR ADHESION DE LA PINTURA Y PARA LA ELIMINACION DEL MATERIAL DE PLASTICO ADICIONAL ASI COMO SE REQUIERE TAMBIEN PARA UNA MEJOR UNION A OTRAS SUPERFICIES DE PLASTICO TRATADAS.

(16/03/1985). Solicitante/s: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UNA FORMA DE IMPRESION O PLANTILLA FOTORRESISTENTE.COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE APLICA A UN SOPORTE UNA SOLUCION DE UNA MEZCLA FOTOSENSIBLE QUE CONTIENE UN COMPUESTO FOTOSENSIBLE O UNA COMBINACION FOTOSENSIBLE DE COMPUESTOS Y UN POLIVINIL-FENOL HALOGENADO; SEGUNDA, SE SECA LA SOLUCION A UNA TEMPERATURA COMPRENDIDA ENTRE 50 Y 150 GRADOS, PARA FORMAR UNA CAPA FINA Y UNIFORME FOTOSENSIBLE; TERCERA, SE SOMETE EL MATERIAL FOTOSENSIBLE A RADIACION ACTINICA CON LA IMAGEN; CUARTA, SE ELIMINAN LOS SECTORES NO EXPUESTOS CON UNA SOLUCION ACUOSA-ALCALINA; Y POR ULTIMO, SE CALIENTA LA PLANTILLA DE IMAGEN A UNA TEMPERATURA COMPRENDIDA ENTRE 180 Y 240 GRADOS, AL OBJETO DE ENDURECERLA.

(01/01/1985). Solicitante/s: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT.

PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE UNA PLANCHA DE IMPRESION PLANA.COMPRENDE: A) APLICAR A UN SOPORTE DE CAPAS LITOGRAFICO UNA SOLUCION DE UNA MEZCLA FOTOSENSIBLE CONSTITUIDA POR UN LIGANTE RESINOSO POLIMERICO INSOLUBLE EN AGUA PERO SOLUBLE EN SOLUCIONES ACUOSAS ALCALINAS Y UN COMPONENTE FOTOSENSIBLE COMO O- Y P-QUINONDIAZIDAS, PRODUCTOS DE POLICONDENSACION DE UNA SAL DE DIAZONIO Y OTROS; B) SECAR LA SOLUCION HASTA UNA CAPA FINA Y UNIFORMEMENTE FOTOSENSIBLE; C) EXPONER EL MATERIAL DE COPIA DE LA ETAPA (B) CON LA IMAGEN MEDIANTE LUZ ACTINICA; D) ELIMINAR LAS ZONAS SIN IMAGEN MEDIANTE UNA SOLUCION REVELADORA ACUOSO-ALCALINA QUE CONTIENE SILICATO SODICO, FOSFATO SODICO O UN HIDROXIDO ALCALINO Y UN PH ENTRE 10 Y 14; Y D) CALENTAR LA PLACA DE IMPRESION OBTENIDA Y REVELADA DURANTE 1 A 20 MINUTOS, A UNA TEMPERATURA DE 150 A 240JC PARA ENDURECER LA PLANTILLA DE IMPRESION.

(01/11/1984). Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY, INC..

PERFECCIONAMIENTOS EN PLACAS DE CIRCUITOS IMPRESOS.CONSISTENTES EN QUE LA VIA CONDUCTIVA Y EL MATERIAL AISLANTE SE FORMAN SOMETIDNEO UN MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA A RADIACION ELECTROMAGNETICA, REVELANDO EL MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA PARA FORMAR LA VIA Y PARA PRODUCIR EL MATERIAL AISLANTE, DONDE EL MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA COMPRENDE UN CAUCHO ACRILATADO, O UNA RESINA EPOXI MODIFICADA CON CAUCHO ACRILATADO, UNA RESINA EPOXI ACRILATADA QUE TIENE UNA TEMPERATURA DE TRANSICION CRISTALINA DE 50JC Y UN MODIFICADOR DE LA VISCOSIDAD TAL COMO UN MONOMERO, CAPAZ DE REACCIONAR CON EL CAUCHO ACRILATADO BAJO LA INFLUENCIA DE LA RADIACION ELECTROMAGNETICA Y UN MODIFICADOR DE LA VISCOSIDAD.